JP2578579B2 - 露光装置 - Google Patents
露光装置Info
- Publication number
- JP2578579B2 JP2578579B2 JP15850494A JP15850494A JP2578579B2 JP 2578579 B2 JP2578579 B2 JP 2578579B2 JP 15850494 A JP15850494 A JP 15850494A JP 15850494 A JP15850494 A JP 15850494A JP 2578579 B2 JP2578579 B2 JP 2578579B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- wafer
- exposure
- mask
- light beam
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70716—Stages
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
- Details Of Measuring And Other Instruments (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造等に適した露
光装置に関する。
光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来この種の装置においては被加工物を
加工のために移動させる必要があるが、その移動形態の
自由度が低く操作性も悪かった。
加工のために移動させる必要があるが、その移動形態の
自由度が低く操作性も悪かった。
【０００３】特に半導体の超微細加工用として好適な縦
型のステージ機構が望まれていた。
型のステージ機構が望まれていた。
【０００４】本発明は上記要望に応え、高精度、小型化
が期待できる縦型のステージ機構を備えた露光装置を提
供することを目的とする。
が期待できる縦型のステージ機構を備えた露光装置を提
供することを目的とする。
【０００５】
【実施例】以下図に従って説明する。図１において、Ｍ
Ｆはメインフレームで前面と後面に不図示のカバーを有
し大地に固定的に配置され、内部空間を真空または特定
ガス充満状態にする。サブフレームＳＦはメインフレー
ムＭＦに天井からＭＦ１Ｒ，ＭＦ１Ｌにて懸架され、Ｍ
Ｆ２Ｒ，ＭＦ２Ｌにより下から振動及び横ずれ防止のた
めゴム材ＦＧＲ，ＦＧＬ等に軽く当接している。Ｙ２Ｍ
はサブフレームＳＦに固定されたシリンダ，モータ等で
成る電動機でそのロッドＹ２Ｇは縦方向移動用ステージ
Ｙ２Ｓの上面Ｙ２ＳＵに結合される。
Ｆはメインフレームで前面と後面に不図示のカバーを有
し大地に固定的に配置され、内部空間を真空または特定
ガス充満状態にする。サブフレームＳＦはメインフレー
ムＭＦに天井からＭＦ１Ｒ，ＭＦ１Ｌにて懸架され、Ｍ
Ｆ２Ｒ，ＭＦ２Ｌにより下から振動及び横ずれ防止のた
めゴム材ＦＧＲ，ＦＧＬ等に軽く当接している。Ｙ２Ｍ
はサブフレームＳＦに固定されたシリンダ，モータ等で
成る電動機でそのロッドＹ２Ｇは縦方向移動用ステージ
Ｙ２Ｓの上面Ｙ２ＳＵに結合される。
【０００６】ステージＹ２Ｓは上板２ＳＵ，下板Ｙ２Ｓ
Ｌ，前板Ｙ２ＳＦ等で構成され、一対の軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２
Ｌにより案内され、サブフレームＳＦ内を電動機Ｙ２Ｍ
の駆動によって上下に移動する。一対のＹ２ＡＵ，Ｙ２
ＡＬは軸Ｙ２Ｒの空気軸受、Ｙ２Ｋはその間を連結する
筒である。軸Ｙ２Ｌにも同様に設けられる。ステージＹ
２Ｓは軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌとこの空気軸受でガイドされ
る。この装置の空気軸受の周囲はラビリンスシール等で
外部の真空雰囲気とは隔離される。
Ｌ，前板Ｙ２ＳＦ等で構成され、一対の軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２
Ｌにより案内され、サブフレームＳＦ内を電動機Ｙ２Ｍ
の駆動によって上下に移動する。一対のＹ２ＡＵ，Ｙ２
ＡＬは軸Ｙ２Ｒの空気軸受、Ｙ２Ｋはその間を連結する
筒である。軸Ｙ２Ｌにも同様に設けられる。ステージＹ
２Ｓは軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌとこの空気軸受でガイドされ
る。この装置の空気軸受の周囲はラビリンスシール等で
外部の真空雰囲気とは隔離される。
【０００７】Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬはメインフレームＭＦ
に固定された定張力バネ機構、Ｙ２ＳＲ，Ｙ２ＳＬは定
張力バネ機構、Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬとステージＹ２Ｓと
を連結するスチール製ベルトで、バネ機構Ｙ２ＢＲ，Ｙ
２ＢＬにより常時巻上げられＹ２Ｓにかかる重量をバラ
ンスする重錘の代りをしこれによりステージＹ２Ｓの上
昇・下降時の電動機Ｙ２Ｍの過負荷を軽減している。
に固定された定張力バネ機構、Ｙ２ＳＲ，Ｙ２ＳＬは定
張力バネ機構、Ｙ２ＢＲ，Ｙ２ＢＬとステージＹ２Ｓと
を連結するスチール製ベルトで、バネ機構Ｙ２ＢＲ，Ｙ
２ＢＬにより常時巻上げられＹ２Ｓにかかる重量をバラ
ンスする重錘の代りをしこれによりステージＹ２Ｓの上
昇・下降時の電動機Ｙ２Ｍの過負荷を軽減している。
【０００８】Ｙ２ＬＲ，Ｙ２ＬＬは駆動軸Ｙ２Ｇに対し
て対称的に配置されたステージＹ２Ｓをロックするため
の支持用バーである。Ｙ２ＰＲ，Ｙ２ＰＬは圧電素子等
を含み、ステージＹ２Ｓの停止後にバーＹ２ＬＲ，Ｙ２
ＬＬを圧接し、ロックするための電気機械的ロック機構
である。これによりステージＹ２Ｓの上下方向の位置は
保持される。バーのくびれＹ２ＦＲ，Ｙ２ＦＬはロック
時の軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌに対するステージＹ２Ｓのずれを
弾性的に吸収する機能を有し、圧電素子等で弾性的ロッ
ク機構を構成する。
て対称的に配置されたステージＹ２Ｓをロックするため
の支持用バーである。Ｙ２ＰＲ，Ｙ２ＰＬは圧電素子等
を含み、ステージＹ２Ｓの停止後にバーＹ２ＬＲ，Ｙ２
ＬＬを圧接し、ロックするための電気機械的ロック機構
である。これによりステージＹ２Ｓの上下方向の位置は
保持される。バーのくびれＹ２ＦＲ，Ｙ２ＦＬはロック
時の軸Ｙ２Ｒ，Ｙ２Ｌに対するステージＹ２Ｓのずれを
弾性的に吸収する機能を有し、圧電素子等で弾性的ロッ
ク機構を構成する。
【０００９】ステージＹ２Ｓ内にはさらにステージＹ１
Ｓが搭載される。ステージＹ２Ｓの下板Ｙ２ＳＬにはス
テージＹ１Ｓの移動用の電動機Ｙ１Ｍ固定され、軸Ｙ１
Ｒ，Ｙ１Ｌ（不図示）上をロッドＹ１Ｇの上下動によっ
て上下（Ｙ）方向に移動する。Ｙ１ＡＲはＹ２ＡＵ同様
の空気軸受である。またステージＹ１Ｓに固定されたス
チールベルトＹ１ＳＲ，Ｙ１ＳＬを常時巻上げることに
よりＹ１Ｓにかかる荷重にバランスする重錘の代りをし
ステージＹ１Ｓの上昇・下降用電動機Ｙ１Ｍの小型化を
計っている。
Ｓが搭載される。ステージＹ２Ｓの下板Ｙ２ＳＬにはス
テージＹ１Ｓの移動用の電動機Ｙ１Ｍ固定され、軸Ｙ１
Ｒ，Ｙ１Ｌ（不図示）上をロッドＹ１Ｇの上下動によっ
て上下（Ｙ）方向に移動する。Ｙ１ＡＲはＹ２ＡＵ同様
の空気軸受である。またステージＹ１Ｓに固定されたス
チールベルトＹ１ＳＲ，Ｙ１ＳＬを常時巻上げることに
よりＹ１Ｓにかかる荷重にバランスする重錘の代りをし
ステージＹ１Ｓの上昇・下降用電動機Ｙ１Ｍの小型化を
計っている。
【００１０】Ｙ１ＰＣ，Ｙ１ＰＲ，Ｙ１ＰＬは先と同様
圧電素子によるロック機構でステージＹ２Ｓに対してス
テージＹ１Ｓをロックする。したがって、この状態でＹ
２Ｓを移動してもＹ１ＳはＹ２Ｓと一体で移動する。
圧電素子によるロック機構でステージＹ２Ｓに対してス
テージＹ１Ｓをロックする。したがって、この状態でＹ
２Ｓを移動してもＹ１ＳはＹ２Ｓと一体で移動する。
【００１１】ステージＹ１Ｓ内にはさらに水平（Ｘ）方
向に移動可能なステージＸＳが搭載され、ステージＹ１
Ｓの側部Ｙ１ＭにステージＸＳの移動用電動機ＸＭが固
定される。電動機ＸＭのロッドＸＧの左右動によって軸
ＸＬ，ＸＲ上をステージＸＳは移動する。ＦＬＸはロッ
ドＸＧとステージＸＳを弾性的に結合する機構で固定軸
ＸＬ，ＸＲに対するステージＸＳのずれを吸収する。Ｆ
ＬＹ１，ＦＬＹ２も同様である。ＸＡＵは軸ＸＬのため
の先と同様の空気軸受である。軸ＸＲにも同様に備えら
れる。また前述と同様の圧電素子及びくびれ付バーによ
るロック機構（不図示）も軸ＸＧに対向した位置に備え
られる。
向に移動可能なステージＸＳが搭載され、ステージＹ１
Ｓの側部Ｙ１ＭにステージＸＳの移動用電動機ＸＭが固
定される。電動機ＸＭのロッドＸＧの左右動によって軸
ＸＬ，ＸＲ上をステージＸＳは移動する。ＦＬＸはロッ
ドＸＧとステージＸＳを弾性的に結合する機構で固定軸
ＸＬ，ＸＲに対するステージＸＳのずれを吸収する。Ｆ
ＬＹ１，ＦＬＹ２も同様である。ＸＡＵは軸ＸＬのため
の先と同様の空気軸受である。軸ＸＲにも同様に備えら
れる。また前述と同様の圧電素子及びくびれ付バーによ
るロック機構（不図示）も軸ＸＧに対向した位置に備え
られる。
【００１２】ステージＸＳにはさらに回転及び回転軸方
向に移動可能なステージΘＺＳを搭載し、これは回路パ
ターン露光用のウエハＷＦを吸収する機能も有する。
向に移動可能なステージΘＺＳを搭載し、これは回路パ
ターン露光用のウエハＷＦを吸収する機能も有する。
【００１３】ウエハＷＦに対向した位置で、ステージＹ
２Ｓの前板Ｙ２ＳＦの内面に円環状の回転ステージΘＳ
が取り付けられ、この回転ステージΘＳには回路パター
ンが設けられたマスクＭＫが吸着される。
２Ｓの前板Ｙ２ＳＦの内面に円環状の回転ステージΘＳ
が取り付けられ、この回転ステージΘＳには回路パター
ンが設けられたマスクＭＫが吸着される。
【００１４】また前板Ｙ２ＳＦにはＸ線、電子線、イオ
ン線等の露光用光束ＥＸが入射できる開口部ＥＸＯが形
成され、さらにマスクＭＫ及び又はウエハＷＦの搬入出
用の開口部ＷＭＩＯが形成されている。サブフレームＳ
Ｆ，メインフレームＭＦにはステージＹ２Ｓが下端位置
に来たときに開口部ＷＭＩＯの対向位置にそれぞれ開口
部ＳＷＯ，ＭＷＯが形成されている。
ン線等の露光用光束ＥＸが入射できる開口部ＥＸＯが形
成され、さらにマスクＭＫ及び又はウエハＷＦの搬入出
用の開口部ＷＭＩＯが形成されている。サブフレームＳ
Ｆ，メインフレームＭＦにはステージＹ２Ｓが下端位置
に来たときに開口部ＷＭＩＯの対向位置にそれぞれ開口
部ＳＷＯ，ＭＷＯが形成されている。
【００１５】ＭＰＳはウエハＷＦのプリアライメントス
テージで、アライメントされたウエハＷＦは真空バッフ
ァ室、ハンド（いずれも不図示）等によりステージΘＺ
Ｓに吸着される。マスクも同様の手法でステージΘＳに
吸着される。
テージで、アライメントされたウエハＷＦは真空バッフ
ァ室、ハンド（いずれも不図示）等によりステージΘＺ
Ｓに吸着される。マスクも同様の手法でステージΘＳに
吸着される。
【００１６】次いでステージＹ２Ｓが所定の露光位置に
まで上昇され、必要とあらばその前にマスクとウエハの
ファインアライメントを行い、露光位置にて露光用平行
光束ＥＸにより順次露光される。このときステージＹ２
Ｓは定速で露光範囲を上昇または下降するのでマスクと
ウエハは一体的に運動し、結果として平行光束ＥＸで走
査露光される。露光が終了するとステージＹ２Ｓは下端
まで下降し、ウエハ及びマスクの変換を行う。このよう
にステージＹ２Ｓはマスク及び又はウエハの搬送機能と
例えば露光時の定速送り機能を兼ねるので好ましい。
まで上昇され、必要とあらばその前にマスクとウエハの
ファインアライメントを行い、露光位置にて露光用平行
光束ＥＸにより順次露光される。このときステージＹ２
Ｓは定速で露光範囲を上昇または下降するのでマスクと
ウエハは一体的に運動し、結果として平行光束ＥＸで走
査露光される。露光が終了するとステージＹ２Ｓは下端
まで下降し、ウエハ及びマスクの変換を行う。このよう
にステージＹ２Ｓはマスク及び又はウエハの搬送機能と
例えば露光時の定速送り機能を兼ねるので好ましい。
【００１７】またステージＹ２Ｓの移動時にステージＹ
１Ｓをロック機構Ｙ１ＰＣによりＹ方向にロックし、ま
たステージＸＳも圧電素子等の電気機械的ロック機構Ｘ
ＰによりＸ方向にロックし、さらにはステージΘＺＳ及
び又はステージΘＳも不図示のサーボロック機構により
各々の移動方向にロックする。これにより各ステージが
互いに干渉し合うことなく独立に確実に移動でき好まし
い。
１Ｓをロック機構Ｙ１ＰＣによりＹ方向にロックし、ま
たステージＸＳも圧電素子等の電気機械的ロック機構Ｘ
ＰによりＸ方向にロックし、さらにはステージΘＺＳ及
び又はステージΘＳも不図示のサーボロック機構により
各々の移動方向にロックする。これにより各ステージが
互いに干渉し合うことなく独立に確実に移動でき好まし
い。
【００１８】またＹ２Ｓ移動時Ｙ１ＳＬ，Ｙ１ＳＲをＹ
１ＰＬ，Ｙ１ＰＲによりロックすることにより定張力バ
ネＹ１ＢＬ，Ｙ１ＢＲの定張力バネの張力変動がＹ２Ｓ
のみに作用し、Ｙ１Ｓにまで伝わらないのでＹ１ＳとＹ
２Ｓの位置関係が維持でき好ましい。
１ＰＬ，Ｙ１ＰＲによりロックすることにより定張力バ
ネＹ１ＢＬ，Ｙ１ＢＲの定張力バネの張力変動がＹ２Ｓ
のみに作用し、Ｙ１Ｓにまで伝わらないのでＹ１ＳとＹ
２Ｓの位置関係が維持でき好ましい。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明の露光装置によれ
ば、確実、安定的な動作機構による高精度位置決め、高
速化、小型化等が計れるものである。
ば、確実、安定的な動作機構による高精度位置決め、高
速化、小型化等が計れるものである。
【図１】本発明の実施例の構成図である。
【符号の説明】 ΘＳ，ΘＺＳ，ＸＳ，Ｙ１Ｓ，Ｙ２Ｓ ステージ Ｙ１ＢＲ，Ｙ２ＢＲ，Ｙ１ＢＬ，Ｙ２ＢＬ 定張力バネ
機構 Ｙ１Ｍ，Ｙ２Ｍ，ＸＭ 電動機 Ｙ１ＰＲ，Ｙ１ＰＬ，Ｙ２ＰＲ，Ｙ２ＰＬ，Ｙ１ＰＣ
ロック機構 ＸＡＵ，Ｙ１ＡＲ，Ｙ２ＡＵ，Ｙ２ＡＬ 空気軸受 ＭＫ マスク ＷＦ ウエハ
機構 Ｙ１Ｍ，Ｙ２Ｍ，ＸＭ 電動機 Ｙ１ＰＲ，Ｙ１ＰＬ，Ｙ２ＰＲ，Ｙ２ＰＬ，Ｙ１ＰＣ
ロック機構 ＸＡＵ，Ｙ１ＡＲ，Ｙ２ＡＵ，Ｙ２ＡＬ 空気軸受 ＭＫ マスク ＷＦ ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河合 靖雄 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 肥後村 誠 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (72)発明者 刈谷 卓夫 東京都大田区下丸子３丁目30番２号キヤ ノン株式会社内 (56)参考文献 特開 昭62−76644（ＪＰ，Ａ)
Claims (3)
- 【請求項１】 内部にウエハ露光部を有するフレーム
と、該フレームに設けられたウエハ搬入部と、該ウエハ
搬入部とウエハ露光部との間で移動可能な移動ステージ
と、該移動ステージに搭載され鉛直成分を含む面内でウ
エハを保持するウエハステージと、マスクを保持するマ
スクステージと、実質的に水平方向から導入される露光
光束に対して該移動ステージを定速で移動させる手段を
有し、マスクならびにウエハを同時に定速で走査しなが
ら走査露光を行うことを特徴とする露光装置。 - 【請求項２】 前記露光光束は平行光束であることを特
徴とする請求項１記載の露光装置。 - 【請求項３】 前記露光光束はＸ線であることを特徴と
する請求項１記載の露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15850494A JP2578579B2 (ja) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | 露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15850494A JP2578579B2 (ja) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | 露光装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61287069A Division JPH07117590B2 (ja) | 1986-12-01 | 1986-12-02 | ステージ機構 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0758010A JPH0758010A (ja) | 1995-03-03 |
| JP2578579B2 true JP2578579B2 (ja) | 1997-02-05 |
Family
ID=15673185
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15850494A Expired - Fee Related JP2578579B2 (ja) | 1994-07-11 | 1994-07-11 | 露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2578579B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006179751A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Nsk Ltd | 駆動装置 |
| JP4835902B2 (ja) * | 2004-12-28 | 2011-12-14 | 日本精工株式会社 | 駆動装置 |
| JP2006186161A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Nsk Ltd | 駆動装置 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS55127020A (en) * | 1979-03-26 | 1980-10-01 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | X-ray exposure device |
| JPS59188123A (ja) * | 1983-04-08 | 1984-10-25 | Nec Corp | Ｘ線露光装置 |
| JPS6276644A (ja) * | 1985-09-30 | 1987-04-08 | Toshiba Corp | 露光装置の縦型移動テーブル装置 |
-
1994
- 1994-07-11 JP JP15850494A patent/JP2578579B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0758010A (ja) | 1995-03-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6953109B2 (en) | Vibration isolator with low lateral stiffness | |
| US6493062B2 (en) | Driving apparatus and exposure apparatus | |
| JP5004052B2 (ja) | イオンビームの中を通過してワークピースを往復移動させるための方法 | |
| JP3640971B2 (ja) | 重心移動を補償するフォースアクチュエータ装置を有する位置決め装置 | |
| US5959427A (en) | Method and apparatus for compensating for reaction forces in a stage assembly | |
| JP4784872B2 (ja) | ワークピースをスキャンするための往復駆動装置 | |
| US20020012108A1 (en) | Anti-vibration system for exposure apparatus | |
| WO1999053217A1 (fr) | Systeme d'elimination des vibrations et d'exposition | |
| JP2004063653A (ja) | 防振装置、ステージ装置及び露光装置 | |
| US7383929B2 (en) | Anti-vibration technique | |
| US6522388B1 (en) | Vibration eliminator, exposure apparatus and projection exposure method | |
| JP3720680B2 (ja) | ステージ装置、露光装置およびデバイス製造方法 | |
| US6731372B2 (en) | Multiple chamber fluid mount | |
| US20070236854A1 (en) | Anti-Gravity Device for Supporting Weight and Reducing Transmissibility | |
| JP2578579B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2500258B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2500260B2 (ja) | 露光装置 | |
| JP2500259B2 (ja) | 露光装置 | |
| US7075623B2 (en) | Flexure-supported split reaction mass | |
| JPH0758007A (ja) | 露光装置 | |
| JP2578579C (ja) | ||
| JPH07117590B2 (ja) | ステージ機構 | |
| JPH0973872A (ja) | 荷電粒子ビーム装置 | |
| JPH11195578A (ja) | 定盤支持装置および露光装置 | |
| JPH0697051B2 (ja) | 流体軸受用の流体流通機構 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |