JPH0342610Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0342610Y2 JPH0342610Y2 JP1984027870U JP2787084U JPH0342610Y2 JP H0342610 Y2 JPH0342610 Y2 JP H0342610Y2 JP 1984027870 U JP1984027870 U JP 1984027870U JP 2787084 U JP2787084 U JP 2787084U JP H0342610 Y2 JPH0342610 Y2 JP H0342610Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aperture
- mass spectrometer
- section
- aperture plates
- ion source
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 claims description 20
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 claims description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は大気圧イオン化（API）イオン源等、
圧力の高い領域でイオン化を行うイオン源を備え
た質量分析装置に関する。
圧力の高い領域でイオン化を行うイオン源を備え
た質量分析装置に関する。
APIイオン源を備えた質量分析装置において
は、大気圧のイオン源で出来たイオンを高真空の
質量分析装置内部に導入する必要があり、従来例
えば第１図ａに示すように両者の間にアパーチヤ
板を配置する構成が知られている。図において１
はAPIイオン源、２は該APIイオン源で生成され
たイオンを質量分析する四重極質量分析装置、
３，４はAPIイオン源１と四重極質量分析装置２
との間に配置されたアパーチヤ板で、特にアパー
チヤ板４は大気側から流入するガスや不要な溶媒
を減少させるためのスキマーとして用いられてい
る。又、上記四重極質量分析装置２内は真空ポン
プ５によつて、又、アパーチヤ板３，４で挟まれ
た領域も真空ポンプ６によつて夫々排気されてい
る。
は、大気圧のイオン源で出来たイオンを高真空の
質量分析装置内部に導入する必要があり、従来例
えば第１図ａに示すように両者の間にアパーチヤ
板を配置する構成が知られている。図において１
はAPIイオン源、２は該APIイオン源で生成され
たイオンを質量分析する四重極質量分析装置、
３，４はAPIイオン源１と四重極質量分析装置２
との間に配置されたアパーチヤ板で、特にアパー
チヤ板４は大気側から流入するガスや不要な溶媒
を減少させるためのスキマーとして用いられてい
る。又、上記四重極質量分析装置２内は真空ポン
プ５によつて、又、アパーチヤ板３，４で挟まれ
た領域も真空ポンプ６によつて夫々排気されてい
る。
このような質量分析装置において、APIイオン
源で生成されたイオンを効率良く質量分析装置内
へ導入して感度を向上させるためには、アパーチ
ヤ板に開けるアパーチヤの径は出来る限り大きく
しなければならない。しかしながら、アパーチヤ
の径を大きくすることには圧力差に応じた限界が
ある。そこで、第１図ｂに示すようにアパーチヤ
板７を追加して３枚とし、アパーチヤ板７と４で
挾まれた領域を真空ポンプ８によつて排気するこ
とにより、アパーチヤ板１枚あたり維持しなけれ
ばならない圧力差を少なくしてアパーチヤの径を
大きくすることが検討されている。ところが、ア
パーチヤ板の枚数が３枚に増えた場合、３つのア
パーチヤの位置がずれていると、その分イオンの
ロスが大きくなり、アパーチヤの径を大きくした
意味がなくなつてしまう。そのため、３つのアパ
ーチヤを軸を合わせて配列し、しかも四重極質量
分析装置の軸とも合わせなければならないが、そ
の作業は、各アパーチヤ板を独立に動かして調整
しなければならず、アパーチヤ板の枚数が増すに
従つて格段にむずかしくなる。尚、工作精度が極
めて高ければこのような軸合わせを省略すること
も可能であるが、アパーチヤの径は100μｍオー
ダであるので、工作精度の上限が50μｍ程度の現
状では、発生するずれを無視することはできな
い。
源で生成されたイオンを効率良く質量分析装置内
へ導入して感度を向上させるためには、アパーチ
ヤ板に開けるアパーチヤの径は出来る限り大きく
しなければならない。しかしながら、アパーチヤ
の径を大きくすることには圧力差に応じた限界が
ある。そこで、第１図ｂに示すようにアパーチヤ
板７を追加して３枚とし、アパーチヤ板７と４で
挾まれた領域を真空ポンプ８によつて排気するこ
とにより、アパーチヤ板１枚あたり維持しなけれ
ばならない圧力差を少なくしてアパーチヤの径を
大きくすることが検討されている。ところが、ア
パーチヤ板の枚数が３枚に増えた場合、３つのア
パーチヤの位置がずれていると、その分イオンの
ロスが大きくなり、アパーチヤの径を大きくした
意味がなくなつてしまう。そのため、３つのアパ
ーチヤを軸を合わせて配列し、しかも四重極質量
分析装置の軸とも合わせなければならないが、そ
の作業は、各アパーチヤ板を独立に動かして調整
しなければならず、アパーチヤ板の枚数が増すに
従つて格段にむずかしくなる。尚、工作精度が極
めて高ければこのような軸合わせを省略すること
も可能であるが、アパーチヤの径は100μｍオー
ダであるので、工作精度の上限が50μｍ程度の現
状では、発生するずれを無視することはできな
い。
本考案はこの点に鑑みてなされたもので、簡単
な構成で容易に軸合わせを行うことのできる質量
分析装置を提供することを目的としている。
な構成で容易に軸合わせを行うことのできる質量
分析装置を提供することを目的としている。
本考案の質量分析装置は、大気圧領域の圧力の
高いイオン化部と、該イオン化部で生成されたイ
オンを導入して分析する高真空の質量分析部と、
上記イオン化部と上記質量分析部との間に間隔を
おき軸を合わせて配列された少なくとも３枚のア
パーチヤ板と、該アパーチヤ板で挟まれた領域を
排気する手段とを備え、前記アパーチヤ板を単一
のフランジに取付けて一体で取外し出来るように
したことを特徴としている。以下、図面を用いて
本考案を詳述する。
高いイオン化部と、該イオン化部で生成されたイ
オンを導入して分析する高真空の質量分析部と、
上記イオン化部と上記質量分析部との間に間隔を
おき軸を合わせて配列された少なくとも３枚のア
パーチヤ板と、該アパーチヤ板で挟まれた領域を
排気する手段とを備え、前記アパーチヤ板を単一
のフランジに取付けて一体で取外し出来るように
したことを特徴としている。以下、図面を用いて
本考案を詳述する。
第２図は本考案を実施した質量分析装置の一例
を示す断面図である。第２図においてAPIイオン
源１はガラス製の筒体１１，コロナ放電により励
起されたキヤリアガス原子又はイオンを作成する
コロナ放電部１２，励起されたキヤリアガス原子
又はイオンの流れの中に試料を配置し、試料をイ
オン化するための試料保持針１３から成り、該針
１３の先端で生成された試料イオンは、アパーチ
ヤ板３，４，７を介して四重極１４，レンズ電極
１５，真空容器１６等から成る四重極質量分析装
置２内へ導入される。上記アパーチヤ板３，４，
７は、上記真空容器１６の端部を封止する絶縁物
製のフランジ１７に固定されており、アパーチヤ
板３とアパーチヤ板４とで挾まれた領域１８は排
気管１９を介して、またアパーチヤ板４とアパー
チヤ板７で挾まれた領域２０は排気管２１を介し
て、夫々ロータリポンプ（図示せず）に接続され
ている。２２はイオンを偏向して補助的に軸合わ
せを行うための偏向電極で、やはりフランジ１７
に取付けられている。
を示す断面図である。第２図においてAPIイオン
源１はガラス製の筒体１１，コロナ放電により励
起されたキヤリアガス原子又はイオンを作成する
コロナ放電部１２，励起されたキヤリアガス原子
又はイオンの流れの中に試料を配置し、試料をイ
オン化するための試料保持針１３から成り、該針
１３の先端で生成された試料イオンは、アパーチ
ヤ板３，４，７を介して四重極１４，レンズ電極
１５，真空容器１６等から成る四重極質量分析装
置２内へ導入される。上記アパーチヤ板３，４，
７は、上記真空容器１６の端部を封止する絶縁物
製のフランジ１７に固定されており、アパーチヤ
板３とアパーチヤ板４とで挾まれた領域１８は排
気管１９を介して、またアパーチヤ板４とアパー
チヤ板７で挾まれた領域２０は排気管２１を介し
て、夫々ロータリポンプ（図示せず）に接続され
ている。２２はイオンを偏向して補助的に軸合わ
せを行うための偏向電極で、やはりフランジ１７
に取付けられている。
かかる構成となせば、単一のフランジ１７にア
パーチヤ板３，４，７が取付けられるため、装置
の製造過程で大気中においてフランジに３枚のア
パーチヤ板を取付ける際、例えば光の直進性を利
用して軸合わせを予め精度良く行うことができ、
装置完成後は、そのようにして精度良く軸合わせ
されてアパーチヤ板が取付けられたフランジ１７
を四重極の軸に対して調整するだけで良く、装置
完成後アパーチヤ板を独立に調整しなければなら
なかつた従来に比べれば作業は極めて容易とな
る。尚、フランジ１７と四重極との軸合わせ精度
は工作精度で十分カバーされるので、微調整がで
きる程度で良い。
パーチヤ板３，４，７が取付けられるため、装置
の製造過程で大気中においてフランジに３枚のア
パーチヤ板を取付ける際、例えば光の直進性を利
用して軸合わせを予め精度良く行うことができ、
装置完成後は、そのようにして精度良く軸合わせ
されてアパーチヤ板が取付けられたフランジ１７
を四重極の軸に対して調整するだけで良く、装置
完成後アパーチヤ板を独立に調整しなければなら
なかつた従来に比べれば作業は極めて容易とな
る。尚、フランジ１７と四重極との軸合わせ精度
は工作精度で十分カバーされるので、微調整がで
きる程度で良い。
第１図は従来例の構造を説明するための断面
図、第２図は本考案を実施した質量分析装置の一
例を示す断面図である。 １：APIイオン源、２：四重極質量分析装置、
３，４，７：アパーチヤ板、１７：フランジ、１
９，２１：排気管。
図、第２図は本考案を実施した質量分析装置の一
例を示す断面図である。 １：APIイオン源、２：四重極質量分析装置、
３，４，７：アパーチヤ板、１７：フランジ、１
９，２１：排気管。
Claims (1)
- 大気圧領域の圧力の高いイオン化部と、該イオ
ン化部で生成されたイオンを導入して分析する高
真空の質量分析部と、上記イオン化部と上記質量
分析部との間に間隔をおき軸を合わせて配列され
た少なくとも３枚のアパーチヤ板と、該アパーチ
ヤ板で挟まれた領域を排気する手段とを備え、前
記アパーチヤ板を単一のフランジに取付けて一体
で取外し出来るようにしたことを特徴とする質量
分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2787084U JPS60140355U (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2787084U JPS60140355U (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60140355U JPS60140355U (ja) | 1985-09-17 |
| JPH0342610Y2 true JPH0342610Y2 (ja) | 1991-09-06 |
Family
ID=30525222
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2787084U Granted JPS60140355U (ja) | 1984-02-28 | 1984-02-28 | 質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60140355U (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5550563A (en) * | 1978-10-07 | 1980-04-12 | Ulvac Corp | Mass analyzer |
| JPS5623273A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-05 | Takara Belmont Co Ltd | Sieve for scattering glaze |
-
1984
- 1984-02-28 JP JP2787084U patent/JPS60140355U/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5550563A (en) * | 1978-10-07 | 1980-04-12 | Ulvac Corp | Mass analyzer |
| JPS5623273A (en) * | 1979-07-31 | 1981-03-05 | Takara Belmont Co Ltd | Sieve for scattering glaze |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60140355U (ja) | 1985-09-17 |
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