JPH0384717A - 薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
- Publication number
- JPH0384717A JPH0384717A JP22209989A JP22209989A JPH0384717A JP H0384717 A JPH0384717 A JP H0384717A JP 22209989 A JP22209989 A JP 22209989A JP 22209989 A JP22209989 A JP 22209989A JP H0384717 A JPH0384717 A JP H0384717A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sliding surface
- grinding depth
- polishing
- grinding
- depth
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims 2
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 claims abstract description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 55
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 15
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 abstract 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 241000219112 Cucumis Species 0.000 description 1
- 235000015510 Cucumis melo subsp melo Nutrition 0.000 description 1
- FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N [4,6-bis(cyanoamino)-1,3,5-triazin-2-yl]cyanamide Chemical compound N#CNC1=NC(NC#N)=NC(NC#N)=N1 FJJCIZWZNKZHII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
り皇上空机且立夏
この発明は、マルチトラックの薄膜磁気ヘッドである磁
気抵抗効果ヘッドの記録媒体との接触摺動面形成に関す
る技術である。
気抵抗効果ヘッドの記録媒体との接触摺動面形成に関す
る技術である。
鉋束ユ皮直
従来の技術を第３図を参照しながら説明する。
薄膜基板１にスパッタリング等及びフォトリングラフィ
技術により磁気抵抗効果素子２及びそのリード部４が形
成される。これらの磁気抵抗効果素子２の両端には摺動
面までの研摩深さモニタ素子３とそのリード部５が、磁
気抵抗効果素子とともに形成される。
技術により磁気抵抗効果素子２及びそのリード部４が形
成される。これらの磁気抵抗効果素子２の両端には摺動
面までの研摩深さモニタ素子３とそのリード部５が、磁
気抵抗効果素子とともに形成される。
摺動面までの研摩深さを加工する場合、摺動面までの研
摩深さモニタ素子の抵抗値により目標の摺動面までの研
摩深さ、すなわち図中の一点鎖線６まで研摩加工を行い
、最終摺動面までの研摩深さを得ていた。
摩深さモニタ素子の抵抗値により目標の摺動面までの研
摩深さ、すなわち図中の一点鎖線６まで研摩加工を行い
、最終摺動面までの研摩深さを得ていた。
ところで、上記の従来の摺動面までの研摩深さモニタ素
子３の抵抗値の変化により目標の摺動面までの研摩深さ
を得るやり方は、あらかじめ摺動面までの研摩深きモニ
タ素子３が目標の摺動面までの研摩深さまで研摩された
時の抵抗値を計算で求め、その計算値と摺動面までの研
摩深さモニタ素子３の抵抗値を比較しながら研摩加工を
行う。
子３の抵抗値の変化により目標の摺動面までの研摩深さ
を得るやり方は、あらかじめ摺動面までの研摩深きモニ
タ素子３が目標の摺動面までの研摩深さまで研摩された
時の抵抗値を計算で求め、その計算値と摺動面までの研
摩深さモニタ素子３の抵抗値を比較しながら研摩加工を
行う。
しかし、成膜工程で摺動面までの研摩深きモニタ素子２
の膜厚が目標と異なった場合、前述のように摺動面まで
の研摩深きモニタ素子３の抵抗値と計算価を比較しなが
ら研摩加工しても、目標の摺動面までの研摩深さとは輿
なった摺動面までの研摩深さの時に計算値と摺動面まで
の研摩深さモニタ素子３の抵抗が等しくなるため、正確
な摺動面までの研摩深さが得られないという問題があっ
た。
の膜厚が目標と異なった場合、前述のように摺動面まで
の研摩深きモニタ素子３の抵抗値と計算価を比較しなが
ら研摩加工しても、目標の摺動面までの研摩深さとは輿
なった摺動面までの研摩深さの時に計算値と摺動面まで
の研摩深さモニタ素子３の抵抗が等しくなるため、正確
な摺動面までの研摩深さが得られないという問題があっ
た。
・ 、 、の−
この発明の薄膜磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子の各ト
ラックと同様の成膜パターンで、トラックの研摩仕上げ
後の目標の摺動面までの研摩深さをもつようにあらかじ
め成膜工程で形成し、かつ研摩仕上げで、研摩除去され
ないよう配置し、インピーダンス検出可能な摺動面まで
の研摩深さモニタ素子を設けたことを特徴とするマルチ
トラック薄膜磁気ヘッドである。つまり、この発明のヘ
ッドは、既設の摺動面までの研摩深さモニタ素子のイン
ピーダンス値と各トラックの磁気抵抗効果素子のインピ
ーダンス値を比較し、摺動面までの研摩深きになるまで
研摩加工する。
ラックと同様の成膜パターンで、トラックの研摩仕上げ
後の目標の摺動面までの研摩深さをもつようにあらかじ
め成膜工程で形成し、かつ研摩仕上げで、研摩除去され
ないよう配置し、インピーダンス検出可能な摺動面まで
の研摩深さモニタ素子を設けたことを特徴とするマルチ
トラック薄膜磁気ヘッドである。つまり、この発明のヘ
ッドは、既設の摺動面までの研摩深さモニタ素子のイン
ピーダンス値と各トラックの磁気抵抗効果素子のインピ
ーダンス値を比較し、摺動面までの研摩深きになるまで
研摩加工する。
血且
上記のようなモニタ素子と磁気抵抗効果素子のインピー
ダンス値の比較により、摺動面までの研摩深さ加工を行
えば、成膜工程での膜厚が異なっていても正確に目標の
摺動面までの研摩深さを得ることは容易である。
ダンス値の比較により、摺動面までの研摩深さ加工を行
えば、成膜工程での膜厚が異なっていても正確に目標の
摺動面までの研摩深さを得ることは容易である。
災胤鼓
以下、この発明について図面を参照して説明する。第１
図はこの発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドの磁気抵抗効
果素子のパターンと摺動面までの研摩深さモニタ素子の
パターンの平面図である。
図はこの発明の一実施例の薄膜磁気ヘッドの磁気抵抗効
果素子のパターンと摺動面までの研摩深さモニタ素子の
パターンの平面図である。
図において、１は非磁性体の薄膜基板、２は磁気抵抗効
果素子、３は磁気抵抗効果素子と同様に成膜され、つま
りｉ気抵抗効果素子２と同様なスパッタリング法によっ
て、成膜しさらに通電した時のインピーダンスが、磁気
抵抗効果素子２の研摩加工終了後のインピーダンスと等
しくなるように、パターンをエツチング加工して得られ
、多数の磁気抵抗効果素子の両端近傍に、摺動面までの
研摩深さ寸法位置よりも深い位置に設けられた摺動面ま
での研摩深さモニタ素子、４は磁気抵抗効果素子とフレ
キシブルリードワイヤーを接続する導体リード部、５は
摺動面までの研摩深さモニタ素子とフレキシブルリード
ワイヤーを接続する導体リード部、６は目標の摺動面ま
での研摩深さ予定線である。
果素子、３は磁気抵抗効果素子と同様に成膜され、つま
りｉ気抵抗効果素子２と同様なスパッタリング法によっ
て、成膜しさらに通電した時のインピーダンスが、磁気
抵抗効果素子２の研摩加工終了後のインピーダンスと等
しくなるように、パターンをエツチング加工して得られ
、多数の磁気抵抗効果素子の両端近傍に、摺動面までの
研摩深さ寸法位置よりも深い位置に設けられた摺動面ま
での研摩深さモニタ素子、４は磁気抵抗効果素子とフレ
キシブルリードワイヤーを接続する導体リード部、５は
摺動面までの研摩深さモニタ素子とフレキシブルリード
ワイヤーを接続する導体リード部、６は目標の摺動面ま
での研摩深さ予定線である。
薄膜基板１上にフォトリングラフィ技術で磁気抵抗効果
素子を磁気抵抗効果パターン及び摺動面までの研摩深さ
モニタ素子パターンに同時に成膜し、各リード部はＡｕ
等が成膜される。ここで摺動面までの研摩深さモニタ素
子は、目標摺動面までの研摩深さより下側、すなわち摺
動面までの研摩深さより深く加工されない領域に配置さ
れる。
素子を磁気抵抗効果パターン及び摺動面までの研摩深さ
モニタ素子パターンに同時に成膜し、各リード部はＡｕ
等が成膜される。ここで摺動面までの研摩深さモニタ素
子は、目標摺動面までの研摩深さより下側、すなわち摺
動面までの研摩深さより深く加工されない領域に配置さ
れる。
次に摺動面までの研摩深さ加工を摺動面までの研摩深き
モニタ素子のインピーダンス値と各トラックの磁気抵抗
効果素子のインピーダンス値を比較しながら行うが、摺
動面までの研摩深さモニタ素子は目標の摺動面までの研
摩深さをもち、各トラックの磁気抵抗効果素子と同じ膜
厚であるので、摺動面求での研摩深さモニタ素子の抵抗
値は、各トラックの目標の摺動面までの研摩深さまで加
工したときの磁気抵抗効果素子のインピーダンス値と等
しいことは明らかであるため、摺動面までの研摩深さモ
ニタ素子のインピーダンス値と磁気抵抗効果素子の摺動
面までの研摩深さ加工で変化するインピーダンス値が等
しくなるまで摺動面までの研摩深さ加工を行えば成膜状
態の偏差に関係なく目標の摺動面までの研摩深さが容易
に得られる。
モニタ素子のインピーダンス値と各トラックの磁気抵抗
効果素子のインピーダンス値を比較しながら行うが、摺
動面までの研摩深さモニタ素子は目標の摺動面までの研
摩深さをもち、各トラックの磁気抵抗効果素子と同じ膜
厚であるので、摺動面求での研摩深さモニタ素子の抵抗
値は、各トラックの目標の摺動面までの研摩深さまで加
工したときの磁気抵抗効果素子のインピーダンス値と等
しいことは明らかであるため、摺動面までの研摩深さモ
ニタ素子のインピーダンス値と磁気抵抗効果素子の摺動
面までの研摩深さ加工で変化するインピーダンス値が等
しくなるまで摺動面までの研摩深さ加工を行えば成膜状
態の偏差に関係なく目標の摺動面までの研摩深さが容易
に得られる。
金粧ユ剋鼓
以上説明したように、この発明は摺動面までの研摩深さ
モニタ素子に目標の摺動面までの研摩深さをもたせ、既
摺動面までの研摩深さモニタ素子は深さ加工において研
摩加工されることのない位置に配置し、そのインピーダ
ンス値とトラックの磁気抵抗効果素子のインピーダンス
値を比較し研摩加工を行うことにより、成膜におけるヘ
ッド毎の膜厚の偏差があっても正確に目標の摺動面まで
の研摩深さを得ることができる。
モニタ素子に目標の摺動面までの研摩深さをもたせ、既
摺動面までの研摩深さモニタ素子は深さ加工において研
摩加工されることのない位置に配置し、そのインピーダ
ンス値とトラックの磁気抵抗効果素子のインピーダンス
値を比較し研摩加工を行うことにより、成膜におけるヘ
ッド毎の膜厚の偏差があっても正確に目標の摺動面まで
の研摩深さを得ることができる。
第１図はこの発明の薄膜磁気ヘッドの平面図、第２図は
第１図Ａ部の拡大図、第３図は従来の薄膜磁気ヘッドの
平面図である。 １・・・・・・薄膜基板、 ２・・・・・・磁気抵抗効果素子、 ３・・・・・・摺動面までの研摩深さモニタ素子、４．
５・・・・・・リード、 ６・・・・・・目標摺動面までの研摩深さ予定線、ａ・
・・・・・目標摺動面までの研摩深さ。 第 図 １−・・簿薫墓坂 ２・−徴気瓜坑勤果恵与 ３−煮でモニタ素子 ４・−リード ５−−−リード ６−＠稀番□□□予定珠
第１図Ａ部の拡大図、第３図は従来の薄膜磁気ヘッドの
平面図である。 １・・・・・・薄膜基板、 ２・・・・・・磁気抵抗効果素子、 ３・・・・・・摺動面までの研摩深さモニタ素子、４．
５・・・・・・リード、 ６・・・・・・目標摺動面までの研摩深さ予定線、ａ・
・・・・・目標摺動面までの研摩深さ。 第 図 １−・・簿薫墓坂 ２・−徴気瓜坑勤果恵与 ３−煮でモニタ素子 ４・−リード ５−−−リード ６−＠稀番□□□予定珠
Claims (1)
- 磁気抵抗効果素子パターンを多数形成し、その薄膜素子
パターンの媒体摺動面形成予定面を研摩して、記録媒体
との接触摺動面を形成するマルチトラック薄膜磁気ヘッ
ドにおいて、各トラックと同時に成膜し、かつトラック
の研摩仕上げ後の目標の摺動面までの研摩深さをもつよ
うにあらかじめ形成したインピーダンス検出可能な摺動
面までの研摩深さモニタ素子を研摩仕上げで研摩されな
いよう配置し、既モニタ素子のインピーダンス値とトラ
ックのインピーダンス値を比較し摺動面までの研摩深さ
加工を行うことを特徴とした薄膜磁気ヘッドの製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22209989A JPH0384717A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22209989A JPH0384717A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0384717A true JPH0384717A (ja) | 1991-04-10 |
Family
ID=16777122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22209989A Pending JPH0384717A (ja) | 1989-08-29 | 1989-08-29 | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0384717A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4875709B2 (ja) * | 2005-11-08 | 2012-02-15 | グラフィック パッケージング インターナショナル インコーポレイテッド | 強化取っ手付きカートン |
| US8479973B2 (en) | 2011-01-07 | 2013-07-09 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with handle |
| US8950657B2 (en) | 2010-11-01 | 2015-02-10 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with handle |
| US9636882B2 (en) | 2014-08-19 | 2017-05-02 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with reinforced handle |
-
1989
- 1989-08-29 JP JP22209989A patent/JPH0384717A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4875709B2 (ja) * | 2005-11-08 | 2012-02-15 | グラフィック パッケージング インターナショナル インコーポレイテッド | 強化取っ手付きカートン |
| US8602292B2 (en) | 2005-11-08 | 2013-12-10 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with reinforced handle |
| US8950657B2 (en) | 2010-11-01 | 2015-02-10 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with handle |
| US8479973B2 (en) | 2011-01-07 | 2013-07-09 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with handle |
| US9636882B2 (en) | 2014-08-19 | 2017-05-02 | Graphic Packaging International, Inc. | Carton with reinforced handle |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6496334B1 (en) | Data storage and retrieval apparatus with thin film read head having planarized extra gap and shield layers and method of fabrication thereof | |
| US5779923A (en) | Simplified method of making merged MR head | |
| US6269533B2 (en) | Method of making a patterned magnetic recording head | |
| JP3650051B2 (ja) | 加工モニタ素子、並びに磁気変換素子および加工モニタ素子の集合体、並びに磁気変換素子の製造方法 | |
| US5913550A (en) | Method for fabricating magnetic head | |
| US6330488B1 (en) | Method for controlling machining process of workpiece | |
| CN1226988A (zh) | 制造多层磁头的方法 | |
| US20020001671A1 (en) | Method of manufacturing lapping control sensor for magnetoresistive effect head | |
| US5056353A (en) | Marker for detecting amount of working and process for producing thin film magnetic head | |
| JPH0384717A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| US6563669B1 (en) | Inverted write head with high-precision track width definition | |
| JP2996562B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61151818A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPH10172115A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JP2988051B2 (ja) | 薄膜磁気ヘッドのギャップ形成方法 | |
| JPS61182618A (ja) | 薄膜磁気ヘツドのギヤツプ深さ検出法 | |
| JP2000182219A (ja) | 磁気抵抗効果素子を有する基板及びその製造方法、ならびに磁気抵抗効果素子を有する基板の加工方法 | |
| JPS60177416A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH07134811A (ja) | 磁気抵抗ヘッド素子ウェハ及び複合磁気ヘッド素子ウェハ | |
| JPS58177517A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH0229913A (ja) | 加工量検知用マーカー及び該マーカーを用いた薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS62229510A (ja) | 薄膜磁気ヘツド | |
| JPS61289516A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 | |
| JPH03125309A (ja) | 薄膜型磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61227211A (ja) | 薄膜磁気ヘツドの製造方法 |