JPH0383853A - ムライト系焼結体及びその製造方法 - Google Patents
ムライト系焼結体及びその製造方法Info
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- JPH0383853A JPH0383853A JP1219944A JP21994489A JPH0383853A JP H0383853 A JPH0383853 A JP H0383853A JP 1219944 A JP1219944 A JP 1219944A JP 21994489 A JP21994489 A JP 21994489A JP H0383853 A JPH0383853 A JP H0383853A
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Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[a業上の利用分野]
本発明はムライト系焼結体及びその製造方法に係り、特
に高温強度等の特性に優れ、しかも安価に提供されるム
ライト系焼結体及びその製造方法に関する。
に高温強度等の特性に優れ、しかも安価に提供されるム
ライト系焼結体及びその製造方法に関する。
[従来の技術]
ムライトはAu2 osとSiO2からなり、化学組成
は理論的には3AI1203−2S i 02であり、
その特性としては、耐熱性に優れ、特にクリープ特性が
良好である。また、熱衝撃特性は良好であるが電気的特
性はあまり良くない。
は理論的には3AI1203−2S i 02であり、
その特性としては、耐熱性に優れ、特にクリープ特性が
良好である。また、熱衝撃特性は良好であるが電気的特
性はあまり良くない。
ムライトセラ主ツクスはオールドセラ主ツクスに属し、
その研究の歴史は永く、原料ヒしては、アルミナ源とし
てカオリン、バイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム、
シリカ源として珪石が主に用いられている。最近では、
天然ムライトを改質することにより、合成ムライト並の
物性を出すことができるようになったが、この研究の主
体はムライト組成中のSiO2相の析出及びガラス化の
防止であり、原料の調製や焼結条件などを検討したもの
である。
その研究の歴史は永く、原料ヒしては、アルミナ源とし
てカオリン、バイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム、
シリカ源として珪石が主に用いられている。最近では、
天然ムライトを改質することにより、合成ムライト並の
物性を出すことができるようになったが、この研究の主
体はムライト組成中のSiO2相の析出及びガラス化の
防止であり、原料の調製や焼結条件などを検討したもの
である。
一方、ファインセラよツクス技術を用いた高純度ムライ
トという理論組成の素材もあり、これは金属アルコキシ
ドから理論組成となるように共沈法で製造したものであ
る。
トという理論組成の素材もあり、これは金属アルコキシ
ドから理論組成となるように共沈法で製造したものであ
る。
しかして、これらの原料を目的に合わせて混合し、焼結
したものがムライト系セラよツクス材料といわれ、ムラ
イト系セラ主ツクスはアルミナセラミックスと同様、高
温強度が比較的大きく、天然原料を用いたものは安価な
素材であることから、炉材、サヤ、セッター材、耐熱材
、構造材等、主に耐火材料として用いられてきた。
したものがムライト系セラよツクス材料といわれ、ムラ
イト系セラ主ツクスはアルミナセラミックスと同様、高
温強度が比較的大きく、天然原料を用いたものは安価な
素材であることから、炉材、サヤ、セッター材、耐熱材
、構造材等、主に耐火材料として用いられてきた。
[発明が解決しようとする課題]
従来のムライトセラミックスのうち、天然ムライトを改
質したものでは、長期間の使用や高温使用時に、もとも
と入っているAf1203−5iO2ボンデイングが分
解し、5i02がムライト粒界にガラス相として析出す
る。このため、強度が著しく低下し、連続的な使用や繰
り返しの使用に難があった。
質したものでは、長期間の使用や高温使用時に、もとも
と入っているAf1203−5iO2ボンデイングが分
解し、5i02がムライト粒界にガラス相として析出す
る。このため、強度が著しく低下し、連続的な使用や繰
り返しの使用に難があった。
アルコシキト法による高純度ムライトは、上記欠点を解
決するために開発されたものであるが、高純度ムライト
は高温強度、耐久性等に大きな改善効果を有するものの
、価格が高いために従来より用いられている耐熱材料等
の工業材料の分野で使用するにはコスト的に不利であっ
た。
決するために開発されたものであるが、高純度ムライト
は高温強度、耐久性等に大きな改善効果を有するものの
、価格が高いために従来より用いられている耐熱材料等
の工業材料の分野で使用するにはコスト的に不利であっ
た。
本発明は上記従来の問題点を解決し、高温強度等の特性
に優れ、かつ安価に提供されるムライト系焼結体及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
に優れ、かつ安価に提供されるムライト系焼結体及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段]
請求項(1)のムライト系焼結体は、TiN(窒化チタ
ン)及びムライトよりなり、TiN含有量がムライトに
対して5〜30重量%であって、ムライト粒径が10〜
100μmであることを特徴とする 請求項(2)のムライト系焼結体の製造方法は、精製粘
土鉱物、バイヤーアルミナ及び珪石よりなる群から選ば
れる少なくとも2種を主原料どして、Au20s/Si
O2の組成比がムライト生成範囲となるように調合し、
該調合原料を90%以上が粒径5μm以下となるように
湿式粉砕した後、粒径30μm以下のTiNを前記調合
原料に対して5〜30重量%添加混合し、次いで、得ら
れた混合物を乾燥、解砕し、その後、有機質バインダー
を用いて成形し、成形体を1600℃以上の温度で1時
間以上焼成することを特徴とする。
ン)及びムライトよりなり、TiN含有量がムライトに
対して5〜30重量%であって、ムライト粒径が10〜
100μmであることを特徴とする 請求項(2)のムライト系焼結体の製造方法は、精製粘
土鉱物、バイヤーアルミナ及び珪石よりなる群から選ば
れる少なくとも2種を主原料どして、Au20s/Si
O2の組成比がムライト生成範囲となるように調合し、
該調合原料を90%以上が粒径5μm以下となるように
湿式粉砕した後、粒径30μm以下のTiNを前記調合
原料に対して5〜30重量%添加混合し、次いで、得ら
れた混合物を乾燥、解砕し、その後、有機質バインダー
を用いて成形し、成形体を1600℃以上の温度で1時
間以上焼成することを特徴とする。
即ち、本発明は、原料として従来より用いられている安
価な原料を用い、物性改良の手段として、特定のセラミ
ックス粒子を342相としてムライト結晶内又は粒界面
に分散させることにより高強度化を図り、高純度合成ム
ライト並の特性を有する材料を提供するものである。
価な原料を用い、物性改良の手段として、特定のセラミ
ックス粒子を342相としてムライト結晶内又は粒界面
に分散させることにより高強度化を図り、高純度合成ム
ライト並の特性を有する材料を提供するものである。
以下に本発明の詳細な説明する。
請求項(1)のムライト系焼結体は、ムライトに対して
5〜30重量%のTiNを含有するものである。TiN
の含有量がムライトに対して5重量%未満では本発明に
よる強度の改善効果が得られず、3011量%を超える
とTiNの量が多くなり過ぎて、ムライト系焼結体とし
ての特性が損なわれる。従って、本発明においては、T
iN含有量はムライトに対して5〜30重量%とする。
5〜30重量%のTiNを含有するものである。TiN
の含有量がムライトに対して5重量%未満では本発明に
よる強度の改善効果が得られず、3011量%を超える
とTiNの量が多くなり過ぎて、ムライト系焼結体とし
ての特性が損なわれる。従って、本発明においては、T
iN含有量はムライトに対して5〜30重量%とする。
特に、TiN含有量がムライトに対して7〜15重量%
であると、とりわけ高強度なムライト系焼結体を得るこ
とができる。
であると、とりわけ高強度なムライト系焼結体を得るこ
とができる。
請求項(1)のムライト系焼結体中のムライト結晶は、
粒径が100μmの範囲のものである。
粒径が100μmの範囲のものである。
ムライト結晶の粒径が100μmよりも大きいと得られ
るムライト系焼結体の曲げ強度が低下し、また10μm
よりも小さいとTiN粒子をムライト結晶内又は粒界面
に取り込み難くなる。従って、ムライト結晶の粒径は1
0〜100μm1好ましくは10〜50μmとする。
るムライト系焼結体の曲げ強度が低下し、また10μm
よりも小さいとTiN粒子をムライト結晶内又は粒界面
に取り込み難くなる。従って、ムライト結晶の粒径は1
0〜100μm1好ましくは10〜50μmとする。
一方、TiN粒子の粒径が微細過ぎると、ムライトと均
一に混合することが難しい。このため、ムライト結晶粒
内に均一に取り込まれなくなる。
一に混合することが難しい。このため、ムライト結晶粒
内に均一に取り込まれなくなる。
逆にTiN粒子の粒径が大き過ぎるとムライト結晶粒界
にのみTiNが存在するようになり、粒界クラック発生
の原因となる。従って、本発明において、TiN粒子の
粒径は30μm以下、特に10μm以下、とりわけ3〜
10umであることが好ましい。
にのみTiNが存在するようになり、粒界クラック発生
の原因となる。従って、本発明において、TiN粒子の
粒径は30μm以下、特に10μm以下、とりわけ3〜
10umであることが好ましい。
なお、ムライト系焼結体中のムライトはその組成が理論
組成のA j2203/ S i O2−3/2(モル
比) 即ち71.8/28.2(重量%)であることが
好ましい。ムライト組成のAj22 osが理論組成よ
りも多過ぎるとAJ22 Os中にムライト結晶が分散
した形となり十分な強度が得られない。逆に、ムライト
組成の5iOaが理論組成よりも多過ぎると、ムライト
中に遊離シリカ相がガラス相となって生威し、十分な高
温強度が得られない。従って、ムライト系焼結体中のム
ライトは、理論組成A120a/S i 02−3/2
(モル比)にできるだけ近い組成であることが好まし
い。
組成のA j2203/ S i O2−3/2(モル
比) 即ち71.8/28.2(重量%)であることが
好ましい。ムライト組成のAj22 osが理論組成よ
りも多過ぎるとAJ22 Os中にムライト結晶が分散
した形となり十分な強度が得られない。逆に、ムライト
組成の5iOaが理論組成よりも多過ぎると、ムライト
中に遊離シリカ相がガラス相となって生威し、十分な高
温強度が得られない。従って、ムライト系焼結体中のム
ライトは、理論組成A120a/S i 02−3/2
(モル比)にできるだけ近い組成であることが好まし
い。
このような請求項(1)のムライト系焼結体は請求項(
2)の方法により容易かつ効率的じ低コストにて製造す
ることができる。
2)の方法により容易かつ効率的じ低コストにて製造す
ることができる。
以下に請求項(2)のムライト系焼結体の製造方法につ
いて説明する。
いて説明する。
請求項(2)の方法においては、まず、原料として精製
粘土鉱物、バイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム又は
珪石(シリカ)を用い、A It 20 s / S
i O2組成比がムライト生成範囲、好ましくはA 1
2203 / S i O2= 3 / 2(モル比)
となるように調合する。この場合、特に原料としては精
製カオリンとバイヤーアルミナ又は水酸化アルよニウム
、或いは、バイヤーアルよす又は水酸化アルミニウムと
珪石を用いるのが好ましい、これらの原料はその所要量
をボールミル、又はアトライター等によりアルコール等
を用いて90%以上が粒径5μm以下となるように湿式
粉砕する。次に、得られた粉砕物に粒径30μm以下、
好ましくは10μm以下、特に3〜10μmのTiNを
該粉砕物に対して5〜30重量%、好ましくは7〜15
重量%添加し、更にボールミル等で混合する。
粘土鉱物、バイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム又は
珪石(シリカ)を用い、A It 20 s / S
i O2組成比がムライト生成範囲、好ましくはA 1
2203 / S i O2= 3 / 2(モル比)
となるように調合する。この場合、特に原料としては精
製カオリンとバイヤーアルミナ又は水酸化アルよニウム
、或いは、バイヤーアルよす又は水酸化アルミニウムと
珪石を用いるのが好ましい、これらの原料はその所要量
をボールミル、又はアトライター等によりアルコール等
を用いて90%以上が粒径5μm以下となるように湿式
粉砕する。次に、得られた粉砕物に粒径30μm以下、
好ましくは10μm以下、特に3〜10μmのTiNを
該粉砕物に対して5〜30重量%、好ましくは7〜15
重量%添加し、更にボールミル等で混合する。
得られた混合物は乾燥、解砕した後、ポリビニルアルコ
ール°(PVA)等の有機質バインダーを用いて成形す
る。成形は300kgf/crn”以上での加圧成形後
、100100O/am”以上での静水圧プレス成形に
よる2段成形で行なうのが好ましい。
ール°(PVA)等の有機質バインダーを用いて成形す
る。成形は300kgf/crn”以上での加圧成形後
、100100O/am”以上での静水圧プレス成形に
よる2段成形で行なうのが好ましい。
得られた成形体はホットプレス又は常圧焼結により焼成
し、ムライト系焼結体を得る。この場合、昇温速度は5
0〜b 好ましく、焼成温度は1600℃以上、好ましくは16
00〜1650℃とし、焼成時間は1時間以上、好まし
くは1〜3時間とするのが好凍しい。なお、ホットプレ
スを採用する場合、圧力は300〜800 k g /
c m″程度するのが好ましい。
し、ムライト系焼結体を得る。この場合、昇温速度は5
0〜b 好ましく、焼成温度は1600℃以上、好ましくは16
00〜1650℃とし、焼成時間は1時間以上、好まし
くは1〜3時間とするのが好凍しい。なお、ホットプレ
スを採用する場合、圧力は300〜800 k g /
c m″程度するのが好ましい。
[作用]
一般に、精製カオリン、バイヤーアルくす又は珪石等の
原料を用いて、これをボールミル等で微粉砕して混合し
ても、原子レベルで理論組成に混合することは不可能で
あり、焼結により拡散させるためには長時間を必要とす
る。
原料を用いて、これをボールミル等で微粉砕して混合し
ても、原子レベルで理論組成に混合することは不可能で
あり、焼結により拡散させるためには長時間を必要とす
る。
これに対して、ムライト組成中に第2相とじてTiN粒
子を5−30重量%添加すると、ボールミル等による粉
砕混合でも、通常の成形、焼成により高温強度に優れた
ムライト系焼結体が得られる。
子を5−30重量%添加すると、ボールミル等による粉
砕混合でも、通常の成形、焼成により高温強度に優れた
ムライト系焼結体が得られる。
このTfN添加による高温強度改善の機構の詳細は明ら
かではないが、ムライト結晶内又は粒界面に取り込まれ
たTiN粒子がムライト中の5i02のガラス相への移
動をブロックしているため、更には、TiN粒子がムラ
イト結晶粒内や結晶粒界へ分散し、ムライト結晶の成長
を抑制しているためと考えられる。
かではないが、ムライト結晶内又は粒界面に取り込まれ
たTiN粒子がムライト中の5i02のガラス相への移
動をブロックしているため、更には、TiN粒子がムラ
イト結晶粒内や結晶粒界へ分散し、ムライト結晶の成長
を抑制しているためと考えられる。
[実施例]
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
説明する。
実施例1、比較例1
精製したカオリナイトに組成がA、Q203 /5iO
z−3/2(モル比)となるようにアルよすを添加し、
ボールくル(Zr○2ボール)によりアルコールを用い
て48時時間式粉砕した。なお、この場合、メディア攪
拌型粉砕@(アトライター)を用いると1〜2時間でI
A理することが可能である。原料を90%以上が粒径5
μm以下となるように粉砕した後、これにTiN粉末(
日本新金属社製)を第1表に示す量添加しく比較例1は
添加せず)、更にボールミルで5時間部合した。これを
乾燥、解砕した後、有機質バインダー(PVA)を5重
量%添加して十分に混練した。
z−3/2(モル比)となるようにアルよすを添加し、
ボールくル(Zr○2ボール)によりアルコールを用い
て48時時間式粉砕した。なお、この場合、メディア攪
拌型粉砕@(アトライター)を用いると1〜2時間でI
A理することが可能である。原料を90%以上が粒径5
μm以下となるように粉砕した後、これにTiN粉末(
日本新金属社製)を第1表に示す量添加しく比較例1は
添加せず)、更にボールミルで5時間部合した。これを
乾燥、解砕した後、有機質バインダー(PVA)を5重
量%添加して十分に混練した。
混線物をプレス成形により50rnmφX5mmに50
0 k g / c m’で成形した後、ラバープレス
により1500kg/errIで更に加圧して成形体を
得た。この成形体を焼結してムライト系焼結体を得た。
0 k g / c m’で成形した後、ラバープレス
により1500kg/errIで更に加圧して成形体を
得た。この成形体を焼結してムライト系焼結体を得た。
なお、焼結はホットプレスを用い、昇温速度は150℃
/ h rとし、300 k g / c ra’にて
1600℃で1時間行なった。
/ h rとし、300 k g / c ra’にて
1600℃で1時間行なった。
得られたムライト系焼結体の緒特性を第1表に示す。
第
表
第1表より所定量のTiNを添加したムライト系焼結体
(より、常温から1300℃ヒいった高温まで安定して
著しく高い強度が得られることが明らかである。
(より、常温から1300℃ヒいった高温まで安定して
著しく高い強度が得られることが明らかである。
[発明の効果]
以上詳述した通り、本発明のムライト系焼結体は、安価
な原料を用いて低コストに提供されるものであり、しか
も、高温強度、耐久性等の特性に著しく優れる。従って
、本発明のムライト系焼結体は、工業用耐火材料等とし
て、長期にわたり極めて有効に使用することができる。
な原料を用いて低コストに提供されるものであり、しか
も、高温強度、耐久性等の特性に著しく優れる。従って
、本発明のムライト系焼結体は、工業用耐火材料等とし
て、長期にわたり極めて有効に使用することができる。
しかして、このような本発明のムライト系焼結体は、本
発明の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることが可能とされる。
発明の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることが可能とされる。
Claims (2)
- (1)TiN及びムライトよりなり、TiN含有量がム
ライトに対して5〜30重量%であって、ムライト粒径
が10〜100μmであることを特徴とするムライト系
焼結体。 - (2)精製粘土鉱物、バイヤーアルミナ及び珪石よりな
る群から選ばれる少なくとも2種を主原料として、Al
_2O_3/SiO_2の組成比がムライト生成範囲と
なるように調合し、該調合原料を90%以上が粒径5μ
m以下となるように湿式粉砕した後、粒径30μm以下
のTiNを前記調合原料に対して5〜30重量%添加混
合し、次いで、得られた混合物を乾燥、解砕し、その後
、有機質バインダーを用いて成形し、成形体を1600
℃以上の温度で1時間以上焼成することを特徴とするム
ライト系焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1219944A JPH0383853A (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | ムライト系焼結体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1219944A JPH0383853A (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | ムライト系焼結体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0383853A true JPH0383853A (ja) | 1991-04-09 |
Family
ID=16743478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1219944A Pending JPH0383853A (ja) | 1989-08-25 | 1989-08-25 | ムライト系焼結体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0383853A (ja) |
-
1989
- 1989-08-25 JP JP1219944A patent/JPH0383853A/ja active Pending
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