JPH0383853A - ムライト系焼結体及びその製造方法 - Google Patents

ムライト系焼結体及びその製造方法

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JPH0383853A
JPH0383853A JP1219944A JP21994489A JPH0383853A JP H0383853 A JPH0383853 A JP H0383853A JP 1219944 A JP1219944 A JP 1219944A JP 21994489 A JP21994489 A JP 21994489A JP H0383853 A JPH0383853 A JP H0383853A
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JP
Japan
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mullite
tin
based sintered
raw materials
sintered compact
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Pending
Application number
JP1219944A
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English (en)
Inventor
Atsushi Nishiyama
敦 西山
Takeo Sasaki
佐々木 丈夫
Yoshihiro Ohinata
大日向 義宏
Hiroshi Sasaki
博 佐々木
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Mitsubishi Materials Corp
Original Assignee
Mitsubishi Materials Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [a業上の利用分野] 本発明はムライト系焼結体及びその製造方法に係り、特
に高温強度等の特性に優れ、しかも安価に提供されるム
ライト系焼結体及びその製造方法に関する。
[従来の技術] ムライトはAu2 osとSiO2からなり、化学組成
は理論的には3AI1203−2S i 02であり、
その特性としては、耐熱性に優れ、特にクリープ特性が
良好である。また、熱衝撃特性は良好であるが電気的特
性はあまり良くない。
ムライトセラ主ツクスはオールドセラ主ツクスに属し、
その研究の歴史は永く、原料ヒしては、アルミナ源とし
てカオリン、バイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム、
シリカ源として珪石が主に用いられている。最近では、
天然ムライトを改質することにより、合成ムライト並の
物性を出すことができるようになったが、この研究の主
体はムライト組成中のSiO2相の析出及びガラス化の
防止であり、原料の調製や焼結条件などを検討したもの
である。
一方、ファインセラよツクス技術を用いた高純度ムライ
トという理論組成の素材もあり、これは金属アルコキシ
ドから理論組成となるように共沈法で製造したものであ
る。
しかして、これらの原料を目的に合わせて混合し、焼結
したものがムライト系セラよツクス材料といわれ、ムラ
イト系セラ主ツクスはアルミナセラミックスと同様、高
温強度が比較的大きく、天然原料を用いたものは安価な
素材であることから、炉材、サヤ、セッター材、耐熱材
、構造材等、主に耐火材料として用いられてきた。
[発明が解決しようとする課題] 従来のムライトセラミックスのうち、天然ムライトを改
質したものでは、長期間の使用や高温使用時に、もとも
と入っているAf1203−5iO2ボンデイングが分
解し、5i02がムライト粒界にガラス相として析出す
る。このため、強度が著しく低下し、連続的な使用や繰
り返しの使用に難があった。
アルコシキト法による高純度ムライトは、上記欠点を解
決するために開発されたものであるが、高純度ムライト
は高温強度、耐久性等に大きな改善効果を有するものの
、価格が高いために従来より用いられている耐熱材料等
の工業材料の分野で使用するにはコスト的に不利であっ
た。
本発明は上記従来の問題点を解決し、高温強度等の特性
に優れ、かつ安価に提供されるムライト系焼結体及びそ
の製造方法を提供することを目的とする。
[課題を解決するための手段] 請求項(1)のムライト系焼結体は、TiN(窒化チタ
ン)及びムライトよりなり、TiN含有量がムライトに
対して5〜30重量%であって、ムライト粒径が10〜
100μmであることを特徴とする 請求項(2)のムライト系焼結体の製造方法は、精製粘
土鉱物、バイヤーアルミナ及び珪石よりなる群から選ば
れる少なくとも2種を主原料どして、Au20s/Si
O2の組成比がムライト生成範囲となるように調合し、
該調合原料を90%以上が粒径5μm以下となるように
湿式粉砕した後、粒径30μm以下のTiNを前記調合
原料に対して5〜30重量%添加混合し、次いで、得ら
れた混合物を乾燥、解砕し、その後、有機質バインダー
を用いて成形し、成形体を1600℃以上の温度で1時
間以上焼成することを特徴とする。
即ち、本発明は、原料として従来より用いられている安
価な原料を用い、物性改良の手段として、特定のセラミ
ックス粒子を342相としてムライト結晶内又は粒界面
に分散させることにより高強度化を図り、高純度合成ム
ライト並の特性を有する材料を提供するものである。
以下に本発明の詳細な説明する。
請求項(1)のムライト系焼結体は、ムライトに対して
5〜30重量%のTiNを含有するものである。TiN
の含有量がムライトに対して5重量%未満では本発明に
よる強度の改善効果が得られず、3011量%を超える
とTiNの量が多くなり過ぎて、ムライト系焼結体とし
ての特性が損なわれる。従って、本発明においては、T
iN含有量はムライトに対して5〜30重量%とする。
特に、TiN含有量がムライトに対して7〜15重量%
であると、とりわけ高強度なムライト系焼結体を得るこ
とができる。
請求項(1)のムライト系焼結体中のムライト結晶は、
粒径が100μmの範囲のものである。
ムライト結晶の粒径が100μmよりも大きいと得られ
るムライト系焼結体の曲げ強度が低下し、また10μm
よりも小さいとTiN粒子をムライト結晶内又は粒界面
に取り込み難くなる。従って、ムライト結晶の粒径は1
0〜100μm1好ましくは10〜50μmとする。
一方、TiN粒子の粒径が微細過ぎると、ムライトと均
一に混合することが難しい。このため、ムライト結晶粒
内に均一に取り込まれなくなる。
逆にTiN粒子の粒径が大き過ぎるとムライト結晶粒界
にのみTiNが存在するようになり、粒界クラック発生
の原因となる。従って、本発明において、TiN粒子の
粒径は30μm以下、特に10μm以下、とりわけ3〜
10umであることが好ましい。
なお、ムライト系焼結体中のムライトはその組成が理論
組成のA j2203/ S i O2−3/2(モル
比) 即ち71.8/28.2(重量%)であることが
好ましい。ムライト組成のAj22 osが理論組成よ
りも多過ぎるとAJ22 Os中にムライト結晶が分散
した形となり十分な強度が得られない。逆に、ムライト
組成の5iOaが理論組成よりも多過ぎると、ムライト
中に遊離シリカ相がガラス相となって生威し、十分な高
温強度が得られない。従って、ムライト系焼結体中のム
ライトは、理論組成A120a/S i 02−3/2
 (モル比)にできるだけ近い組成であることが好まし
い。
このような請求項(1)のムライト系焼結体は請求項(
2)の方法により容易かつ効率的じ低コストにて製造す
ることができる。
以下に請求項(2)のムライト系焼結体の製造方法につ
いて説明する。
請求項(2)の方法においては、まず、原料として精製
粘土鉱物、バイヤーアルミナ、水酸化アルミニウム又は
珪石(シリカ)を用い、A It 20 s / S 
i O2組成比がムライト生成範囲、好ましくはA 1
2203 / S i O2= 3 / 2(モル比)
となるように調合する。この場合、特に原料としては精
製カオリンとバイヤーアルミナ又は水酸化アルよニウム
、或いは、バイヤーアルよす又は水酸化アルミニウムと
珪石を用いるのが好ましい、これらの原料はその所要量
をボールミル、又はアトライター等によりアルコール等
を用いて90%以上が粒径5μm以下となるように湿式
粉砕する。次に、得られた粉砕物に粒径30μm以下、
好ましくは10μm以下、特に3〜10μmのTiNを
該粉砕物に対して5〜30重量%、好ましくは7〜15
重量%添加し、更にボールミル等で混合する。
得られた混合物は乾燥、解砕した後、ポリビニルアルコ
ール°(PVA)等の有機質バインダーを用いて成形す
る。成形は300kgf/crn”以上での加圧成形後
、100100O/am”以上での静水圧プレス成形に
よる2段成形で行なうのが好ましい。
得られた成形体はホットプレス又は常圧焼結により焼成
し、ムライト系焼結体を得る。この場合、昇温速度は5
0〜b 好ましく、焼成温度は1600℃以上、好ましくは16
00〜1650℃とし、焼成時間は1時間以上、好まし
くは1〜3時間とするのが好凍しい。なお、ホットプレ
スを採用する場合、圧力は300〜800 k g /
 c m″程度するのが好ましい。
[作用] 一般に、精製カオリン、バイヤーアルくす又は珪石等の
原料を用いて、これをボールミル等で微粉砕して混合し
ても、原子レベルで理論組成に混合することは不可能で
あり、焼結により拡散させるためには長時間を必要とす
る。
これに対して、ムライト組成中に第2相とじてTiN粒
子を5−30重量%添加すると、ボールミル等による粉
砕混合でも、通常の成形、焼成により高温強度に優れた
ムライト系焼結体が得られる。
このTfN添加による高温強度改善の機構の詳細は明ら
かではないが、ムライト結晶内又は粒界面に取り込まれ
たTiN粒子がムライト中の5i02のガラス相への移
動をブロックしているため、更には、TiN粒子がムラ
イト結晶粒内や結晶粒界へ分散し、ムライト結晶の成長
を抑制しているためと考えられる。
[実施例] 以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。
実施例1、比較例1 精製したカオリナイトに組成がA、Q203 /5iO
z−3/2(モル比)となるようにアルよすを添加し、
ボールくル(Zr○2ボール)によりアルコールを用い
て48時時間式粉砕した。なお、この場合、メディア攪
拌型粉砕@(アトライター)を用いると1〜2時間でI
A理することが可能である。原料を90%以上が粒径5
μm以下となるように粉砕した後、これにTiN粉末(
日本新金属社製)を第1表に示す量添加しく比較例1は
添加せず)、更にボールミルで5時間部合した。これを
乾燥、解砕した後、有機質バインダー(PVA)を5重
量%添加して十分に混練した。
混線物をプレス成形により50rnmφX5mmに50
0 k g / c m’で成形した後、ラバープレス
により1500kg/errIで更に加圧して成形体を
得た。この成形体を焼結してムライト系焼結体を得た。
なお、焼結はホットプレスを用い、昇温速度は150℃
/ h rとし、300 k g / c ra’にて
1600℃で1時間行なった。
得られたムライト系焼結体の緒特性を第1表に示す。
第 表 第1表より所定量のTiNを添加したムライト系焼結体
(より、常温から1300℃ヒいった高温まで安定して
著しく高い強度が得られることが明らかである。
[発明の効果] 以上詳述した通り、本発明のムライト系焼結体は、安価
な原料を用いて低コストに提供されるものであり、しか
も、高温強度、耐久性等の特性に著しく優れる。従って
、本発明のムライト系焼結体は、工業用耐火材料等とし
て、長期にわたり極めて有効に使用することができる。
しかして、このような本発明のムライト系焼結体は、本
発明の方法により容易かつ効率的に低コストにて製造す
ることが可能とされる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)TiN及びムライトよりなり、TiN含有量がム
    ライトに対して5〜30重量%であって、ムライト粒径
    が10〜100μmであることを特徴とするムライト系
    焼結体。
  2. (2)精製粘土鉱物、バイヤーアルミナ及び珪石よりな
    る群から選ばれる少なくとも2種を主原料として、Al
    _2O_3/SiO_2の組成比がムライト生成範囲と
    なるように調合し、該調合原料を90%以上が粒径5μ
    m以下となるように湿式粉砕した後、粒径30μm以下
    のTiNを前記調合原料に対して5〜30重量%添加混
    合し、次いで、得られた混合物を乾燥、解砕し、その後
    、有機質バインダーを用いて成形し、成形体を1600
    ℃以上の温度で1時間以上焼成することを特徴とするム
    ライト系焼結体の製造方法。
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