JPH0383660A - サーマルヘッド - Google Patents
サーマルヘッドInfo
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- JPH0383660A JPH0383660A JP22073489A JP22073489A JPH0383660A JP H0383660 A JPH0383660 A JP H0383660A JP 22073489 A JP22073489 A JP 22073489A JP 22073489 A JP22073489 A JP 22073489A JP H0383660 A JPH0383660 A JP H0383660A
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Landscapes
- Electronic Switches (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は感熱記録等に用いられるサーマルヘッドに関す
る。
る。
従来の技術
感熱記録は、サーマルヘッドを感熱紙に圧接または転写
シートを介して記録紙へ圧接させた状態で、記録用の電
気信号により発熱抵抗体を選択的に発熱させ、感熱紙ま
たは記録紙へ画像等を記録するよう構成されている。こ
れに用いられるサーマルヘッドには、印刷と焼成方式で
成膜する厚膜型サーマルヘッドと、スパッタリングや真
空蒸着方式等で成膜する薄膜型サーマルヘッドがある。
シートを介して記録紙へ圧接させた状態で、記録用の電
気信号により発熱抵抗体を選択的に発熱させ、感熱紙ま
たは記録紙へ画像等を記録するよう構成されている。こ
れに用いられるサーマルヘッドには、印刷と焼成方式で
成膜する厚膜型サーマルヘッドと、スパッタリングや真
空蒸着方式等で成膜する薄膜型サーマルヘッドがある。
薄膜型サーマルヘッドは記録速度や印字品質は良好であ
るが、ヘッドの価格が高い点が問題である。一方、厚膜
型サーマルヘッドは安価に作成できるが、印字品質や記
録速度の点で薄膜型ヘッドに劣ることが問題である。こ
の主な原因は、抵抗膜が厚いことと耐摩耗保護膜として
ガラスを使用していることによる。
るが、ヘッドの価格が高い点が問題である。一方、厚膜
型サーマルヘッドは安価に作成できるが、印字品質や記
録速度の点で薄膜型ヘッドに劣ることが問題である。こ
の主な原因は、抵抗膜が厚いことと耐摩耗保護膜として
ガラスを使用していることによる。
一方、安価な印刷・焼成方式で印字品質や記録速度を改
良することを目的として、特開昭６２−２９２４５３号
公報に示すように有機金属化合物を用いて抵抗体膜を形
成するヘッドが出願されている。
良することを目的として、特開昭６２−２９２４５３号
公報に示すように有機金属化合物を用いて抵抗体膜を形
成するヘッドが出願されている。
この発熱体部の斜視図を第４図に示す。第４図において
、４１はアルミナ基板で、表面にガラスグレーズ層４２
が形成されている。４３は有機金属化合物を塗布・焼成
して形成した抵抗体膜、４４ａ、４４ｂは電極膜で、そ
れぞれ４４ａは共通電極、４４ｂは個別電極となる。４
５はガラスを塗布・焼成して形成した耐摩耗保護膜であ
る。
、４１はアルミナ基板で、表面にガラスグレーズ層４２
が形成されている。４３は有機金属化合物を塗布・焼成
して形成した抵抗体膜、４４ａ、４４ｂは電極膜で、そ
れぞれ４４ａは共通電極、４４ｂは個別電極となる。４
５はガラスを塗布・焼成して形成した耐摩耗保護膜であ
る。
このヘッドでは、抵抗体膜は約０．１μｍと非常に薄く
形成でき、かつ、エッチンーグによるパターン形成も可
能であり、従来の厚膜型サーマルヘッドに比べて抵抗値
の均一性や熱応答性が改善されるため、印字品質や記録
速度の改善が可能となった。
形成でき、かつ、エッチンーグによるパターン形成も可
能であり、従来の厚膜型サーマルヘッドに比べて抵抗値
の均一性や熱応答性が改善されるため、印字品質や記録
速度の改善が可能となった。
発明が解決しようとする課題
有機金属を塗布・焼成して抵抗膜を形成したヘッドでは
、耐摩耗保護膜として従来の厚膜型ヘッドで用いられて
いるガラス耐摩耗保護膜が使用できる。しかしながらこ
のガラス耐摩耗保護膜は次に述べるような問題点があり
、特に熱転写記録のように厳しい印字条件の用途には使
用できなかった。第１Ｋ、ガラス耐摩耗保護膜の焼成温
度は、約８５０℃が上限であるため焼成後の表面粗さを
小さくできず、記録紙と発熱体の接触状態が不均一とな
り、印字むらが生じ易い点である。第２Ｋ、ガラスのマ
イクロビッカース硬度は約７００ｋｇ／■２であり、薄
膜型ヘッドで一般に使われているＳｉＣ，５ｉＯＮやＴ
ａ２０５膜のマイクロビッカース硬度（それぞれ約２５
００．１５００゜９００ ｋｇ／■２）に比べて小さく
、熱転写記録のように厳しい条件で使用される場合には
耐摩耗性が充分でなかった。
、耐摩耗保護膜として従来の厚膜型ヘッドで用いられて
いるガラス耐摩耗保護膜が使用できる。しかしながらこ
のガラス耐摩耗保護膜は次に述べるような問題点があり
、特に熱転写記録のように厳しい印字条件の用途には使
用できなかった。第１Ｋ、ガラス耐摩耗保護膜の焼成温
度は、約８５０℃が上限であるため焼成後の表面粗さを
小さくできず、記録紙と発熱体の接触状態が不均一とな
り、印字むらが生じ易い点である。第２Ｋ、ガラスのマ
イクロビッカース硬度は約７００ｋｇ／■２であり、薄
膜型ヘッドで一般に使われているＳｉＣ，５ｉＯＮやＴ
ａ２０５膜のマイクロビッカース硬度（それぞれ約２５
００．１５００゜９００ ｋｇ／■２）に比べて小さく
、熱転写記録のように厳しい条件で使用される場合には
耐摩耗性が充分でなかった。
ところで、有機金属化合物を塗布し、焼成することによ
り形成した抵抗体膜Ｋ、薄膜型ヘッドと同じような耐摩
耗保護膜を形成する事も考えられる。
り形成した抵抗体膜Ｋ、薄膜型ヘッドと同じような耐摩
耗保護膜を形成する事も考えられる。
本発明者等はこの点について実験を行った結果、このよ
うな抵抗体膜は真空中（１０−３Ｔｏｒｒ以下）で加熱
されると抵抗値が大きく変動する現象が生じることを見
出した。すなわち、抵抗膜中のＲｕ、ＲｅやＲｈが真空
中で還元されて、抵抗値が変化してしまうのである。
うな抵抗体膜は真空中（１０−３Ｔｏｒｒ以下）で加熱
されると抵抗値が大きく変動する現象が生じることを見
出した。すなわち、抵抗膜中のＲｕ、ＲｅやＲｈが真空
中で還元されて、抵抗値が変化してしまうのである。
以上のような点から、本発明は有機金属化合物を塗布・
焼成して形成した抵抗膜を用いたヘッドを、特に熱転写
記録に用いるためには耐摩耗保護膜の改善を目的とする
。
焼成して形成した抵抗膜を用いたヘッドを、特に熱転写
記録に用いるためには耐摩耗保護膜の改善を目的とする
。
課題を解決するための手段
上記目的を達成するために本発明は、少なくとも表面が
電気絶縁性を有する基板上にＲｕ、ＲｅまたはＲｈから
選ばれた１種類または複数種類の有機金属化合物とＴｉ
、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｔａ。
電気絶縁性を有する基板上にＲｕ、ＲｅまたはＲｈから
選ばれた１種類または複数種類の有機金属化合物とＴｉ
、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｔａ。
Ｃｏ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ。
Ｐｂ、Ｂ、Ｋ、Ｎａから選ばれた１種類または複数種類
の有機金属化合物とを含む液を塗布・焼成して形成した
抵抗体膜と、この抵抗体膜に通電するための電極膜と、
少なくとも抵抗体膜上に形成され、かつＴｉ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｃｏ。
の有機金属化合物とを含む液を塗布・焼成して形成した
抵抗体膜と、この抵抗体膜に通電するための電極膜と、
少なくとも抵抗体膜上に形成され、かつＴｉ、Ｍｎ、Ｆ
ｅ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｃｏ。
Ａｌ、 Ｂｉ、 Ｚｎ、 Ｍｇ、 Ｃａ、 Ｓｒ、 Ｂ
ａ、 Ｐｂ。
ａ、 Ｐｂ。
Ｂ、Ｋ、Ｎａから選ばれた１種類または複数種類の有機
金属化合物を含む液を塗布・焼成して形成した第１の保
護膜と、真空成膜方式による耐摩耗性を有する第２の保
護膜とにより構成したものである。
金属化合物を含む液を塗布・焼成して形成した第１の保
護膜と、真空成膜方式による耐摩耗性を有する第２の保
護膜とにより構成したものである。
作用
本発明によれば、抵抗膜上にＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ。
Ｓｔ、Ｔａ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ。
Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｋ、Ｎａから選ばれた１種類または
複数種類の有機金属化合物を含まない液を塗布、焼成し
て第１の保護膜を形成することにより真空中でも第２の
保護膜を真空中で設けても抵抗膜は第１の保護膜で保護
されていて、Ｒｕ、ＲｅやＲｈが還元されることがなく
抵抗値の変動が抑えられ、このためスパッタリング、真
空蒸着あるいはプラズマＣＶＤ等の真空を用いた成膜方
式によりＳ ｉ Ｃ，Ｓ ｉＯＮ、Ｔａ２０５あるいは
その他の硬度の大きな耐摩耗性の第２の保護膜を形成で
き、熱転写記録においても充分な寿命と良好な印字品質
が得られるものである。
複数種類の有機金属化合物を含まない液を塗布、焼成し
て第１の保護膜を形成することにより真空中でも第２の
保護膜を真空中で設けても抵抗膜は第１の保護膜で保護
されていて、Ｒｕ、ＲｅやＲｈが還元されることがなく
抵抗値の変動が抑えられ、このためスパッタリング、真
空蒸着あるいはプラズマＣＶＤ等の真空を用いた成膜方
式によりＳ ｉ Ｃ，Ｓ ｉＯＮ、Ｔａ２０５あるいは
その他の硬度の大きな耐摩耗性の第２の保護膜を形成で
き、熱転写記録においても充分な寿命と良好な印字品質
が得られるものである。
実施例
以下、本発明の一実施例を図面を用いて説明する。
本実施例では、Ｒｕ、ＲｅおよびＲｈの有機金属化合物
とＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｔ、Ｔａ、Ｃｏ。
とＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｔ、Ｔａ、Ｃｏ。
Ａｌ、 Ｂｉ、 Ｚｎ、 Ｍｇ、 Ｃａ、 Ｓｒ、 Ｂ
ａ、 Ｐｂ。
ａ、 Ｐｂ。
Ｂ、Ｋ、Ｎａの有機金属化合物との種々の組成の液をＭ
Ｅしてグレーズドアルミナ基板上に塗布・焼成して抵抗
膜を形成し、さらにＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ。
Ｅしてグレーズドアルミナ基板上に塗布・焼成して抵抗
膜を形成し、さらにＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ。
Ｓｉ、Ｔａ、Ｃｏ、Ａｔ、 Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ
。
。
Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｂ、Ｋ、Ｎａの１種類または複数種
類の有機金属化合物よりなる液を抵抗膜上に塗布・焼成
して約０．０１〜０．６μｍの膜厚の第１の保護膜を形
成して、この保護膜の抵抗変動に対する抑制の効果を調
べた。この結果を従来例と比較して第１表に示す。しか
しＡがら、抵抗体膜の表面にＴ １０ ｘ膜、５１０Ｘ
膜やガラスを構成する元素を混合して形成したガラス膜
等の酸化物薄膜を約０．０１８ｍ以上形成する本実施例
では、真空中での抵抗変動が無視できる程度に小さくな
うた。これは、Ｒｕ、ＲｅやＲｈは真空中で還元されて
抵抗値が増大するが、表面に第１の保護膜があると真空
中でも還元されず安定であるためである。
類の有機金属化合物よりなる液を抵抗膜上に塗布・焼成
して約０．０１〜０．６μｍの膜厚の第１の保護膜を形
成して、この保護膜の抵抗変動に対する抑制の効果を調
べた。この結果を従来例と比較して第１表に示す。しか
しＡがら、抵抗体膜の表面にＴ １０ ｘ膜、５１０Ｘ
膜やガラスを構成する元素を混合して形成したガラス膜
等の酸化物薄膜を約０．０１８ｍ以上形成する本実施例
では、真空中での抵抗変動が無視できる程度に小さくな
うた。これは、Ｒｕ、ＲｅやＲｈは真空中で還元されて
抵抗値が増大するが、表面に第１の保護膜があると真空
中でも還元されず安定であるためである。
真空中熱処理はｌＸｌ０−５Ｔｏ ｒ ｒ、４００℃。
９０ｍ１ｎ、で行った。
第１図は、本発明の第１の実施例によるサーマルヘッド
の発熱体基板部分の断面図を示す。第１図で、１１はア
ルミナ基板で表面にガラスゲｌ／ −ズ層１２が設けら
れている。この基板上Ｋ、ＲｕとＴｉの有機金属化合物
を含む印刷用インクを用いて塗布し、７５０℃で焼威し
てＲｕ−Ｔｉ−０抵抗膜１４を形成する。この後、Ａｕ
レジネート（ノリタケ■製）を同様に塗布し、抵抗膜と
同じ温度で焼成してＡｕ電極膜１３を作成する。次にフ
ォトリソプロセスにより抵抗体を個別に分割するよう図
に示すようなパターンを形成する。このようにパターン
形成した膜上Ｋ、Ｓｉの有機金属化合物を含む液をロー
ルコータにより塗布した後、大気中で抵抗膜と同じ温度
で焼威し、第１の保護膜１５を作成する。このときの抵
抗値は、第１の保護膜１５を形成したヘッドは、形成し
ないヘッドに比べてやや大きくなったが、その値は形成
したヘッドが１５５０Ωで、形成しないヘッドが１５０
０Ωであった。さらＫ、この第１の保護膜１５と電極１
３上に耐摩耗性を有する第２の保護膜１６として、高周
波スパッタリングにより約５μｍのＳｆＣ膜を形成し、
サーマルヘッドを作成する。このようにして作成したサ
ーマルヘッドの抵抗値を第２の保護膜１６を形成した後
測定すると、形成しなかったヘッドでは３０にΩ以上の
鎧であったが、第１の保護膜１５を形成したヘッドでは
１５５０Ωであり変化が見られず第１の保護膜１５の効
果が確認された。またさらＫ、印字試験結果を第２図に
示すが、本実施例のサーマルヘッドは、従来の薄膜型ヘ
ッドとほぼ同一の印字エネルギーが得られ、熱応答性ε
印字品質が薄膜型ヘッドと同じ程度まで改善されたこと
が判った。
の発熱体基板部分の断面図を示す。第１図で、１１はア
ルミナ基板で表面にガラスゲｌ／ −ズ層１２が設けら
れている。この基板上Ｋ、ＲｕとＴｉの有機金属化合物
を含む印刷用インクを用いて塗布し、７５０℃で焼威し
てＲｕ−Ｔｉ−０抵抗膜１４を形成する。この後、Ａｕ
レジネート（ノリタケ■製）を同様に塗布し、抵抗膜と
同じ温度で焼成してＡｕ電極膜１３を作成する。次にフ
ォトリソプロセスにより抵抗体を個別に分割するよう図
に示すようなパターンを形成する。このようにパターン
形成した膜上Ｋ、Ｓｉの有機金属化合物を含む液をロー
ルコータにより塗布した後、大気中で抵抗膜と同じ温度
で焼威し、第１の保護膜１５を作成する。このときの抵
抗値は、第１の保護膜１５を形成したヘッドは、形成し
ないヘッドに比べてやや大きくなったが、その値は形成
したヘッドが１５５０Ωで、形成しないヘッドが１５０
０Ωであった。さらＫ、この第１の保護膜１５と電極１
３上に耐摩耗性を有する第２の保護膜１６として、高周
波スパッタリングにより約５μｍのＳｆＣ膜を形成し、
サーマルヘッドを作成する。このようにして作成したサ
ーマルヘッドの抵抗値を第２の保護膜１６を形成した後
測定すると、形成しなかったヘッドでは３０にΩ以上の
鎧であったが、第１の保護膜１５を形成したヘッドでは
１５５０Ωであり変化が見られず第１の保護膜１５の効
果が確認された。またさらＫ、印字試験結果を第２図に
示すが、本実施例のサーマルヘッドは、従来の薄膜型ヘ
ッドとほぼ同一の印字エネルギーが得られ、熱応答性ε
印字品質が薄膜型ヘッドと同じ程度まで改善されたこと
が判った。
本発明の第２の実施例により作成したヘッドの発熱体断
面部形状を第３図に示す。第３図に示すヘッドは以下の
ようにして作成した。ガラスグレーズ層３２を形成した
アルミナ基板３１上Ｋ、ＲｕとＲｈおよびガラスを構成
する元素の有機金属化合物（主成分としてＳ’ｉ、Ａｌ
、Ｚｎ、Ｂａ、Ｂ）を含む印刷用ペーストを作成して塗
布し、７５０℃で焼成して抵抗膜３３を形成する。次Ｋ
、この抵抗膜３３上にガラスを構成する有機金属化合物
（主成分としてＳｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂａ、Ｂ）を含む液
をロールコータにより塗布し、７５０℃で焼成して、第
１の保護膜３５を形成する。このとき、第１の保護膜の
膜厚は０．０５μｍ以下とした。次にＣｒ電極膜３５と
Ｃｕ電極膜３６の２層構成電極をスパッタリングにより
底膜した後、フォトリソプロセスを用いて抵抗体を個別
に分割するようパターン形成する。この後、発熱体と電
極の一部を覆うようにプラズマＣＶＤ方式を用いて５ｉ
ＯＮの耐摩耗保護膜３７を約５μｍの厚さに形成してサ
ーマルヘッドを作威する。このようにして作成したヘッ
ドについて、抵抗値と接触抵抗を測定した。第１の保護
膜３５を形成したヘッドでは、所定の抵抗値（１５００
Ω）が得られ、かつ接触抵抗も発熱体抵抗値に比べ充分
小さい値であった。これは、第１の保護膜３５を焼成す
るときに抵抗膜の一部が拡散するためＫ、第１の保護膜
３５も導電性が生じるためである。一方、第１の保護膜
３５を形成しないヘッドについては、８０にΩ以上の抵
抗値となった。またこのヘッドの印字試験結果も、薄膜
型ヘッドと同じ印字品質と記録速度が得られた。
面部形状を第３図に示す。第３図に示すヘッドは以下の
ようにして作成した。ガラスグレーズ層３２を形成した
アルミナ基板３１上Ｋ、ＲｕとＲｈおよびガラスを構成
する元素の有機金属化合物（主成分としてＳ’ｉ、Ａｌ
、Ｚｎ、Ｂａ、Ｂ）を含む印刷用ペーストを作成して塗
布し、７５０℃で焼成して抵抗膜３３を形成する。次Ｋ
、この抵抗膜３３上にガラスを構成する有機金属化合物
（主成分としてＳｉ、Ａｌ、Ｚｎ、Ｂａ、Ｂ）を含む液
をロールコータにより塗布し、７５０℃で焼成して、第
１の保護膜３５を形成する。このとき、第１の保護膜の
膜厚は０．０５μｍ以下とした。次にＣｒ電極膜３５と
Ｃｕ電極膜３６の２層構成電極をスパッタリングにより
底膜した後、フォトリソプロセスを用いて抵抗体を個別
に分割するようパターン形成する。この後、発熱体と電
極の一部を覆うようにプラズマＣＶＤ方式を用いて５ｉ
ＯＮの耐摩耗保護膜３７を約５μｍの厚さに形成してサ
ーマルヘッドを作威する。このようにして作成したヘッ
ドについて、抵抗値と接触抵抗を測定した。第１の保護
膜３５を形成したヘッドでは、所定の抵抗値（１５００
Ω）が得られ、かつ接触抵抗も発熱体抵抗値に比べ充分
小さい値であった。これは、第１の保護膜３５を焼成す
るときに抵抗膜の一部が拡散するためＫ、第１の保護膜
３５も導電性が生じるためである。一方、第１の保護膜
３５を形成しないヘッドについては、８０にΩ以上の抵
抗値となった。またこのヘッドの印字試験結果も、薄膜
型ヘッドと同じ印字品質と記録速度が得られた。
発明の効果
本発明のサーマルヘッドにより、抵抗体膜を安価な塗布
・焼成工法を用いた方式で作威し、かつ硬度の大きな５
ｉＯＮ膜＋ Ｔａ２０５膜やｓｉｃ膜等の耐摩耗保護膜
をスパッタリング、真空蒸着やプラズマＣＶＤ等で形成
できるためＫ、熱転写記録のように耐摩耗性と印字品質
が特に要求される用途にも信頼性良く使用できる点で大
きな効果がある。
・焼成工法を用いた方式で作威し、かつ硬度の大きな５
ｉＯＮ膜＋ Ｔａ２０５膜やｓｉｃ膜等の耐摩耗保護膜
をスパッタリング、真空蒸着やプラズマＣＶＤ等で形成
できるためＫ、熱転写記録のように耐摩耗性と印字品質
が特に要求される用途にも信頼性良く使用できる点で大
きな効果がある。
第１図は本発明の第１の実施例に基づくサーマルヘッド
の発熱体基板部分の断面図、第２図は本発明の第１の実
施例により作成したサーマルヘッドと従来の薄膜型サー
マルヘッドとの特性を比較した特性図、第３図は本発明
の第２の実施例に基づくサーマルヘッドの発熱体部分の
断面図、第４図は従来のサーマルヘッド′の発熱体部分
の要部斜視図である。 １１．３１・・・・・・アルミナ板、１２．３２・・・
・・・ガラスグレーズ層、１３・・・・・・電極膜、１
４．３３・・・・・・抵抗膜、１５．３４・・・・・・
第１の保護膜、１６゜３７・・・・・・第２の保護膜、
３５・・・・・・Ｃｒ電極膜、３６・・・・・・Ｃｕ電
極膜。
の発熱体基板部分の断面図、第２図は本発明の第１の実
施例により作成したサーマルヘッドと従来の薄膜型サー
マルヘッドとの特性を比較した特性図、第３図は本発明
の第２の実施例に基づくサーマルヘッドの発熱体部分の
断面図、第４図は従来のサーマルヘッド′の発熱体部分
の要部斜視図である。 １１．３１・・・・・・アルミナ板、１２．３２・・・
・・・ガラスグレーズ層、１３・・・・・・電極膜、１
４．３３・・・・・・抵抗膜、１５．３４・・・・・・
第１の保護膜、１６゜３７・・・・・・第２の保護膜、
３５・・・・・・Ｃｒ電極膜、３６・・・・・・Ｃｕ電
極膜。
Claims (1)
- 少なくとも表面が電気絶縁性を有する基板上にＲｕ、Ｒ
ｅまたはＲｈから選ばれた１種類または複数種類の有機
金属化合物とＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｔａ、Ｃｏ、Ａ
ｌ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｐｂ、Ｂ、
Ｋ、Ｎａから選ばれた１種類または複数種類の有機金属
化合物とを含む液を塗布・焼成して形成した抵抗体膜と
、この抵抗体膜に通電するための電極膜と、少なくとも
抵抗体膜上に形成されかつＴｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｓｉ、Ｔ
ａ、Ｃｏ、Ａｌ、Ｂｉ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ
、Ｐｂ、Ｂ、Ｋ、Ｎａから選ばれた１種類または複数種
類の有機金属化合物を含む液を塗布・焼成して形成した
第１の保護膜と、真空成膜方式による耐摩耗性を有する
第２の保護膜とより成るサーマルヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22073489A JP2775884B2 (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | サーマルヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22073489A JP2775884B2 (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | サーマルヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0383660A true JPH0383660A (ja) | 1991-04-09 |
| JP2775884B2 JP2775884B2 (ja) | 1998-07-16 |
Family
ID=16755691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22073489A Expired - Fee Related JP2775884B2 (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 | サーマルヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2775884B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06143637A (ja) * | 1992-11-10 | 1994-05-24 | Tokyo Electric Co Ltd | サーマルヘッド |
| KR100651211B1 (ko) * | 2004-07-13 | 2006-11-29 | 김복흥 | 병형 용기상 탈부착식 휴대용 카메라 지지 고정구 및 시스템 |
-
1989
- 1989-08-28 JP JP22073489A patent/JP2775884B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06143637A (ja) * | 1992-11-10 | 1994-05-24 | Tokyo Electric Co Ltd | サーマルヘッド |
| KR100651211B1 (ko) * | 2004-07-13 | 2006-11-29 | 김복흥 | 병형 용기상 탈부착식 휴대용 카메라 지지 고정구 및 시스템 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2775884B2 (ja) | 1998-07-16 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |