JPH037655B2 - - Google Patents
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- JPH037655B2 JPH037655B2 JP21808982A JP21808982A JPH037655B2 JP H037655 B2 JPH037655 B2 JP H037655B2 JP 21808982 A JP21808982 A JP 21808982A JP 21808982 A JP21808982 A JP 21808982A JP H037655 B2 JPH037655 B2 JP H037655B2
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Landscapes
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Description
本発明は、新規なモノアミド芳香族ジアミン化
合物に関するもので、本発明の新規なモノアミド
芳香族ジアミン化合物は、有機溶媒可溶性の感光
性芳香族ポリイミドの合成原料として有用なもの
である。 半導体工業における固体素子への絶縁膜やパツ
シベーシヨン膜の形成材料、及び半導体集積回路
や多層プリント配線板などの層間絶縁材料は、耐
熱性及び絶縁性に富むことが要請される。斯る観
点から、上記のパツシベーシヨン膜等を、絶縁性
と共に耐熱性の高いポリイミドで形成することが
種々提案されている(特開昭49−115541号公報、
特開昭54−116216号公報、特開昭54−116217号公
報及び特開昭56−45915公報等参照)。 しかし、ポリイミドは、感光基を有しておら
ず、上述の提案においては、感光基を含有するポ
リマーは、何れもポリイミド前駆体であるポリア
ミツク酸の形であり、ポリアミツク酸を光硬化後
イミド化してポリイミドとする必要がある。 本発明は、レリーフパターンの形成に適する、
有機溶媒可溶性の感光性ポリイミドの原料モノマ
ーとして有用な、次式で表される、新規なモノア
ミド芳香族ジアミン化合物を提供するものであ
る。 (式中、Xは、水素原子又は
合物に関するもので、本発明の新規なモノアミド
芳香族ジアミン化合物は、有機溶媒可溶性の感光
性芳香族ポリイミドの合成原料として有用なもの
である。 半導体工業における固体素子への絶縁膜やパツ
シベーシヨン膜の形成材料、及び半導体集積回路
や多層プリント配線板などの層間絶縁材料は、耐
熱性及び絶縁性に富むことが要請される。斯る観
点から、上記のパツシベーシヨン膜等を、絶縁性
と共に耐熱性の高いポリイミドで形成することが
種々提案されている(特開昭49−115541号公報、
特開昭54−116216号公報、特開昭54−116217号公
報及び特開昭56−45915公報等参照)。 しかし、ポリイミドは、感光基を有しておら
ず、上述の提案においては、感光基を含有するポ
リマーは、何れもポリイミド前駆体であるポリア
ミツク酸の形であり、ポリアミツク酸を光硬化後
イミド化してポリイミドとする必要がある。 本発明は、レリーフパターンの形成に適する、
有機溶媒可溶性の感光性ポリイミドの原料モノマ
ーとして有用な、次式で表される、新規なモノア
ミド芳香族ジアミン化合物を提供するものであ
る。 (式中、Xは、水素原子又は
【式】を示
す。)
以下に上記一般式〔〕で表される本発明の新
規なモノアミド芳香族ジアミン化合物について詳
述する。 本発明の新規なモノアミド芳香族ジアミン化合
物は、前記一般式〔〕から明らかな如くジアミ
ノジフエニルエーテルの何れかのベンゼン環の水
素が置換されたアクリルアミド基又はシンナムア
ミド基が付いた形態をしており、代表的な具体例
としては次の化合物が挙げられる。 (1) 4−アクリルアミド−3,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル (2) 4−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル (3) 3−アクリルアミド−4,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル (4) 3−シンナムアミド−4−4′−ジアミノジフ
エニルエーテル 次に、本発明の新規なモノアミド芳香族ジアミ
ン化合物の代表的な成成法について説明する。 先ず、出発原料としてアセチルアミド−ジニト
ロジフエニルエーテルを用意し、これを加水分解
してアミノ−ジニトロジフエニルエーテルとす
る。次いで、このアミノ−ジニトロジフエニルエ
ーテルと、アクリル酸クロリド又はケイ皮酸クロ
リドとを反応させ生成物としてアクリルアミド−
ジニトロジフエニルエーテル、又はシンナムアミ
ド−ジニトロジフエニルエーテルを得る。 例えば、目的物として前記芳香族ジアミン化合
物(1)を合成しようとする場合には、次の3段
階の反応を行えば良く、前記芳香族ジアミン化合
物(2)を合成しようとする場合には、アクリル
酸クロリドの代わりにケイ皮酸クロリドを用いれ
ば良い。 上記の合成において、アクリルアミドジニトロ
ジフエニルエーテルを還元する際に、錫粉、鉄粉
などと、塩酸/水との懸濁液中で行うと、アクリ
ルアミド基の加水分解が起こるので適当ではな
く、上記の鉄粉と、酢酸/水との懸濁液中での反
応が最適である。 而して、前記一般式〔〕で表される本発明の
モノアミド芳香族ジアミン化合物は、例えば特定
の芳香族テトラカルボン酸類であるビフエニルテ
トラカルボン酸二無水物と重合させてポリアミツ
ク酸となし、更に該ポリアミツク酸を脱水閉環す
る(イミド化)ことにより、下記式〔〕で表さ
れる構造単位を含む、有機溶媒に可溶な感光性芳
香族ポリイミドを合成することができる。 (但し式中、Yは、
規なモノアミド芳香族ジアミン化合物について詳
述する。 本発明の新規なモノアミド芳香族ジアミン化合
物は、前記一般式〔〕から明らかな如くジアミ
ノジフエニルエーテルの何れかのベンゼン環の水
素が置換されたアクリルアミド基又はシンナムア
ミド基が付いた形態をしており、代表的な具体例
としては次の化合物が挙げられる。 (1) 4−アクリルアミド−3,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル (2) 4−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル (3) 3−アクリルアミド−4,4′−ジアミノジフ
エニルエーテル (4) 3−シンナムアミド−4−4′−ジアミノジフ
エニルエーテル 次に、本発明の新規なモノアミド芳香族ジアミ
ン化合物の代表的な成成法について説明する。 先ず、出発原料としてアセチルアミド−ジニト
ロジフエニルエーテルを用意し、これを加水分解
してアミノ−ジニトロジフエニルエーテルとす
る。次いで、このアミノ−ジニトロジフエニルエ
ーテルと、アクリル酸クロリド又はケイ皮酸クロ
リドとを反応させ生成物としてアクリルアミド−
ジニトロジフエニルエーテル、又はシンナムアミ
ド−ジニトロジフエニルエーテルを得る。 例えば、目的物として前記芳香族ジアミン化合
物(1)を合成しようとする場合には、次の3段
階の反応を行えば良く、前記芳香族ジアミン化合
物(2)を合成しようとする場合には、アクリル
酸クロリドの代わりにケイ皮酸クロリドを用いれ
ば良い。 上記の合成において、アクリルアミドジニトロ
ジフエニルエーテルを還元する際に、錫粉、鉄粉
などと、塩酸/水との懸濁液中で行うと、アクリ
ルアミド基の加水分解が起こるので適当ではな
く、上記の鉄粉と、酢酸/水との懸濁液中での反
応が最適である。 而して、前記一般式〔〕で表される本発明の
モノアミド芳香族ジアミン化合物は、例えば特定
の芳香族テトラカルボン酸類であるビフエニルテ
トラカルボン酸二無水物と重合させてポリアミツ
ク酸となし、更に該ポリアミツク酸を脱水閉環す
る(イミド化)ことにより、下記式〔〕で表さ
れる構造単位を含む、有機溶媒に可溶な感光性芳
香族ポリイミドを合成することができる。 (但し式中、Yは、
【式】又は
【式】を示す。)
従つて、上記ポリイミドの具体例としては、例
えば、次のものが挙げられる。尚、下記式中、
Y1は
えば、次のものが挙げられる。尚、下記式中、
Y1は
【式】Y2は
【式】をそれぞれ示す。
上記のポリイミドは、感光性を有し、ポリイミ
ドの耐熱性を保持するために、従来の非感光性ポ
リイミドのように画像形成用の別のフオトレジス
ト(光硬化性物質)を必要とせず、有機溶媒可溶
性であるためレリーフパターンの形成に何等の支
障も及ぼさない。 また感光性ポリアミツク酸(ポリイミド前駆
体)のようにイミド化工程を必要としないため
に、工程の簡略化のみならず、素子への熱的影響
や収縮による歪や応力を与えることがないなどの
多くの優れた効果がある。 前記のポリイミドの合成は、前記ビフエニルテ
トラカルボン酸二無水物と前記一般式〔〕で表
される本発明の芳香族ジアミン化合物とを略等モ
ル使用して、先ず、有機溶媒中で100℃以下、好
ましくは80℃以下の反応温度で0.5〜50時間重合
反応を行い、次いで、この重合反応によつて得ら
れるポリアミツク酸溶液を有機溶媒で希釈した
後、100℃以下、好ましくは80℃以下の反応温度
で無水酢酸、ピリジン、第3級アミンなどのイミ
ド化剤を加えて0.5〜5時間イミド化反応を行う
のが好ましい。 上記重合反応及び上記イミド化反応における有
機溶媒としては、例えばジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホロア
ミドなどが用いられる。 尚、前記のポリイミドは、前記ビフエニルテト
ラカルボン酸二無水物と本発明の芳香族ジアミン
化合物とを有機溶媒中で100℃以上の高温下、ま
たはイミド化剤の存在下において一段階で重合・
イミド化反応を行うことによつても合成すること
ができるが、前述の如く、二段階で行うことによ
り、安定した生成物を得ることができる。 而して、本発明の感光性ポリイミドは、レリー
フパターンの形成材料として使用する場合、有機
溶媒に溶解され溶液として用いられ、該感光性ポ
リイミド溶液の好ましい濃度は5〜30%である。 また、上記の感光性ポリイミド溶液に、必要に
応じ、増感剤及び光重合開始剤やエチレン性不飽
和基を有する光により2量化可能な化合物を添加
させることができ、光重合開始剤の添加量は感光
性ポリイミド100重量部に対して0.1〜10重量部が
好ましい。 上述の如く、本発明の新規なモノアミド芳香族
ジアミン化合物は、例えば有機溶媒可溶の感光性
ポリイミドの原料モノマーとして有用なものであ
るが、その他のポリイミド、ポリアミドなどの原
料モノマーとしても有用である。 以下に、本発明のモノアミド芳香族ジアミン化
合物の合成を示す実施例を、感光性ポリイミドの
合成例及び該感光性ポリイミドの効果を示す種々
の物性試験及びその結果と共に挙げる。 実施例 1 4−アクリルアミド−3,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテルの合成 第一工程 4−アセチルアミド−3,4′−ジニトロジフエ
ニルエーテルの加水分解 4−アセチルアミド−3,4′−ジニトロジフエニ
ルエーテル60g(0.19モル)にクライゼンアルカ
リ300ml(105gの水酸化カリウムを75mlの水にと
かした後メタノールで300mlとしたもの)を加え
溶解した後70℃で10分間加温し、次いで1000mlの
水を加え、赤橙色の結晶を析出させた。 結晶を濾集し、減圧下乾燥し51.2gの4−アミ
ノ3,4′−ジニトロジフエニルエーテルを得た。
(収率98%) 第二工程 4−アミノ−3,4′−ジニトロジフエニルエー
テルのアクリル化 第一工程で得られた4−アミノ−3,4′−ジニ
トロジフエニルエーテル50g(0.18モル)を
THF(テトラヒドロフラン)800mlとピリジン86
g(1.08ml)とからなる混合液に溶解した溶液
に、アクリル酸クロリド66g(0.72モル)を
THF200ml溶液に溶解した溶液を室温で滴下して
1時間半で加えた。その時温度が24℃から35℃ま
で上昇した。40〜45℃で更に1時間反応させた
後、室温に戻し、反応液を濾過した。濾液を約50
mlまで濃縮後、アンモニア水(5%)3の氷水
中に注ぎ込み結晶を析出させた。結晶を濾集し室
温で減圧乾燥した。 得られた結晶をシリカゲルクロマトグラフイー
(ワコーゲルC−200 200g、展開溶媒ベンゼン)
により精製し、32.6gの4−アクリルアミド−
3,4′−ジニトロジフエニルエーテルの黄色結晶
を得た。(収率55%) 第三工程 4−アクリルアミド−3,4′−ジニトロジフエ
ニルエーテルの還元 第二工程で得られた4−アクリルアミド−3,
4′−ジニトロジフエニルエーテル16g(0.05モ
ル)を酢酸60gに溶解した溶液を、鉄粉27gを水
15gと酢酸15gに懸濁させた溶液に撹拌しながら
少量ずつ加えた。その時発熱があり、水冷し、50
℃付近で反応させた。 反応後、アンモニア水(25%)200mlの氷水中
に注ぎ込みアルカリ性とした後、更に水を600ml
加え、エーテル−酢酸エチル(3:1)で抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を除去
し、生成物8gを得た。(収率60%) 融点 105〜106℃ 元素分析値 (C15H15O2として) C H N 実測値(%) 66.46 5.71 15.60 計算値(%) 66.90 5.61 15.60 又、生成物について、赤外吸収スペクトル(第
1図参照)、及びH−NMRスペクトルを測定し、
目的物であることを確認した。 実施例 2 4−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテルの合成 第一工程 4−アミノ−3,4′−ジニトロジフエニルエー
テルのシンナムアミド化 実施例1の第一工程で得られた4−アミノ3−
4′−ジニトロジフエニルエーテル20g(0.07モ
ル)をTHF300mlに溶解し、更にピリジン34.4g
(0.44ml)を加えた溶液に、ケイ皮酸クロリド36
g(0.21モル)をTHF100mlに溶かした溶液を室
温で滴下して加えた。その時33℃まで発熱があ
り、滴下後40℃で1時間反応させた。反応液を水
に注ぎ込み結晶を折出させ、結晶を濾別し、18.5
gの4−シンナムアミド−3,4′−ジニトロジフ
エニルエーテルを得た。(収率63%) 第二工程 4−シンナムアミド−3,4′−ジニトロジフエ
ニルエーテルの還元 第一工程で得られた4−シンナムアミド−3,
4′−ジニトロジフエニルエーテル17.8g(0.044モ
ル)を600mlの酢酸に溶解し、この溶液を鉄粉45
gを水15gと酢酸15gに懸濁させた溶液に激しく
撹拌しながら少量ずつ添加し、反応温度は45〜50
℃で行つた。 添加終了後、アンモニア水でアルカリ性にする
と沈澱が析出した。全量に水を適当に加え、酢酸
エチルで抽出し、乾燥、溶媒除去後、黄色の生成
物11.4gを得た。(収率75%) 融点 182〜184℃ 元素分析値 C H N 実測値 72.97 5.62 12.22 計算値 73.02 5.54 12.17 又、生成物について、赤外吸収スペクトル(第
2図参照)、及びH−NMRスペクトルを測定し、
目的物であることを確認した。 合成例 1 N−メチル−2−ピロリドン(NMP)41.5ml
に3,3′,4,4′−ビフエニルテトラカルボン酸
二無水物5.56gと4−アクリルアミド−3,4′−
ジアミノジフエニルエーテル5.09gを加え30℃で
20時間撹拌して反応させ、ポリアミツク酸を得
た。 次に、NMP156mlを加えポリアミツク酸を希
釈したのち、無水酢酸38.6g、ピリジン14.7g、
ベンゼン30.2ml及びNMP26.0mlを加え、50℃で
1時間反応させイミド化物(前記構造単位No.1か
らなる感光性ポリイミド)を得た。 イミド化物溶液中にメタノールを滴下して加
え、ポリイミドを析出させ濾別して、黄色のポリ
イミド粉末を得た。 合成例 2 合成例1で用いた4−アクリルアミド−3,
4′−ジアミンジフエニルエーテルの代わりに、4
−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフエニル
エーテルを用いて合成例1と同様な反応を行い、
前記構造単位No.2からなる感光性ポリイミドを得
た。 物性試験 上記合成例1及び2で得たポリイミドについて
下記(1)〜(5)の物性試験を行い下表に示す結果を得
た。 (1) ポリイミドの粘度 ポリイミド0.5gNMP100mlの濃度のポリイミ
ド溶液を30℃で対数粘度を測定した。 (2) ポリイミドの成膜性 厚さ約10μのポリイミドフイルムをガラス板上
に作成し、これを水に浸して剥離し、180゜に折り
曲げ、クラツクのない場合を〇、クラツクありを
△、製膜時にクラツクの生じるものを×とした。 (3) ポリイミドフイルムの溶解性 厚さ約10μのポリイミドフイルムを室温で
NMP中に浸漬し撹拌し、溶解性を観察して、溶
解性の良否を判定した。 (4) 熱分解開始温度 理学電気(株)製差動熱天秤TG−DSCにより、重
量減の開始温度を測定した。 (5) 光硬化特性 ポリイミドの10%NMP溶液に6phrのミヒラー
ズケトンを添加して調整した感光性ポリイミド溶
液をガラス板上に回転塗布機(2000〜5000rpm)
を用いて、数μの厚さ(下表参照)に塗布し、圧
力1〜2mmHgの減圧下、50℃で5時間乾燥して
薄膜を作成し、この薄膜について下記の光感度及
び解像力の試験に供した。 光感度 上記薄膜を、超高圧水銀灯(ジエツトライト
2kW)を用いて、照度7.2mw/cm2(350mμ)で
照射して光硬化させ、光硬化する迄の光照射量
(J/cm2)を測定した。 解像力 上記薄膜についてテストチヤートとして凸版印
刷(株)製ネガ型テストチヤート(トツパンテストチ
ヤートN、最小線巾0.98±0.25μ)を用いてレリ
ーフパターンを形成し、パターンの良否を判定し
た。
ドの耐熱性を保持するために、従来の非感光性ポ
リイミドのように画像形成用の別のフオトレジス
ト(光硬化性物質)を必要とせず、有機溶媒可溶
性であるためレリーフパターンの形成に何等の支
障も及ぼさない。 また感光性ポリアミツク酸(ポリイミド前駆
体)のようにイミド化工程を必要としないため
に、工程の簡略化のみならず、素子への熱的影響
や収縮による歪や応力を与えることがないなどの
多くの優れた効果がある。 前記のポリイミドの合成は、前記ビフエニルテ
トラカルボン酸二無水物と前記一般式〔〕で表
される本発明の芳香族ジアミン化合物とを略等モ
ル使用して、先ず、有機溶媒中で100℃以下、好
ましくは80℃以下の反応温度で0.5〜50時間重合
反応を行い、次いで、この重合反応によつて得ら
れるポリアミツク酸溶液を有機溶媒で希釈した
後、100℃以下、好ましくは80℃以下の反応温度
で無水酢酸、ピリジン、第3級アミンなどのイミ
ド化剤を加えて0.5〜5時間イミド化反応を行う
のが好ましい。 上記重合反応及び上記イミド化反応における有
機溶媒としては、例えばジメチルスルホキシド、
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、
N−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホロア
ミドなどが用いられる。 尚、前記のポリイミドは、前記ビフエニルテト
ラカルボン酸二無水物と本発明の芳香族ジアミン
化合物とを有機溶媒中で100℃以上の高温下、ま
たはイミド化剤の存在下において一段階で重合・
イミド化反応を行うことによつても合成すること
ができるが、前述の如く、二段階で行うことによ
り、安定した生成物を得ることができる。 而して、本発明の感光性ポリイミドは、レリー
フパターンの形成材料として使用する場合、有機
溶媒に溶解され溶液として用いられ、該感光性ポ
リイミド溶液の好ましい濃度は5〜30%である。 また、上記の感光性ポリイミド溶液に、必要に
応じ、増感剤及び光重合開始剤やエチレン性不飽
和基を有する光により2量化可能な化合物を添加
させることができ、光重合開始剤の添加量は感光
性ポリイミド100重量部に対して0.1〜10重量部が
好ましい。 上述の如く、本発明の新規なモノアミド芳香族
ジアミン化合物は、例えば有機溶媒可溶の感光性
ポリイミドの原料モノマーとして有用なものであ
るが、その他のポリイミド、ポリアミドなどの原
料モノマーとしても有用である。 以下に、本発明のモノアミド芳香族ジアミン化
合物の合成を示す実施例を、感光性ポリイミドの
合成例及び該感光性ポリイミドの効果を示す種々
の物性試験及びその結果と共に挙げる。 実施例 1 4−アクリルアミド−3,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテルの合成 第一工程 4−アセチルアミド−3,4′−ジニトロジフエ
ニルエーテルの加水分解 4−アセチルアミド−3,4′−ジニトロジフエニ
ルエーテル60g(0.19モル)にクライゼンアルカ
リ300ml(105gの水酸化カリウムを75mlの水にと
かした後メタノールで300mlとしたもの)を加え
溶解した後70℃で10分間加温し、次いで1000mlの
水を加え、赤橙色の結晶を析出させた。 結晶を濾集し、減圧下乾燥し51.2gの4−アミ
ノ3,4′−ジニトロジフエニルエーテルを得た。
(収率98%) 第二工程 4−アミノ−3,4′−ジニトロジフエニルエー
テルのアクリル化 第一工程で得られた4−アミノ−3,4′−ジニ
トロジフエニルエーテル50g(0.18モル)を
THF(テトラヒドロフラン)800mlとピリジン86
g(1.08ml)とからなる混合液に溶解した溶液
に、アクリル酸クロリド66g(0.72モル)を
THF200ml溶液に溶解した溶液を室温で滴下して
1時間半で加えた。その時温度が24℃から35℃ま
で上昇した。40〜45℃で更に1時間反応させた
後、室温に戻し、反応液を濾過した。濾液を約50
mlまで濃縮後、アンモニア水(5%)3の氷水
中に注ぎ込み結晶を析出させた。結晶を濾集し室
温で減圧乾燥した。 得られた結晶をシリカゲルクロマトグラフイー
(ワコーゲルC−200 200g、展開溶媒ベンゼン)
により精製し、32.6gの4−アクリルアミド−
3,4′−ジニトロジフエニルエーテルの黄色結晶
を得た。(収率55%) 第三工程 4−アクリルアミド−3,4′−ジニトロジフエ
ニルエーテルの還元 第二工程で得られた4−アクリルアミド−3,
4′−ジニトロジフエニルエーテル16g(0.05モ
ル)を酢酸60gに溶解した溶液を、鉄粉27gを水
15gと酢酸15gに懸濁させた溶液に撹拌しながら
少量ずつ加えた。その時発熱があり、水冷し、50
℃付近で反応させた。 反応後、アンモニア水(25%)200mlの氷水中
に注ぎ込みアルカリ性とした後、更に水を600ml
加え、エーテル−酢酸エチル(3:1)で抽出
し、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を除去
し、生成物8gを得た。(収率60%) 融点 105〜106℃ 元素分析値 (C15H15O2として) C H N 実測値(%) 66.46 5.71 15.60 計算値(%) 66.90 5.61 15.60 又、生成物について、赤外吸収スペクトル(第
1図参照)、及びH−NMRスペクトルを測定し、
目的物であることを確認した。 実施例 2 4−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフエ
ニルエーテルの合成 第一工程 4−アミノ−3,4′−ジニトロジフエニルエー
テルのシンナムアミド化 実施例1の第一工程で得られた4−アミノ3−
4′−ジニトロジフエニルエーテル20g(0.07モ
ル)をTHF300mlに溶解し、更にピリジン34.4g
(0.44ml)を加えた溶液に、ケイ皮酸クロリド36
g(0.21モル)をTHF100mlに溶かした溶液を室
温で滴下して加えた。その時33℃まで発熱があ
り、滴下後40℃で1時間反応させた。反応液を水
に注ぎ込み結晶を折出させ、結晶を濾別し、18.5
gの4−シンナムアミド−3,4′−ジニトロジフ
エニルエーテルを得た。(収率63%) 第二工程 4−シンナムアミド−3,4′−ジニトロジフエ
ニルエーテルの還元 第一工程で得られた4−シンナムアミド−3,
4′−ジニトロジフエニルエーテル17.8g(0.044モ
ル)を600mlの酢酸に溶解し、この溶液を鉄粉45
gを水15gと酢酸15gに懸濁させた溶液に激しく
撹拌しながら少量ずつ添加し、反応温度は45〜50
℃で行つた。 添加終了後、アンモニア水でアルカリ性にする
と沈澱が析出した。全量に水を適当に加え、酢酸
エチルで抽出し、乾燥、溶媒除去後、黄色の生成
物11.4gを得た。(収率75%) 融点 182〜184℃ 元素分析値 C H N 実測値 72.97 5.62 12.22 計算値 73.02 5.54 12.17 又、生成物について、赤外吸収スペクトル(第
2図参照)、及びH−NMRスペクトルを測定し、
目的物であることを確認した。 合成例 1 N−メチル−2−ピロリドン(NMP)41.5ml
に3,3′,4,4′−ビフエニルテトラカルボン酸
二無水物5.56gと4−アクリルアミド−3,4′−
ジアミノジフエニルエーテル5.09gを加え30℃で
20時間撹拌して反応させ、ポリアミツク酸を得
た。 次に、NMP156mlを加えポリアミツク酸を希
釈したのち、無水酢酸38.6g、ピリジン14.7g、
ベンゼン30.2ml及びNMP26.0mlを加え、50℃で
1時間反応させイミド化物(前記構造単位No.1か
らなる感光性ポリイミド)を得た。 イミド化物溶液中にメタノールを滴下して加
え、ポリイミドを析出させ濾別して、黄色のポリ
イミド粉末を得た。 合成例 2 合成例1で用いた4−アクリルアミド−3,
4′−ジアミンジフエニルエーテルの代わりに、4
−シンナムアミド−3,4′−ジアミノジフエニル
エーテルを用いて合成例1と同様な反応を行い、
前記構造単位No.2からなる感光性ポリイミドを得
た。 物性試験 上記合成例1及び2で得たポリイミドについて
下記(1)〜(5)の物性試験を行い下表に示す結果を得
た。 (1) ポリイミドの粘度 ポリイミド0.5gNMP100mlの濃度のポリイミ
ド溶液を30℃で対数粘度を測定した。 (2) ポリイミドの成膜性 厚さ約10μのポリイミドフイルムをガラス板上
に作成し、これを水に浸して剥離し、180゜に折り
曲げ、クラツクのない場合を〇、クラツクありを
△、製膜時にクラツクの生じるものを×とした。 (3) ポリイミドフイルムの溶解性 厚さ約10μのポリイミドフイルムを室温で
NMP中に浸漬し撹拌し、溶解性を観察して、溶
解性の良否を判定した。 (4) 熱分解開始温度 理学電気(株)製差動熱天秤TG−DSCにより、重
量減の開始温度を測定した。 (5) 光硬化特性 ポリイミドの10%NMP溶液に6phrのミヒラー
ズケトンを添加して調整した感光性ポリイミド溶
液をガラス板上に回転塗布機(2000〜5000rpm)
を用いて、数μの厚さ(下表参照)に塗布し、圧
力1〜2mmHgの減圧下、50℃で5時間乾燥して
薄膜を作成し、この薄膜について下記の光感度及
び解像力の試験に供した。 光感度 上記薄膜を、超高圧水銀灯(ジエツトライト
2kW)を用いて、照度7.2mw/cm2(350mμ)で
照射して光硬化させ、光硬化する迄の光照射量
(J/cm2)を測定した。 解像力 上記薄膜についてテストチヤートとして凸版印
刷(株)製ネガ型テストチヤート(トツパンテストチ
ヤートN、最小線巾0.98±0.25μ)を用いてレリ
ーフパターンを形成し、パターンの良否を判定し
た。
第1図及び第2図は、それぞれ本発明の実施例
で合成した新規モノアミド芳香族ジアミン化合物
の赤外吸収スペクトルのチヤートを示す。
で合成した新規モノアミド芳香族ジアミン化合物
の赤外吸収スペクトルのチヤートを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 次式で表される、新規なモノアミド芳香族ジ
アミン化合物。 (式中、Xは、水素原子又は【式】を示 す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21808982A JPS59108750A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 新規なモノアミド芳香族ジアミン化合物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21808982A JPS59108750A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 新規なモノアミド芳香族ジアミン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59108750A JPS59108750A (ja) | 1984-06-23 |
JPH037655B2 true JPH037655B2 (ja) | 1991-02-04 |
Family
ID=16714459
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21808982A Granted JPS59108750A (ja) | 1982-12-13 | 1982-12-13 | 新規なモノアミド芳香族ジアミン化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59108750A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100583857B1 (ko) * | 1998-04-01 | 2006-05-26 | 가부시키가이샤 가네카 | 폴리이미드화합물 |
-
1982
- 1982-12-13 JP JP21808982A patent/JPS59108750A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59108750A (ja) | 1984-06-23 |
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