JPH0372628B2 - - Google Patents
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- JPH0372628B2 JPH0372628B2 JP57210687A JP21068782A JPH0372628B2 JP H0372628 B2 JPH0372628 B2 JP H0372628B2 JP 57210687 A JP57210687 A JP 57210687A JP 21068782 A JP21068782 A JP 21068782A JP H0372628 B2 JPH0372628 B2 JP H0372628B2
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Steroid Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の詳細な説明〕
本発明は式
式中、Rはベンジル基を表わす、
の光学的活性ラクトンの新規な製造方法に関す
る。
る。
式のこの光学的活性ラクトンは(+)−ビオ
チン並びにその誘導体及びこれに関連する化合物
を合成する際の公知の価値ある中間体である。
チン並びにその誘導体及びこれに関連する化合物
を合成する際の公知の価値ある中間体である。
式に関連して用いた表示“(3aS,6aR)”に
おいて、本発明の範囲内でベンゼンまたはクロロ
ホルム中で右旋性である対掌体と理解すべきであ
る。この対掌体を以下に(+)−ラクトンとして
表わす。
おいて、本発明の範囲内でベンゼンまたはクロロ
ホルム中で右旋性である対掌体と理解すべきであ
る。この対掌体を以下に(+)−ラクトンとして
表わす。
式の(+)−ラクトンの製造方法はドイツ国
特許明細書第2,058,248号によりすでに公知で
ある。この方法においては、式 式中、Rは上記の意味を有し、そしてR1はコ
レステリルまたはシクロヘキシル基を表わす、 のラセミ・ヘミエステルをその光学的対掌体に分
割し、そして所望の対掌体を式の(+)−ラク
トンに転化する。しかしながら、この方法はラセ
ミ体分割において生じる望ましくない対掌体を再
環化しなければならぬ欠点を有する。
特許明細書第2,058,248号によりすでに公知で
ある。この方法においては、式 式中、Rは上記の意味を有し、そしてR1はコ
レステリルまたはシクロヘキシル基を表わす、 のラセミ・ヘミエステルをその光学的対掌体に分
割し、そして所望の対掌体を式の(+)−ラク
トンに転化する。しかしながら、この方法はラセ
ミ体分割において生じる望ましくない対掌体を再
環化しなければならぬ欠点を有する。
従つてまた、この望ましくない対掌体を式の
所望の(+)−ラクトンに転化し得る方法が要求
されている。これが今回本発明によつて可能とな
つた。かくして、驚くべきことに、この望ましく
ない対掌体を、対応する酸塩化物に転化した後、
水素化ジアルキルアルミニウムまたは水素化ホウ
素錯体で選択的に還元することにより式の
(+)−ラクトンを生成させることができることを
見出した。
所望の(+)−ラクトンに転化し得る方法が要求
されている。これが今回本発明によつて可能とな
つた。かくして、驚くべきことに、この望ましく
ない対掌体を、対応する酸塩化物に転化した後、
水素化ジアルキルアルミニウムまたは水素化ホウ
素錯体で選択的に還元することにより式の
(+)−ラクトンを生成させることができることを
見出した。
「水素化ジアルキルアルミニウム」とは本発明
の範囲内において、アルキル基が炭素原子2〜8
個を含み且つ直鎖状または分枝鎖状であり得る水
素化アルミニウムであると理解すべきである。か
かる水素化アルミニウムの例は水素化ジエチルア
ルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム
(DIBAH)、水素化ジ−n−ヘキシルアルミニウ
ム等である。
の範囲内において、アルキル基が炭素原子2〜8
個を含み且つ直鎖状または分枝鎖状であり得る水
素化アルミニウムであると理解すべきである。か
かる水素化アルミニウムの例は水素化ジエチルア
ルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム
(DIBAH)、水素化ジ−n−ヘキシルアルミニウ
ム等である。
「水素化ホウ素錯体」とは、本発明の範囲内に
おいて、特に陽イオンがアルカリ金属例えばリチ
ウム、ナトリウムもしくはカリウムまたはテトラ
アルキルアンモニウムイオン例えばテトラブチル
アンモニウムであり得るものと理解すべきであ
る。更に、水素原子がシアノ基で置換された水素
化物、例えば水素化シアノホウ素リチウム、ナト
リウムまたはカリウムであると理解すべきであ
る。
おいて、特に陽イオンがアルカリ金属例えばリチ
ウム、ナトリウムもしくはカリウムまたはテトラ
アルキルアンモニウムイオン例えばテトラブチル
アンモニウムであり得るものと理解すべきであ
る。更に、水素原子がシアノ基で置換された水素
化物、例えば水素化シアノホウ素リチウム、ナト
リウムまたはカリウムであると理解すべきであ
る。
従つて、本発明における方法は一般式
式中、RおよびR1は上記の意味を有する、
の光学的活性化合物を水素化ジアルキルアルミニ
ウムまたは水素化ホウ素錯体で還元することから
なる。
ウムまたは水素化ホウ素錯体で還元することから
なる。
式Aのラセミ化合物の分割において、分割剤と
して用いた塩基による塩の型で望ましくない対掌
体が生じ、このものから対応する光学的活性酸を
それ自体公知の方法において容易に遊離させるこ
とができる。
して用いた塩基による塩の型で望ましくない対掌
体が生じ、このものから対応する光学的活性酸を
それ自体公知の方法において容易に遊離させるこ
とができる。
これらの酸はそれ自体公知の方法において式
の光学的活性酸塩化物に転化することができる。
この転化は不活性有機溶媒中の適当なハロゲン化
剤によつて有利に行われる。ハロゲン化剤として
特に塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン等を
挙げることができる。塩化チオニルが特に好まし
い。不活性有機溶媒として芳香族及び脂肪族炭化
水素例えばベンゼン、トルエン、ヘキサン、イソ
オクタン等を挙げることができる。
の光学的活性酸塩化物に転化することができる。
この転化は不活性有機溶媒中の適当なハロゲン化
剤によつて有利に行われる。ハロゲン化剤として
特に塩化チオニル、三塩化リン、五塩化リン等を
挙げることができる。塩化チオニルが特に好まし
い。不活性有機溶媒として芳香族及び脂肪族炭化
水素例えばベンゼン、トルエン、ヘキサン、イソ
オクタン等を挙げることができる。
この方法の場合に好ましい溶媒は芳香族炭化水
素、特にベンゼン及びトルエンである。温度及び
圧力はこの転化においては臨界的ではなく、従つ
て常圧及びほぼ室温乃至約60℃の温度で容易に行
うことができる。
素、特にベンゼン及びトルエンである。温度及び
圧力はこの転化においては臨界的ではなく、従つ
て常圧及びほぼ室温乃至約60℃の温度で容易に行
うことができる。
式の光学的活性酸塩化物は新規な化合物であ
り、このものもまた本発明の一目的である。
り、このものもまた本発明の一目的である。
式の化合物の還元は本発明に従い、水素化ジ
アルキルアルミニウムまたは水素化ホウ素錯体に
よつて行われ、水素化ホウ素リチウム及び水素化
ホウ素ナトリウムが好ましい。この反応は殊に好
ましい反応条件下で酸塩化物に対して不活性であ
り且つ更に用いる水素化物が少なくとも一部可溶
性である溶媒中で有利に行われる。この場合に有
利な且つ一般に公知の溶媒は対応する水素化物に
関連して通常用いられる溶媒、例えば脂肪族ポリ
エーテル(例えばモノグリム及びジグリム)並び
にテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、
トルエンまたはその混合物もしくは水性混合物で
ある。
アルキルアルミニウムまたは水素化ホウ素錯体に
よつて行われ、水素化ホウ素リチウム及び水素化
ホウ素ナトリウムが好ましい。この反応は殊に好
ましい反応条件下で酸塩化物に対して不活性であ
り且つ更に用いる水素化物が少なくとも一部可溶
性である溶媒中で有利に行われる。この場合に有
利な且つ一般に公知の溶媒は対応する水素化物に
関連して通常用いられる溶媒、例えば脂肪族ポリ
エーテル(例えばモノグリム及びジグリム)並び
にテトラヒドロフラン、ジメチルホルムアミド、
トルエンまたはその混合物もしくは水性混合物で
ある。
所望の還元があまり遅く進行せぬため、そして
望ましくない副生成物を生じぬために、上記の水
素化物を好ましくは反応混合物に溶解した状態で
加える。
望ましくない副生成物を生じぬために、上記の水
素化物を好ましくは反応混合物に溶解した状態で
加える。
水性媒質中で用いられる水素化物例えは水素化
ホウ素ナトリウムに対する適当な溶媒はこの場
合、ジメチルホルムアミドの外に、またジグリム
及び特に水である。この場合、還元中の温度は約
40℃〜約−30℃、好ましくは約0℃〜約−30℃、
特に約−10℃〜約−20℃が有利である。
ホウ素ナトリウムに対する適当な溶媒はこの場
合、ジメチルホルムアミドの外に、またジグリム
及び特に水である。この場合、還元中の温度は約
40℃〜約−30℃、好ましくは約0℃〜約−30℃、
特に約−10℃〜約−20℃が有利である。
水に敏感な水素化物例えば水素化ホウ素リチウ
ムまたは水素化ジイソブチルアルミニウムに対す
る適当な溶媒はこの場合、特に炭化水素例えばト
ルエン等またはエーテル例えばテトラヒドロフラ
ンである。この場合に反応中の温度は有利にはほ
ぼ室温乃至約−20℃、好ましくは約10℃〜約−10
℃、特に約5℃〜約−5℃である。
ムまたは水素化ジイソブチルアルミニウムに対す
る適当な溶媒はこの場合、特に炭化水素例えばト
ルエン等またはエーテル例えばテトラヒドロフラ
ンである。この場合に反応中の温度は有利にはほ
ぼ室温乃至約−20℃、好ましくは約10℃〜約−10
℃、特に約5℃〜約−5℃である。
圧力は臨界的ではなく、この反応は常圧下で適
当に行われる。本発明による還元に用いる水素化
物の量は用いる酸塩化物1モル当り有利には約
0.5乃至約2.5モル間である。水素化ホウ素ナトリ
ウムを用いる場合、好ましい量は約1〜約1.25モ
ルであり、水素化ホウ素リチウムを用いる場合、
好ましい量は約0.8〜約0.85モルであり、そして
DIBAHを用いる場合、好ましい量は約2モルで
あり、これらの量は酸塩化物1モル当りの量であ
る。
当に行われる。本発明による還元に用いる水素化
物の量は用いる酸塩化物1モル当り有利には約
0.5乃至約2.5モル間である。水素化ホウ素ナトリ
ウムを用いる場合、好ましい量は約1〜約1.25モ
ルであり、水素化ホウ素リチウムを用いる場合、
好ましい量は約0.8〜約0.85モルであり、そして
DIBAHを用いる場合、好ましい量は約2モルで
あり、これらの量は酸塩化物1モル当りの量であ
る。
水性系を用いる場合、また還元に対する競合反
応として酸塩化物官能基の加水分解が起こり得る
ために、水性媒質中に使用できる水素化物を速か
に且つ低温で式の化合物の溶液に加えることが
有利である。
応として酸塩化物官能基の加水分解が起こり得る
ために、水性媒質中に使用できる水素化物を速か
に且つ低温で式の化合物の溶液に加えることが
有利である。
本発明による方法の本質的に好ましくは具体化
例は、例えば約−20℃に冷却したテトラヒドロフ
ラン中の式の化合物の溶液を水素化ホウ素ナト
リウム水溶液で還元することからなる。
例は、例えば約−20℃に冷却したテトラヒドロフ
ラン中の式の化合物の溶液を水素化ホウ素ナト
リウム水溶液で還元することからなる。
更に好ましい具体化例は、約0℃に冷却したテ
トラヒドロフランまたはトルエン中の式の化合
物の溶液をテトラヒドロフラン中の水素化ホウ素
ナトリウムの溶液で還元することからなる。
トラヒドロフランまたはトルエン中の式の化合
物の溶液をテトラヒドロフラン中の水素化ホウ素
ナトリウムの溶液で還元することからなる。
以下の実施例は本発明をさらに説明するもので
ある: 実施例 1 シクロヘキシル(4S,5R)−1,3−ジベンジ
ル−5−クロロカルボニル−2−オキソ−4−イ
ミダゾリジンカルボキシレート4.55g(10ミリモ
ル)をテトラヒドロフラン10mlに溶解し、この溶
液をドライアイス/アセトン浴で−20℃に冷却し
た。次にはげしく攪拌しながら、温度が−20℃に
保持されるようにして、水3ml中に水素化ホウ素
ナトリウム0.47g(12.5ミリモル)の溶液を滴下
した(添加時間約3分)。次に冷却浴を除去し、
混合物を更に10分間攪拌した。これによつて温度
は−20℃から約0℃に上昇した。この混合物に25
%塩酸8ml及び水30mlの溶液を0℃〜−10℃(氷
浴冷却)で5分以内に滴下した。最初に強い発泡
を生じた。次に混合物を60℃で20分間攪拌し、続
いて水流ポンプによる真空下で約15mlに濃縮し
た。これに水15mlを加え、この混合物を0℃で1
時間放置した。晶出した粗製の生成物を吸引別
し、水ですすぎ、真空下にて60℃で4時間乾燥し
た。晶出物を熱イソプロパノール15mlに溶解し、
0℃で18時間放置して結晶化させた。次に生成物
を吸引別し、氷冷したイソプロパノール5mlで
2回すすいだ。真空下にて60℃で6時間乾燥した
後、最初の結晶が得られた:2.84g(88%)、融
点116〜117℃。
ある: 実施例 1 シクロヘキシル(4S,5R)−1,3−ジベンジ
ル−5−クロロカルボニル−2−オキソ−4−イ
ミダゾリジンカルボキシレート4.55g(10ミリモ
ル)をテトラヒドロフラン10mlに溶解し、この溶
液をドライアイス/アセトン浴で−20℃に冷却し
た。次にはげしく攪拌しながら、温度が−20℃に
保持されるようにして、水3ml中に水素化ホウ素
ナトリウム0.47g(12.5ミリモル)の溶液を滴下
した(添加時間約3分)。次に冷却浴を除去し、
混合物を更に10分間攪拌した。これによつて温度
は−20℃から約0℃に上昇した。この混合物に25
%塩酸8ml及び水30mlの溶液を0℃〜−10℃(氷
浴冷却)で5分以内に滴下した。最初に強い発泡
を生じた。次に混合物を60℃で20分間攪拌し、続
いて水流ポンプによる真空下で約15mlに濃縮し
た。これに水15mlを加え、この混合物を0℃で1
時間放置した。晶出した粗製の生成物を吸引別
し、水ですすぎ、真空下にて60℃で4時間乾燥し
た。晶出物を熱イソプロパノール15mlに溶解し、
0℃で18時間放置して結晶化させた。次に生成物
を吸引別し、氷冷したイソプロパノール5mlで
2回すすいだ。真空下にて60℃で6時間乾燥した
後、最初の結晶が得られた:2.84g(88%)、融
点116〜117℃。
母液から、イソプロパノール3mlによつて結晶
化させ、イソプロパノール1mlで2回すすぐこと
により、第二の結晶が得られた:0.30g(9.3
%)、融点116〜117℃。
化させ、イソプロパノール1mlで2回すすぐこと
により、第二の結晶が得られた:0.30g(9.3
%)、融点116〜117℃。
従つて合計収量は(3aR,6aR)−1,3−ジ
ベンジルジヒドロ−1H−フロ〔3,4−d〕イ
ミダゾール−2,4(3H,3aH)−ジオン3.14g
(97%)であつた。融点=116〜117℃;〔α〕20 D=
+60.6°(CHC13中1%)。
ベンジルジヒドロ−1H−フロ〔3,4−d〕イ
ミダゾール−2,4(3H,3aH)−ジオン3.14g
(97%)であつた。融点=116〜117℃;〔α〕20 D=
+60.6°(CHC13中1%)。
出発物質として用いたシクロヘキシル(4S,
5R)−1,3−ジベンジル−5−クロロカルボニ
ル−2−オキソ−4−イミダゾリジンカルボキシ
レートは次の如くして製造することができた: 4−シクロヘキシル−5−水素(4S,5R)−
1,3−ジベンジル−2−オキソ−4,5−イミ
ダゾリジンジカルボキシレート4.365g(10ミリ
モル)、トルエン10ml及び塩化チオニル1.5ml(20
ミリモル)をアルゴン雰囲気下にて容量100mlの
スルホン化用フラスコに入れ、この混合物を40℃
で2時間攪拌した(ガスの発生は約1時間後に終
つた)。トルエン及び過剰量の塩化チオニルを水
流ポンプによる真空下にて、CO2−冷却トラツプ
を連結して留去した(油浴55℃)。蒸留が終了し
た際、このものを室温に冷却し、アルゴンによつ
て常圧にした。かくして、シクロヘキシル(4S,
5R)−1,3−ジベンジル−5−クロロカルボニ
ル−2−オキソ−4−イミダゾリジンカルボキシ
レート4.55gが得られた。
5R)−1,3−ジベンジル−5−クロロカルボニ
ル−2−オキソ−4−イミダゾリジンカルボキシ
レートは次の如くして製造することができた: 4−シクロヘキシル−5−水素(4S,5R)−
1,3−ジベンジル−2−オキソ−4,5−イミ
ダゾリジンジカルボキシレート4.365g(10ミリ
モル)、トルエン10ml及び塩化チオニル1.5ml(20
ミリモル)をアルゴン雰囲気下にて容量100mlの
スルホン化用フラスコに入れ、この混合物を40℃
で2時間攪拌した(ガスの発生は約1時間後に終
つた)。トルエン及び過剰量の塩化チオニルを水
流ポンプによる真空下にて、CO2−冷却トラツプ
を連結して留去した(油浴55℃)。蒸留が終了し
た際、このものを室温に冷却し、アルゴンによつ
て常圧にした。かくして、シクロヘキシル(4S,
5R)−1,3−ジベンジル−5−クロロカルボニ
ル−2−オキソ−4−イミダゾリジンカルボキシ
レート4.55gが得られた。
実施例 2
シクロヘキシル(4S,5R)−1,3−ジベンジ
ル−5−クロロカルボニル−2−オキソ−4−イ
ミダゾリジンカルボキシレート(実施例1に従つ
て製造したもの)45.5g(100ミリモル)をテト
ラヒドロフラン50mlに溶解した。この透明な溶液
に0℃で60分以内に、テトラヒドロフラン中の
1M水素化ホウ素リチウム溶液80ml(80ミリモル)
を滴下した。次にこの混合物を0℃で更に30分間
攪拌した。1N塩酸100mlを0℃で注意して滴下し
た。この混合物を70℃で30分間攪拌し、続いて回
転蒸発機中で100mlに濃縮した。これに水200mlを
加え、この混合物を0℃で18時間放置して結晶化
させた。晶出した粗製の生成物を吸引別し、水
で洗浄して中性にした。真空下にて60℃で4時間
乾燥した後、粗製の生成物を熱イソプロパノール
100mlに溶解し、0℃で18時間放置して結晶化さ
せた。次に生成物を吸引別し、氷冷したイソプ
ロパノール各20mlで2回すすいだ。水流ポンプに
よる真空下にて60℃で6時間乾燥した後、融点
116〜117℃の(3aR,6aR)−1,3−ジベンジ
ルジヒドロ−1H−フロ〔3,4−d〕イミダゾ
ール−2,4(3H,3aH)−ジオン26.5gが得ら
れた。
ル−5−クロロカルボニル−2−オキソ−4−イ
ミダゾリジンカルボキシレート(実施例1に従つ
て製造したもの)45.5g(100ミリモル)をテト
ラヒドロフラン50mlに溶解した。この透明な溶液
に0℃で60分以内に、テトラヒドロフラン中の
1M水素化ホウ素リチウム溶液80ml(80ミリモル)
を滴下した。次にこの混合物を0℃で更に30分間
攪拌した。1N塩酸100mlを0℃で注意して滴下し
た。この混合物を70℃で30分間攪拌し、続いて回
転蒸発機中で100mlに濃縮した。これに水200mlを
加え、この混合物を0℃で18時間放置して結晶化
させた。晶出した粗製の生成物を吸引別し、水
で洗浄して中性にした。真空下にて60℃で4時間
乾燥した後、粗製の生成物を熱イソプロパノール
100mlに溶解し、0℃で18時間放置して結晶化さ
せた。次に生成物を吸引別し、氷冷したイソプ
ロパノール各20mlで2回すすいだ。水流ポンプに
よる真空下にて60℃で6時間乾燥した後、融点
116〜117℃の(3aR,6aR)−1,3−ジベンジ
ルジヒドロ−1H−フロ〔3,4−d〕イミダゾ
ール−2,4(3H,3aH)−ジオン26.5gが得ら
れた。
母液から結晶化により融点116〜117℃の生成物
2.35gが更に得られた。合計収量は28.85g(理
論量の89.5%)であつた。
2.35gが更に得られた。合計収量は28.85g(理
論量の89.5%)であつた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 式中、Rはベンジル基を表わし、そしてR1F
コレステリルまたはシクロヘキシル基を表わす、 の光学的活性化合物を水素化ジアルキルアルミニ
ウムまたは水素化ホウ素錯体で還元することを特
徴とする式 式中、Rは上記の意味を有する、 の光学的活性ラクトンの製造方法。 2 還元を水素化ホウ素ナトリウムまたは水素化
ホウ素リチウムを用いて行う特許請求の範囲第1
項記載の方法。 3 テトラヒドロフランに溶解した式の化合物
を水素化ホウ素ナトリウム水溶液で還元すること
からなる特許請求の範囲第1または2項記載の方
法。 4 テトラヒドロフランまたはトルエンに溶解し
た式の化合物をテトラヒドロフラン中の水素化
ホウ素リチウムの溶液で還元することからなる特
許請求の範囲第1または2項記載の方法。 5 還元を約40℃〜約−30℃、好ましくは約0℃
〜約−30℃、特に約−10℃〜約−20℃の温度で行
う特許請求の範囲第1〜3項のいずれかに記載の
方法。 6 還元をほぼ室温乃至約−20℃、好ましくは約
10℃〜約−10℃、特に約5℃〜約−5℃の温度で
行う特許請求の範囲第1,2または4項記載の方
法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH780381 | 1981-12-07 | ||
CH7803/81-8 | 1981-12-07 | ||
CH4940/82-0 | 1982-08-18 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS58105990A JPS58105990A (ja) | 1983-06-24 |
JPH0372628B2 true JPH0372628B2 (ja) | 1991-11-19 |
Family
ID=4330711
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57210687A Granted JPS58105990A (ja) | 1981-12-07 | 1982-12-02 | ラクトンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS58105990A (ja) |
-
1982
- 1982-12-02 JP JP57210687A patent/JPS58105990A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS58105990A (ja) | 1983-06-24 |
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