JPH0371365B2 - - Google Patents

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JPH0371365B2
JPH0371365B2 JP17222483A JP17222483A JPH0371365B2 JP H0371365 B2 JPH0371365 B2 JP H0371365B2 JP 17222483 A JP17222483 A JP 17222483A JP 17222483 A JP17222483 A JP 17222483A JP H0371365 B2 JPH0371365 B2 JP H0371365B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
metal
fired
forming
oxide film
compound
Prior art date
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Expired
Application number
JP17222483A
Other languages
English (en)
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JPS6065708A (ja
Inventor
Kunyuki Hayama
Yoji Yuge
Tsutomu Watanabe
Aryoshi Ishizaki
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Lighting and Technology Corp
Original Assignee
Toshiba Lighting and Technology Corp
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Publication date
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Priority to JP17222483A priority Critical patent/JPS6065708A/ja
Publication of JPS6065708A publication Critical patent/JPS6065708A/ja
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  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕 本発明の金属酸化物被膜の形成方法の改良に関
し、特に、金属酸化物からなる光学的薄膜の形成
に適する。 〔発明の技術的背景とその問題点〕 たとえば、光干渉膜を構成する酸化チタン薄膜
などの金属酸化物を得る方法として、従来から真
空蒸着法、スパツタ法、化学的気相析出法などが
行なわれてきた。しかし、このような方法は装置
が複雑で作業性が劣る欠点があつた。 近年、このような欠点を解消する手段として有
機金属化合物溶液を塗布して酸化する方法が開発
された。この方法は有機金属化合物の溶液を基体
に塗布し、空気中で焼成して金属酸化物に変成す
るものである。しかし、この方法は焼成前の膜中
に存在する有機物成分を完全に除去するため、あ
るいは金属を完全に酸化するために焼成温度を高
くする必要がある。この場合、必然的に多くの熱
源を必要とし、また加熱装置も大形になる。 〔発明の目的〕 本発明は比較的低温で焼成できる金属酸化物被
膜の形成方法を提供することを目的とする。 〔発明の概要〕 有機金属化合物を塗布した基体をオゾンを含む
雰囲気中で焼成することにより、オゾンの強い酸
化力を利用して低温で有機金属化合物を酸化する
ものである。 〔発明の実施例〕 TiO2換算で3重量%のチタンを含む有機チタ
ン化合物たとえばチタンアルコキシドの有機溶剤
溶液に板状石英基体を浸漬し、220mm/分の速度
で引上げて上記有機チタン化合物を塗布した。つ
いで、オゾン発生器から100ml/分の流量で1容
量%のオゾンを含む空気を電気炉内に導入し、こ
の炉内で上記有機チタン化合物を塗布した基体を
500℃の温度で10分間焼成した。すると、塗布さ
れた有機チタン化合物は酸化されて酸化チタンか
らなる薄膜に変成した。この薄膜はち密で光透過
率に優れ光屈折率が大きい。そうして、この形成
方法では、有機チタン化合物溶液の濃度や粘度あ
るいは基体の引上げ速度を調整することによつて
膜厚を任意に調整できる。 つぎにこの方法で製作した試料と空気中で焼成
した比較例とについて、製品の特性を比較した。
この結果を次表に示す。
〔発明の効果〕
本発明の金属酸化物被膜の形成方法は有機金属
化合物を塗布した基体をオゾンを含む雰囲気中で
焼成して有機金属化合物を酸化し、この金属の酸
化物からなる被膜に形成するので、低温度で焼成
しても良好な酸化物被膜が得られる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 基体に有機金属化合物を塗布し、オゾンを含
    む雰囲気中で焼成して上記有機金属化合物を酸化
    し、この金属の酸化物からなる被膜に形成したこ
    とを特徴とする金属酸化物被膜の形成方法。 2 有機金属化合物を塗布した基体を予め空気中
    で予備的に焼成し、それからオゾンを含む雰囲気
    中で焼成することを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の金属酸化物被膜の形成方法。 3 焼成中雰囲気中のオゾン濃度を次第に高くす
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項または
    第2項記載の金属酸化物被膜の形成方法。
JP17222483A 1983-09-20 1983-09-20 金属酸化物被膜の形成方法 Granted JPS6065708A (ja)

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WO2010136649A1 (en) 2009-05-25 2010-12-02 Outotec Oyj Method for concentrating dilute sulfuric acid and an apparatus for concentrating dilute sulfuric acid

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