JPH0371099A - X線露光装置 - Google Patents

X線露光装置

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Publication number
JPH0371099A
JPH0371099A JP1206662A JP20666289A JPH0371099A JP H0371099 A JPH0371099 A JP H0371099A JP 1206662 A JP1206662 A JP 1206662A JP 20666289 A JP20666289 A JP 20666289A JP H0371099 A JPH0371099 A JP H0371099A
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JP
Japan
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ray
mirror
extraction window
ray extraction
holding part
Prior art date
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Pending
Application number
JP1206662A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasunao Saito
斉藤 保直
Takashi Kaneko
隆司 金子
Toyoki Kitayama
北山 豊樹
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nippon Telegraph and Telephone Corp
Original Assignee
Nippon Telegraph and Telephone Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Telegraph and Telephone Corp filed Critical Nippon Telegraph and Telephone Corp
Priority to JP1206662A priority Critical patent/JPH0371099A/ja
Publication of JPH0371099A publication Critical patent/JPH0371099A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、蓄積リングとミラーチェンバと放射光輸送部
と露光用アライナとからなるX線露光装置に関する。
[従来の技術] 最近、高出力のX線が得られるX線発生装置として、放
射光が注目され、集積回路の製造、材料等の分析に幅広
く利用されようとしている。
しかし、放射光は、第5図に示すように、X線の縦方向
の広がりが1 mrad程度であり、たとえば、10m
のビームラインではマスク面上の露光エリアはせいぜい
]、crn幅となる。垂直方向にX線を広げて露光エリ
アを大きくするためには、■ミラー揺動によるエリアの
拡大、■アライナ上のマスクとウェハーを一定の速度で
揺動させる方法、■蓄積リング内でビームを揺動させる
方法等が考えられている。蓄積リングのビームを揺動さ
せる方法は技術的にはまだ確立されておらず、アライナ
上のマスクとウェハを揺動させる装置は一部で報告され
ているのみである。現在、露光工1ノアの拡大にはミラ
ー揺動による方法が一般的に良く使用されている。しか
し、ミラーにより露光エリアを拡大してもX線取り出し
窓がアライナのマスク近傍に位置しているため、X線取
り出し窓を薄くすることができず、X線の取り出し効率
が悪いのが現状である。
第6図はX線露光装置の従来の構成図、第7図は第6図
のミラー揺動系8の構成図である。
このX線露光装置は蓄積リングIとミラーチェンバ3と
放射光輸送部16と露光用アライナ13とからなる。ミ
ラーチェンバ3内には、蓄積リングlからの放射光2を
放射光輸送部16内に反射するX線反射ミラー4と、ミ
ラー駆動棒5と、ミラー駆動系6と、ミラー揺動棒7と
、ミラー揺動系8とがあり、真空ベローズ9.】0によ
り真空中のX線反射ミラー4と大気中のミラー駆動系6
、ミラー揺動系8が真空的に隔離されている。
ミラー揺動系8は、第7図に示すように、ミラ揺動棒7
を」1下させるカム11と、力l\11を回転させるパ
ルスモータ12からなっており、X線反射ミラー4をそ
のミラー駆動棒5との連結点を支点を一定の幅で揺動さ
せる。X線反則ミラー4はこの場合、6軸駆動となって
おり、放射光2の進行方向成分をX、その水平方向直角
成分なY、」二下方向成分を2、各成分x、y、zの回
転方向成分をそれぞれa、β、γとすると、α軸がX線
反射ミラー4の揺動軸となる。ミラー駆動系6はα軸を
除く5軸の駆動を行なう。
蓄積リング1.ミラーチェンバ3、放射光輸送部16は
]〇−’Torrの超高真空となっており、超高真空と
大気とを隔てるX線取り出し窓15が放射光輸送部16
の先端に設けられている。X線取り出し窓15にはX線
透過率の高いベリリウムが一般に用いられている。X線
取り出し窓15のベリリウムは大気でのX線の減衰を少
なくするため、マスク14の近傍にあり、露光エリアの
拡大からその面積は30mm角が要求されている。
30 m、 m角の大きさで1気圧の強度を持たせるた
めには、1004m以上の膜厚が必要である。さらに、
ビームライン全体でのX線の減衰をできるだけ小さくす
るため、ベリリウムの膜厚はできるだけ薄くすることが
必要である。いま、膜厚100μmでは、波長8人でX
線透過率が5%であり、ベリリウム膜だけでX線強度が
〕/20に減衰してしまう。このように、X線取り出し
窓15は相反する条件を満たず必要があり、現在ではど
ちらかの条件を犠牲にする方法が用いられている。
[発明が解決しようとする課題] 本発明の目的は、X線取り出し窓が小さく、したがって
膜厚が薄くて済むX線露光装置を提供することである。
[課題を解決するための手段] 本発明のX線露光装置は、 蓄積リングとミラーチャンバと放射光輸送部と露光用ア
ライナとからなり、ミラーチャンバには、蓄積リングか
らの放射光を放射光輸送部内へ反射するX線反射ミラー
と、X線反射ミラーを、該放射光の進行方向に直角で、
水平な軸線のまわりに揺動させるミラー揺動機構とがあ
り、放射光輸送部の先端にはX線反射ミラーで反則され
た放射光からX線を取り出し、露光用アライナに設(つ
られたマスクに当てるX線取り出し窓が設けられている
X線露光装置において、 前記放射光輸送部が途中で分割されて、X線取り出し窓
が設けられているX線取り出し窓保持部をX線反射ミラ
ーの揺動軸と平行な直線のまわりに揺動可能に他の部分
に対して支持する支持部と、両部の接続部分をシールす
るシール部とからなる接続部機構と、 X線取り出し窓窓保持部を揺動させるX線取り出し窓保
持部揺動機構と、 X線反則ミラーの揺動に伴なう反射光のX線取り出し窓
上の移動量とX線取り出し窓窓保持部の揺動に伴なうX
線取り出し窓の移動量が同じになるようにミラー揺動機
構と態保持部揺動機構とを制御する制御系とを有するこ
とを特徴とする。
[作用] 本発明は、放射光輸送部を途中で分割してX線取り出し
態保持部を他の部分に対して真空を保持しながら揺動可
能にしX線反射ミラーの揺動に合わせてX線取り出し窓
を同時に揺動する構造とすることによって、X線取り出
し窓の大きさを小さくしたもので、これにより比較的小
さいX線取り出し窓で広い露光エリアを確保でき、さら
に、ビームラインでのX線の減衰を小さくして、X線取
り出し効率が向上する。
[実施例] 次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
第1図は本発明の第1の実施例のX線露光装置の構成図
、第2図は第1図中の放射光輸送部16とX線取り出し
態保持部17の接続部の詳細を示す図である。
本実施例は第6図の従来例のX線露光装置を改良したも
のであり、以下相違点のみ説明する。
従来の放射光輸送部16は途中で、X線取り出し窓15
が設けられているX線取り出し態保持部17とその他の
部分16とに分割され、画部分17と16の接続部は真
空ベローズ18で接続され、かつX線取り出し態保持部
17は軸受枠19によりX線反射ミラー4の揺動軸に平
行な軸線のまわりに揺動可能に部分16に連結されてい
る。
X線取り出し態保持部17には、X線取り出し態保持部
17を軸受枠19のまわりに揺動させる、X線取り出し
態保持部揺動棒20とビニオン2jとパルスモータ22
とからなるX線取り出し態保持部揺動系が設けられてい
る。ミラー揺動系とX線取り出し態保持部揺動系は駆動
電源24と言1算機25からなる制御系26に接続され
ている。計算機25にはX線反射ミラー4の各軸の1パ
ルス当りの移動量が予め記憶されており、そのパルス制
御を駆動電源24を介して行ない、さらにX線反射ミラ
ー4の揺動に伴なう反射光のX線取り出し窓15上の移
動量とX線取り出し態保持部17の揺動に伴なうX線取
り出し窓上5の移動量が同じになるようにミラー揺動系
8とX線取り出し態保持部揺動系とを駆動電源24を介
してパルス制i卸する構成となっている。なお、計算機
25からはミラー揺動幅、揺動幅の分解点数、各分解点
での揺動速度、揺動周波数などをプログラムにより入力
でき、必要に応じて任意の揺動パターンを作成して、そ
の揺動パターンでミラー揺動ができる構造にもなってい
る。
このように、X線反射ミラー4による反射光とX線取り
出し窓15の1パルス毎の移動量は同一であり、X線取
り出し窓15はX線反射ミラー4と同期して揺動するの
で、X線取り出し窓15の縦方向の幅は放射光2の開き
角により開いた幅と同じで良く、放射光2の開き角を1
 mradとし、ビームラインの長さを10mとすると
、その幅はたかだか1cmである。したがって、X線取
り出し窓15の大きさは10mmX30mmの大きさで
よく、X線取り出し窓15、すなわちベリリウムの厚さ
を極力薄くすることができる。
本実施例ではX線反射ミラー4とX線取り出し窓15の
初期位置をあらかじめ設定した場合について述べたが、
リミットスイッチを設置して、揺動棒7,20に設けた
ノブがリミットスイッチをたたいた点を零(原)点とし
てもよい。
第3図は本発明の第2の実施例で、X線取り出し窓揺動
部を示す図である。
露光時に真空ベローズは数万回の伸び縮みをするため、
その寿命が懸念されている。いま、X線取り出し態保持
部17の長さを1mとすると、30mm揺動で30mr
adの角度で振れる必要があり、真空へローズの長さを
30mmとすると、ベローズの伸縮量は25%で非常に
小さい。第3図は、窓揺動用真空ベローズ18の外側を
もう一段保護へローズ31で覆い、そこを真空ポンプ3
0で真空とすることにより、内側の窓揺動用真空べ1X
li−ズ18にかかる大気圧による応力の緩和を図り、
窓揺動用真空ベローズ18の寿命を向上させたものであ
る。
第4図は本発明の第3の実施例で、X線取り出し窓揺動
部を示す図である。
ミラーチェンバ3とX線取り出し態保持部17は球状の
回転結合部34で結合され、その中間に磁性流体33が
挿入されている。磁性流体33は磁気シール用磁石32
に保持され、シール部から流れ出すのを防止している。
このように、回転結合部34にベローズシールの代わり
に磁気シールを使用することも可能である。さらに、こ
の他ウィルソンシール、0リングシール等の使用も可能
である。
なお、ミラー揺動系、X線取り出し態保持部揺動系にそ
れぞれミラー揺動棒7.X線取り出し態保持部揺動棒2
0の直線変位を検出する位置検出器(リニアエンコーダ
等)を取り付は雨検出器からの位置信号を制御系26に
送り、該位置信号に基づいて制御系26から、X線反射
ミラー4とX線取り出し窓15が同期して同一速度で揺
動するようにしてもよい。その場合、クローズトループ
でX線反射ミラー4とX線取り出し窓15が制御されて
いるため、X線反射ミラー4とX線取り出し窓15の駆
動にはパルスモータだけでなく、直流モータも使用でき
る。
[発明の効果] 以上説明したように本発明は、X線反射ミラーとX線取
り出し窓を同時に揺動することによってX線取り出し窓
の大きさを小さくできるため、取り出し窓の寿命が延び
、また、X線取り出し窓の大きさが小さくなることから
膜厚を薄くすることが可能であり、X線取り出し効率が
向」二する効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の第1の実施例のX線露光装置の構成図
、第2図は第1図中の放射光輸送部16とX線取り出し
態保持部17の接続部の詳細を示す図、第3図は本発明
の第2の実施例の要部を示す図、第4図は本発明の第3
の実施例の要部を示す図、第5図はシンクロトン放躬先
の特徴を示す1 2 図、第6図はX線露光装置の従来例の構成図、第7図は
第6図中のミラー揺動系8の構成図である。 l・・・蓄積リング、   2・・・放射光、3・・・
ミラーチェンバ、  4・・・X線反射ミラー5・・・
ミラー駆動棒、   6・・・ミラー駆動系、7・・・
ミラー揺動棒、   8・・・ミラー揺動系、10・・
・真空ベローズ、  11・・・カム、12・・・パル
スモータ、 13・・・露光用アライナ、14・・・マスク、15・
・・X線取り出し窓、 16・・・放射光輸送部、 17・・・X線取り出し態保持部、 18・・・真空ベローズ、  19・・・軸受棒、20
・・・X線取り出し態保持部揺動棒、21・・・ビニオ
ン、    22・・・パルスモータ、24・・・駆動
電源、   25・・・計算機、26・・・制御系、 
    30・・・真空ポンプ、31・・・保護ベロー
ズ、 32・・・磁気シール用磁石、 33・・・磁性流体、 34・・・回転結合部。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、蓄積リングとミラーチャンバと放射光輸送部と露光
    用アライナとからなり、ミラーチャンバには、蓄積リン
    グからの放射光を放射光輸送部内へ反射するX線反射ミ
    ラーと、X線反射ミラーを、該放射光の進行方向に直角
    で、水平な軸線のまわりに揺動させるミラー揺動機構と
    があり、放射光輸送部の先端にはX線反射ミラーで反射
    された放射光からX線を取り出し、露光用アライナに設
    けられたマスクに当てるX線取り出し窓が設けられてい
    るX線露光装置において、 前記放射光輸送部が途中で分割されて、X線取り出し窓
    が設けられているX線取り出し窓保持部をX線反射ミラ
    ーの揺動軸と平行な直線のまわりに揺動可能に他の部分
    に対して支持する支持部と、両部の接続部分をシールす
    るシール部とからなる接続部機構と、 X線取り出し窓窓保持部を揺動させるX線取り出し窓保
    持部揺動機構と、 X線反射ミラーの揺動に伴なう反射光のX線取り出し窓
    上の移動量とX線取り出し窓窓保持部の揺動に伴なうX
    線取り出し窓の移動量が同じになるようにミラー揺動機
    構とX線取り出し窓保持部揺動機構とを制御する制御系
    とを有することを特徴とするX線露光装置。
JP1206662A 1989-08-11 1989-08-11 X線露光装置 Pending JPH0371099A (ja)

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JP1206662A JPH0371099A (ja) 1989-08-11 1989-08-11 X線露光装置

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JP1206662A JPH0371099A (ja) 1989-08-11 1989-08-11 X線露光装置

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Publication Number Publication Date
JPH0371099A true JPH0371099A (ja) 1991-03-26

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ID=16527058

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1206662A Pending JPH0371099A (ja) 1989-08-11 1989-08-11 X線露光装置

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JP (1) JPH0371099A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013072785A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Hitachi Ltd 低真空軟x線実験装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2013072785A (ja) * 2011-09-28 2013-04-22 Hitachi Ltd 低真空軟x線実験装置

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