JPH06120121A - Ｘ線リソグラフィ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】ビームライン中におけるＳＯＲ光の露光域拡大
を得るとともに、真空効率、作業効率、スペース効率を
向上させ、保守面の改善を図ったＸ線リソグラフィ装置
を提供する。 【構成】ＳＯＲリング１、Ｘ線ミラー３を配置したビー
ムライン２、Ｂｅ（ベリリウム）窓４、露光装置７とを
具備し、上記Ｘ線ミラー３は、ミラー面１１に接続され
る多数の圧電アクチュエータ１３…を備え、各圧電アク
チュエータに制御信号を送って、各圧電アクチュエータ
の動作を制御し、ミラー面１１の形状を変化させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＳＯＲ（シンクロトロ
ン放射）光を用いてパターン転写をなすＸ線リソグラフ
ィ装置に係り、特にＳＯＲ光を反射するＸ線ミラーに関
する。

【０００２】

【従来の技術】ＳＯＲ（シンクロトロン放射）光は、光
速に近い速さをもった電子（一般には荷電粒子）が円軌
道のような加速度を受ける運動を行う際に放出する電磁
波であり、このようなＳＯＲ光が、近時、Ｘ線リソグラ
フィ装置の線源として用いられるようになった。

【０００３】すなわち、ＳＯＲ光発生源としてのＳＯＲ
リングから、ＳＯＲ光を超高真空のビームラインに取出
し、このＳＯＲ光から短波長のＸ線成分をＸ線ミラーが
除去して反射する。

【０００４】上記ビームライン側の終端部には、ビーム
ラインの超高真空領域と、大気圧もしくは、ある程度減
圧されて、ヘリウムガスの影響下にある、すなわち露光
雰囲気にある露光装置側とを区分し、ＳＯＲ光から長波
長部を吸収してＸ線を取出し、露光させるＸ線透過膜で
あるＢｅ（ベリリウム）窓が設けられる。

【０００５】上記ビームラインにおけるＸ線を露光に用
いるには、露光面積拡大のため、垂直方向に拡大する必
要がある。そのため、上記Ｘ線ミラーを垂直方向に揺動
して、Ｘ線ビームを走査しなければならない。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来用いら
れるＸ線ミラーのミラー材として、ＣＮＤ法によって形
成したＳｉＣが用いられ、これを揺動駆動する機構とし
て、ＤＣサーボモータとカム機構の組合わせがある。ミ
ラーの揺動範囲は、１４．８±３mradであり、これを揺
動機構とともに、超真空領域のビームライン内に配置す
る。

【０００７】そして、露光強度の均一性を保持するため
には、ＳＯＲ光に対するスキャン速度を、Ｘ線ミラーに
対するＳＯＲ光の照射角の関数として制御する。たとえ
ば、円筒状のＸ線ミラーを用い、カム駆動に対して最適
の速度制御を行った場合に、２５mm角の露光領域におい
て、約±３％の露光強度均一性を得た。

【０００８】しかしながら、このような純粋に機械的な
ミラー揺動機構は、カム駆動に必要な複雑な機構系、
（すなわち、カム、駆動モータ、軸受具、その他の治具
類からなる）を超高真空領域にあるビームライン内に配
置しなければならず、真空化効率、作業効率、スペース
効率および保守面から問題があった。また、Ｘ線ミラー
の揺動速度を設定するにあたって、Ｘ線ミラーに対する
ＳＯＲ光の照射角の高い次元の関数式から制御するのが
一般的である。

【０００９】このような制御をもってしても、先に挙げ
たように、露光強度の均一性は±３％程度であり、露光
むらを完全に除去できない要因として、Ｘ線ミラーのミ
ラー面粗さ、ミラー形状誤差、ミラー揺動速度誤差、取
り出し窓の板厚のむらなどが考えられる。従来以上の露
光強度の均一性を求めるには、上記要因の除去、もしく
は軽減と、補正等の概念が必要となってくる。そしてま
た、従来のＸ線ミラーの揺動機構に対する制御が極めて
複雑であって、機構および制御の簡素化が要望されてい
ることも、避けられない現状である。

【００１０】本発明は、このような事情によりなされた
ものであり、その第１の目的とするところは、ビームラ
イン中におけるＳＯＲ光の露光域拡大を得るとともに、
真空効率、作業効率、スペース効率を向上させ、保守面
の改善を図ったＸ線リソグラフィ装置を提供することに
ある。

【００１１】第２の目的とするところは、実際の露光作
用に先立ってＸ線ミラーのミラー形状の補正をなし記憶
させることによって、ビームラインにおけるＳＯＲ光の
露光強度の均一化を得られるＸ線リソグラフィ装置を提
供することにある。

【００１２】第３の目的とするところは、Ｘ線の反射中
に、ミラー面形状を最適状態に変化制御することによ
り、揺動させるための機構の簡素化と、強度むら補正に
よる露光強度の均一化向上を得られるＸ線リソグラフィ
装置を提供することにある。

【００１３】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
第１の発明は、

【００１４】指向性が強く高強度のＳＯＲ（シンクロト
ロン放射）光発生源としてのＳＯＲリング、このＳＯＲ
リングよりＳＯＲ光を取出し、このＳＯＲ光を反射し、
露光領域を拡大するＸ線ミラーを配置した超高真空のビ
ームライン、このビームライン終端部に設けられビーム
ライン側の超高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気
とを区分してＸ線を取出すＢｅ（ベリリウム）窓、この
Ｂｅ窓を透過したＸ線を受け露光される露光装置とを具
備し、

【００１５】上記Ｘ線ミラーのミラー面に接続される多
数の電動アクチュエータからなるミラー面能動手段、こ
のミラー面能動手段の各電動アクチュエータに制御信号
を送って、各電動アクチュエータの動作を制御し、露光
領域拡大のためにミラー面の形状を変化させる駆動手段
を備えたＸ線リソグラフィ装置である。

【００１６】第２の発明は、Ｘ線ミラーのミラー面に接
続される多数の形状記憶性セラミックアクチュエータか
らなるミラー面能動手段、このミラー面能動手段を構成
する各アクチュエータに駆動信号を送って、ミラー面を
揺動駆動する揺動機構、露光作用に先立って上記ミラー
面で反射されるＳＯＲ光を測定し、ミラー面の形状誤差
などに起因するＳＯＲ光の強度むらデータを基に上記ア
クチュエータに指示信号を送って、それぞれの変形補正
の形状を記憶させる補正の手段とを備えた。

【００１７】第３の発明は、Ｘ線ミラーのミラー面に接
続される多数の電動アクチュエータからなるミラー面能
動手段、このミラー面能動手段の各電動アクチュエータ
に駆動信号を送って、各電動アクチュエータの動作を制
御し、ミラー面の形状を変化させる駆動手段、ミラー面
で反射されるＳＯＲ光を測定し、その測定値に基づく指
示信号を上記駆動手段にフィードバックして電動アクチ
ュエータを制御し、ミラー面形状変化にともなうＳＯＲ
光の露光強度むらを補正の手段とを備えた。

【００１８】

【作用】第１の発明では、Ｘ線ミラーのミラー面に接続
する多数の圧電アクチュエータが、駆動手段からの制御
信号を受けて動作し、ミラー面の形状を変化させるの
で、ビームラインの真空効率を損なうことなく、ＳＯＲ
光の露光域拡大が得られ、かつ簡素な構成で作業効率と
スペース効率がよくなる。

【００１９】第２の発明では、露光作用に先立って、ミ
ラー面で反射されるＳＯＲ光を測定し、ミラー面の形状
誤差などに起因するＳＯＲ光の強度むらデータを基に、
アクチュエータのそれぞれに変形補正の形状を記憶させ
るので、ビームラインにおけるＳＯＲ光の露光強度の均
一化を得られる。

【００２０】第３の発明では、ミラー面で反射されるＳ
ＯＲ光を測定し、その測定値に基づいて電動アクチュエ
ータにフィードバックして、ミラー面形状変化にＳＯＲ
光のむら補正機能を持たせるようにしたから、揺動させ
るための機構が簡素化し、強度むら補正による露光強度
が均一化する。

【００２１】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面にもとづいて
説明する。図１は、Ｘ線リソグラフィ装置の構成を概略
的に示す。

【００２２】図中、１はＳＯＲリングであり、高強度の
ＳＯＲ（シンクロトロン放射）光の発生源である。これ
は、図示しない加速器から入射される電子を、偏向電磁
石部で軌跡を曲げながら真空パイプ内を周回させ、電子
の１周期に同期して加速器で所定のエネルギに加速維持
する。

【００２３】さらに、ここで電子ビームを収束して、上
記偏向電磁石部で電子軌跡が曲げられる部分から接線方
向に、ビームライン２に沿ってＳＯＲ光を取出すように
なっている。

【００２４】上記ＳＯＲリング１は、電子運動の減衰を
極力避けるために高真空に保たれており、上記ビームラ
イン２は、ＳＯＲリング１よりＳＯＲ光を取出すため、
超高真空に形成され、かつ真空破壊防御のための、フェ
イルセーフシステムを備えている。上記ビームライン２
には、ここに導かれるＳＯＲ光を集光し、短波長のＸ線
成分を除去して反射する、後述するＸ線ミラー３が配置
される。

【００２５】このＸ線ミラー３のＳＯＲ光反射側で、か
つビームライン２の終端部には、Ｘ線透過膜としてのＢ
ｅ（ベリリウム）窓４が配置される。これは、超高真空
領域Ｍであるビームライン２と、Ｈｅ（ヘリウム）ガス
雰囲気を形成するＨｅチャンバ５の一側端とを区分して
いて、ビームライン２に導かれるＸ線をＨｅチャンバ５
内のＨｅガス中に透過させるものである。

【００２６】さらに、Ｈｅチャンバ５の他側端である、
Ｘ線取出し側にはＸ線を透過させる別の取出し窓６が設
けられていて、ここで大気圧領域とを区分して、Ｈｅチ
ャンバに導かれるＸ線を大気圧領域中に透過させる。こ
の大気圧領域には、所定のパターンを備えたマスク７お
よびレジストが塗布されたウエハ８などを備えた露光装
置９が配置される。つぎに、上記Ｘ線ミラー３を、図２
にもとづいて説明する。１０はミラー本体であって、図
における上面側には、Ｘ線反射膜の上にコーティング処
理をなした、ミラー面１１が形成される。

【００２７】このミラー面１１をミラー本体１０と一体
に形成して、ミラー本体１０ごと揺動自在に枢支する
か、あるいは、ミラー面１１をミラー本体１０と別体に
して、少なくともミラー面１１のみ揺動自在に枢支する
構成であってもよい。

【００２８】いずれにしても、上記ミラー面１１の裏面
側（図において、下面側）に、ミラー面能動手段１２を
構成する多数の電動アクチュエータであるところの圧電
アクチュエータ１３…が接続される。

【００２９】上記圧電アクチュエータ１３…は、矩形状
のミラー面１１に対して縦横とも比較的狭い同一ピッチ
を存して配置される。各アクチュエータ１３は、それぞ
れの作動子がミラー面１１の裏面側に直接接続され、こ
の作動子の伸縮動作によってミラー面１１の形状が変化
するようになっている。

【００３０】さらに、各圧電アクチュエータ１３…は、
駆動手段を構成するドライバ１４…に、それぞれ電気的
に接続される。全てのドライバ１４…は、ビームライン
２の外部に配置すればよく、その結果、ドライバ１４に
対する真空対策構造が不要であり、保守が容易である一
方、ビームライン２のスペース効率が向上する。

【００３１】各ドライバ１４…は、それぞれに電気的に
接続される圧電アクチュエータ１３…に制御信号を送っ
て、各圧電アクチュエータ１３の動作を制御し、その結
果、ミラー面１１の形状を変化させるようになってい
る。つぎに、このようにして構成されるＸ線ミラー３を
備えたＸ線リソグラフィ装置の作用を説明する。

【００３２】図３に示すように、ＳＯＲリングから放射
されるＸ線域は、図において矢印Ｚに示す方向に極めて
狭く、これと直交する方向には、充分な幅を有するのが
特徴である。

【００３３】そこで、図５（Ａ）から同図（Ｂ）に示す
ように、Ｘ線ミラー３に導かれたＳＯＲ光を、ミラ−３
を揺動駆動することによって、この露光域を拡大しなけ
ればならない。

【００３４】実際の上記装置では、図４（Ａ）に示すよ
うに、ＳＯＲリング１からビームライン２に取り出され
たＳＯＲ光がＸ線ミラー３に到達すると、ここでは少な
くともミラー面１１が揺動駆動されていて、上記Ｂｅ窓
４方向へ反射される。

【００３５】なお説明すれば、各アクチュエータ１３…
に電気的に接続するドライバ１４…が、図において右上
がり状態にミラー面１１を傾斜させるよう駆動し、さら
に時間の経過とともに傾斜角度を少なくして水平に戻
し、さらには、同図（Ｂ）に示すように、逆の右下がり
状態に変化させる。

【００３６】所定角度まで傾斜したら、今度は、逆方向
に駆動して、一旦水平状態に戻してから、同図（Ａ）の
状態に戻る。すなわち、少なくともミラー面１１は経時
的に揺動駆動され、ここに導かれるＳＯＲ光の反射光路
を振らせて、Ｘ線露光域の拡大を図る。

【００３７】普通、上記Ｘ線ミラー３の揺動角度は〜１
°であり、各アクチュエータ１３…の変位速度（変位速
度プロファイル）は、少なくとも上記ミラー面１１にお
ける照射角の関数として制御することとなる。

【００３８】上記関数は、実際的には、拡大露光面積、
露光強度、要求露光均一性値、Ｘ線ミラー３に対する各
アクチュエータ１３の設定位置等から、計算によって求
められる。このような揺動角度範囲内での高精度制御
は、Ｘ線ミラー３のストローク、アクチュエータ１３の
高出力化および小型化の促進によって可能となる。な
お、上記アクチュエータ１３は、圧電素子に限定される
ものではなく、たとえば、電歪素子、磁歪素子、リニア
モータなどを採用しても支障がない。図７に示すような
構成の、Ｘ線リソグラフィ装置であってもよい。後述す
るＸ線ミラー３Ａ以外の構成部品は、先に図１で説明し
たものと全く同様でよいので、ここでは同番号を付して
新たな説明を省略する。

【００３９】上記Ｘ線ミラー３Ａは、先に図２で説明し
たように、ミラー本体１０にミラー面１１を一体もしく
は別体にして備え、上記ミラー面１１に接続されるミラ
ー面能動手段として、形状記憶性セラミックアクチュエ
ータ１３Ａ…を用いる。

【００４０】この形状記憶性セラミックアクチュエータ
１３Ａは、上記実施例に用いられた圧電アクチュエータ
１３と、矩形状のミラー面１１に対する配置および、そ
れぞれの作動子がミラー面１１の裏面側に直接接続され
て、作動子の伸縮動作によってミラー面１１の形状が変
化するようになっている点において同一であるので、概
略構成を表す図として、図２に示したものをそのまま適
用する。

【００４１】上記形状記憶性セラミックアクチュエータ
１３Ａは、鉛、ニオブ、ジルコン、錫、チタンの固溶系
であるＰＮＺＳＴは、反強誘電体であるが、これに電界
（約２５KV／cm）を印加すると、強誘電相に相転移し、
大きな歪み（圧電体の約２倍）を生じる。

【００４２】そして、一旦、強誘電相に相転移すると、
電界を０にしても元の反強誘電相に戻ることはなく、歪
みを維持し続ける。これを元の反強誘電相に戻すには、
小さな逆電界を印加する必要があり、このような現象を
セラミックにおける形状記憶効果と呼んでいる。すなわ
ち、一定の変位量を維持したい場合にも、パルス電界を
印加するだけでよく、変位量および発生力が圧電体と比
較して２倍程度大きい利点を有する。再び、図７に示す
ように、上記アクチュエータ１３Ａに駆動信号を送る駆
動回路１５が電気的に接続され、これらで揺動機構１６
が構成される。

【００４３】一方、上記Ｈｅチャンバ５内には、たとえ
ば電子増倍管からなる測定器１７が配置されていて、チ
ャンバ５内を導かれるＳＯＲ光の露光強度を測定して、
上記アクチュエータ１３Ａを駆動するドライバ１４…に
電気信号を送るようになっている。ここでは、上記測定
器１７と、ドライバ１４とで補正手段１８が構成される
ことになる。

【００４４】なお説明すれば、上記補正手段１８の作用
は、実際の露光作用前にのみ、行われる。すなわち、Ｓ
ＯＲリング１からＳＯＲ光を照射させ、かつ揺動機構１
６を作動してミラー面１１を揺動駆動し、この反射光路
にＳＯＲ光を導いた状態で、測定器１７がＳＯＲ光を測
定する。

【００４５】上記ミラー面１１は、計算上は均一な露光
強度が得られるように、その形状、および揺動速度が定
められるが、先に説明したように、Ｘ線ミラーの形状誤
差、表面粗さ、揺動速度誤差、Ｘ線取出し窓の膜厚むら
等がある。

【００４６】そのため、図９に示すように、露光域に対
するＳＯＲ光強度が、本来、設計値では一定であるとこ
ろが、実測では設計値とは異なる露光強度むらが生じた
状態を測定する。

【００４７】上記測定器１７は、その測定信号を各ドラ
イバ１４…に送る。それぞれのドライバ１４…は、でき
るだけ均一な露光強度が得られるように、上記形状記憶
性セラミックアクチュエータ１３Ａ…に適応する電圧を
供給する。各アクチュエータ１３Ａは、形状記憶性であ
るところから、ミラー面１１の形状補正を行うととも
に、最適値を記憶する。

【００４８】実際上は、測定器１７が測定した露光強度
むらデータに加えて、拡大露光面積、露光強度、要求露
光均一性、ミラー面１１に対する各アクチュエータ１３
Ａの設定位置などから、各アクチュエータ１３Ａの印加
電圧を算出する。このような補正が、一旦完了すれば、
補正手段１８を構成する測定器１７、および各ドライバ
１４…を取り外すことができる。

【００４９】このような補正をなすことにより、実際の
露光作用にあたっては、現状の露光強度均一性（±３％
程度）の、それ以上の均一性向上が得られることとな
る。そして、上記形状記憶性セラミックの圧電定数は、
通常用いられる圧電セラミックの圧電定数とほとんど変
わりがなく、しかも、変位分解能は、圧電セラミック並
みの、０．１ｎｍオーダが予想されて、精密なミラー形
状補正が可能である。図８に示すような構成の、Ｘ線リ
ソグラフィ装置であってもよい。

【００５０】この場合、Ｘ線ミラー３Ｂは、先に図２に
おいて説明した、ミラー面１１を駆動する能動手段とし
て、たとえば圧電アクチュエータのごとき電動アクチュ
エータ１３を用いる。

【００５１】一方、上記Ｈｅチャンバ５内には、たとえ
ば電子増倍管からなる測定器１７Ａが配置されていて、
チャンバ５内を導かれるＳＯＲ光の露光強度を常時測定
して、リアルタイムで制御回路１９に測定信号を送り、
ここから上記アクチュエータ１３を駆動するドライバ１
４に電気信号を送るようになっている。これら測定器１
７Ａと、制御回路１９とで、制御手段２０が構成され
る。

【００５２】なお説明すれば、ＳＯＲリング１からＳＯ
Ｒ光を照射し、かつドライバ１４がミラー面１１を揺動
駆動し、反射光路にＳＯＲ光を導く状態で、常時、測定
器１７ＡがＳＯＲ光の露光強度を測定する。

【００５３】このＸ線ミラー１３Ｂにおいても、計算上
は均一な露光強度が得られるように、その形状、および
揺動速度が定められるが、実際には、ミラー面１１の形
状誤差等があり、かつ図９に示したように、露光域に対
するＳＯＲ光強度が設計値とは異なる露光強度むらが生
じる。

【００５４】上記測定器１７Ａは、反射ＳＯＲ光をリア
ルタイムで測定して、その強度分布信号を制御回路１９
へ送る。ここで測定結果を記憶し、かつその結果から、
ミラー面１１の理想の曲面形状を演算して、上記各ドラ
イバ１４を介して、それぞれのアクチュエータ１３へフ
ィードバックする。各ドライバ１４は、できるだけ均一
な露光強度が得られるように、上記アクチュエータ１３
へ適応する電圧を供給する。

【００５５】すなわち、従来よりＸ線ミラーとして用い
られる、シリンドリカルミラーの場合は、図１０（Ａ）
に示すように、ミラーの揺動速度（揺動速度の時間関
数）が、ＳＯＲ光のミラーに対する照射角の関数として
正弦曲線となるよう制御される。したがって、制御とし
ては、極めて複雑にならざるを得ない。

【００５６】本発明では、同図（Ｂ）に示すように、露
光域での強度の均一性を簡単な揺動速度の時間関数で達
成できるように、ミラー面１１を揺動しながら、アクチ
ュエータ１３によって形状を補正変化させる。

【００５７】実際には、図６に示すように、たとえば矩
形状の露光域Ｒに対して、弧状に彎曲成された反射ＳＯ
Ｒ光Ｓが上下移動する。最上部と最下部とでは、露光形
状が相違するが、露光域を完全にカバーすることは、言
う迄もない。

【００５８】上記ミラー面１１の形状変化の時間関数
は、光学設計によって予め、別途求めておくこととす
る。このように、揺動速度の時間関数を簡単なものとす
ることで、揺動手段も単純にすることができる。

【００５９】なお、上記測定器１７Ａで、あらかじめこ
の強度むらを測定しておき、できるだけ均一な露光強度
が得られるよう、上記誤差を吸収する補正信号を、実際
の露光作用の開始前に、制御回路１９からアクチュエー
タ１４へ送っておくようにしてもよい。

【００６０】

【発明の効果】以上説明したように、第１の発明によれ
ば、ミラー面能動手段の各電動アクチュエータに制御信
号を送って、各電動アクチュエータの動作を制御し、ミ
ラー面の形状を変化させるようにしたから、ビームライ
ン中におけるＳＯＲ光の露光域拡大を得るとともに、真
空効率、作業効率、スペース効率を向上させ、保守面の
改善を図れる効果を奏する。

【００６１】第２の発明によれば、露光作用に先立って
上記ミラー面で反射されるＳＯＲ光を測定し、ミラー面
の形状誤差などに起因するＳＯＲ光の強度むらデータを
基に上記セラミックアクチュエータのそれぞれに変形補
正の形状を記憶させるようにしたから、ビームラインに
おけるＳＯＲ光の露光強度の均一化を得られる効果を奏
する。

【００６２】第３の発明によれば、ミラー面で反射され
るＳＯＲ光を測定し、その測定値に基づいて上記駆動手
段にフィードバックして電動アクチュエータを制御し、
ミラー面形状変化にＳＯＲ光の露光強度むらを補正する
機能を持たせるようにしたから、ＳＯＲ光に対してミラ
ー面形状を最適状態に変化制御することとなり、揺動さ
せるための機構の簡素化と、強度むら補正による露光強
度の均一化向上を得られる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例を示す、Ｘ線リソグラフィ装
置の概略構成図。

【図２】Ｘ線ミラーの構成図。

【図３】ＳＯＲ光の形状を説明する図。

【図４】（Ａ）および（Ｂ）は、Ｘ線ミラーのミラー面
揺動駆動を説明する図。

【図５】（Ａ）および（Ｂ）は、Ｘ線ミラーの揺動状態
を説明する図。

【図６】露光域でのＳＯＲ光の形状を説明する図。

【図７】本発明の他の実施例を示す、Ｘ線リソグラフィ
装置の概略構成図。

【図８】さらに他の実施例を示す、Ｘ線リソグラフィ装
置の概略構成図。

【図９】設計上と、実際の露光強度むらの相違を示す
図。

【図１０】（Ａ）は、シリンドリカルミラーでのミラー
揺動速度関数を示す図。（Ｂ）は、本発明のＸ線ミラー
でのミラー揺動速度関数を示す図。

【符号の説明】

１…ＳＯＲリング、２…ビームライン、３，３Ａ，３Ｂ
…Ｘ線ミラー、４…Ｂｅ窓、７…露光装置、１１…ミラ
ー面、１３…圧電アクチュエータ、１４…ドライバ、１
３Ａ…形状記憶性セラミックアクチュエータ、１６…揺
動機構、１７，１７Ａ…測定器、１９…制御回路。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】指向性が強く高強度のＳＯＲ（シンクロト
   ロン放射）光発生源としてのＳＯＲリングと、 このＳＯＲリングよりＳＯＲ光を取出し、このＳＯＲ光
   を反射し、露光領域を拡大するＸ線ミラーを配置した超
   高真空のビームラインと、 このビームライン終端部に設けられビームライン側の超
   高真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気とを区分して
   Ｘ線を取出すＢｅ（ベリリウム）窓と、 このＢｅ窓を透過したＸ線を受け露光される露光装置と
   を具備したＸ線リソグラフィ装置において、 上記Ｘ線ミラーのミラー面に接続される多数の電動アク
   チュエータからなるミラー面能動手段と、 このミラー面能動手段の各電動アクチュエータに制御信
   号を送って、各電動アクチュエータの動作を制御し、露
   光領域拡大のためミラー面の形状を変化させる駆動手段
   とを備えたことを特徴とするＸ線リソグラフィ装置。
2. 【請求項２】指向性が強く高強度のＳＯＲ（シンクロト
   ロン放射）光発生源としてのＳＯＲリングと、このＳＯ
   ＲリングよりＳＯＲ光を取出し、このＳＯＲ光を反射
   し、露光領域を拡大するＸ線ミラーを配置した超高真空
   のビームラインと、このビームライン終端部に設けられ
   ビームライン側の超高真空領域と大気圧領域ないし減圧
   雰囲気とを区分してＸ線を取出すＢｅ（ベリリウム）窓
   と、このＢｅ窓を透過したＸ線を受け露光される露光装
   置とを具備したＸ線リソグラフィ装置において、 上記Ｘ線ミラーのミラー面に接続される多数の形状記憶
   性セラミックアクチュエータからなるミラー面能動手段
   と、 このミラー面能動手段を構成する各アクチュエータに駆
   動信号を送って、ミラー面を揺動駆動する揺動機構と、 実際の露光作用前に、上記ミラー面で反射されるＳＯＲ
   光を測定し、ミラー面の形状誤差などに起因するＳＯＲ
   光の強度むらデータを基に上記アクチュエータに指示信
   号を送って、それぞれの変形補正の形状を記憶させる補
   正手段とを備えたことを特徴とするＸ線リソグラフィ装
   置。
3. 【請求項３】指向性が強く高強度のＳＯＲ（シンクロト
   ロン放射）光発生源としてのＳＯＲリングと、このＳＯ
   ＲリングよりＳＯＲ光を取出し、このＳＯＲ光を反射
   し、かつ短波長のＸ線成分を除去して露光領域を拡大す
   るＸ線ミラーを配置した超高真空のビームラインと、こ
   のビームライン終端部に設けられビームライン側の超高
   真空領域と大気圧領域ないし減圧雰囲気とを区分してＸ
   線を取出すＢｅ（ベリリウム）窓と、このＢｅ窓を透過
   したＸ線を受け露光される露光装置とを具備したＸ線リ
   ソグラフィ装置において、 上記Ｘ線ミラーのミラー面に接続される多数の電動アク
   チュエータからなるミラー面能動手段と、 このミラー面能動手段の各電動アクチュエータに駆動信
   号を送って、各電動アクチュエータの動作を制御し、ミ
   ラー面の形状を変化させる駆動手段と、 実際の露光前、あるいは実際の露光中に、上記ミラー面
   で反射されるＳＯＲ光を測定し、その測定値に基づく指
   示信号を上記駆動手段にフィードバックして電動アクチ
   ュエータを制御し、ミラー面形状変化にともなうＳＯＲ
   光の露光強度むらを補正する手段とを備えたことを特徴
   とするＸ線リソグラフィ装置。