JPH0369869B2 - - Google Patents
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- JPH0369869B2 JPH0369869B2 JP57118483A JP11848382A JPH0369869B2 JP H0369869 B2 JPH0369869 B2 JP H0369869B2 JP 57118483 A JP57118483 A JP 57118483A JP 11848382 A JP11848382 A JP 11848382A JP H0369869 B2 JPH0369869 B2 JP H0369869B2
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Ceramic Products (AREA)
- Aftertreatments Of Artificial And Natural Stones (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明はセラミツクスを積層してなつたセメ
ント質成形体およびその製造法に関する。その目
的はセメント質成形体とセラミツクスとの密着性
が良く、特にセメント質気泡成形体にセラミツク
スを積層して衝撃強度が著しく改善された積層体
およびその製造法を提案するにある。
ント質成形体およびその製造法に関する。その目
的はセメント質成形体とセラミツクスとの密着性
が良く、特にセメント質気泡成形体にセラミツク
スを積層して衝撃強度が著しく改善された積層体
およびその製造法を提案するにある。
セメント質成形体は吸湿し易く、なかでもセメ
ント質気泡成形体は吸湿性が高く外装材を塗着な
どして保護しなくてはならず、取扱いあるいは使
用中に欠損し易い欠点があつた。これら欠点を改
善するために、セメント質気泡体の表面にセラミ
ツクスを積層し補強したセラミツクス積層体が提
案されている。しかし、単にセラミツクスを積層
したセメント質気泡体はセラミツクスと気泡体と
の接着強度が充分ではなく、必ずしも気泡体の欠
点を改善することはできなかつた。
ント質気泡成形体は吸湿性が高く外装材を塗着な
どして保護しなくてはならず、取扱いあるいは使
用中に欠損し易い欠点があつた。これら欠点を改
善するために、セメント質気泡体の表面にセラミ
ツクスを積層し補強したセラミツクス積層体が提
案されている。しかし、単にセラミツクスを積層
したセメント質気泡体はセラミツクスと気泡体と
の接着強度が充分ではなく、必ずしも気泡体の欠
点を改善することはできなかつた。
この発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、その要旨はセメント質成形体の表面に硝子質
釉薬を積層してなつたセラミツクス積層体におい
て、前記セメント質成形体表面にセメント質とケ
イ酸リチウムの溶液とが400〜700℃で反応してな
つた中間層が設けてあることを特徴とするセラミ
ツクス積層体およびその製造法である。
り、その要旨はセメント質成形体の表面に硝子質
釉薬を積層してなつたセラミツクス積層体におい
て、前記セメント質成形体表面にセメント質とケ
イ酸リチウムの溶液とが400〜700℃で反応してな
つた中間層が設けてあることを特徴とするセラミ
ツクス積層体およびその製造法である。
この製造方法の一例を示せば以下の通りであ
る。配筋あるいは無配筋の型枠内に発泡性セメン
トスラリーを流し込み、これを発泡硬化せしめ、
これを所定寸法に切断し、水蒸気養生を行ない気
泡成形体とする。例えば、セメント、ケイ石、ア
ルミニウム粉、生石灰、あるいはセメント、ケイ
石、金属石鹸等のセメントを主とするスラリーが
この成形体の原料となる。その後、気泡成形体の
施釉する面を予めケイ酸リチウムの水溶液で処理
し、すなわち、ケイ酸リチウム水溶液の存在下
400〜700℃で熱処理を行ないセメント質材とケイ
酸リチウムとの反応物からなる層を形成し、この
処理済の面に釉薬を塗布あるいはデイツプコート
により塗着し、これを焼成して積層体を得ること
ができる。焼成温度は下地母材が損じない範囲で
400〜1000℃の温度が好適である。
る。配筋あるいは無配筋の型枠内に発泡性セメン
トスラリーを流し込み、これを発泡硬化せしめ、
これを所定寸法に切断し、水蒸気養生を行ない気
泡成形体とする。例えば、セメント、ケイ石、ア
ルミニウム粉、生石灰、あるいはセメント、ケイ
石、金属石鹸等のセメントを主とするスラリーが
この成形体の原料となる。その後、気泡成形体の
施釉する面を予めケイ酸リチウムの水溶液で処理
し、すなわち、ケイ酸リチウム水溶液の存在下
400〜700℃で熱処理を行ないセメント質材とケイ
酸リチウムとの反応物からなる層を形成し、この
処理済の面に釉薬を塗布あるいはデイツプコート
により塗着し、これを焼成して積層体を得ること
ができる。焼成温度は下地母材が損じない範囲で
400〜1000℃の温度が好適である。
この発明でいうケイ酸リチウム水溶液とは、例
えばSiO2／Li2Oの重量比で7.5〜3.5であり、SiO2
換算で70〜50重量％の水溶液をいう。むろん、ケ
イ酸リチウム水溶液処理を行なつた前後の時点に
おいて、りん酸処理をおこなえば、さらに強固な
中間層が形成される。
えばSiO2／Li2Oの重量比で7.5〜3.5であり、SiO2
換算で70〜50重量％の水溶液をいう。むろん、ケ
イ酸リチウム水溶液処理を行なつた前後の時点に
おいて、りん酸処理をおこなえば、さらに強固な
中間層が形成される。
このようにして得られたセラミツクス積層体は
図示のごとく、セメント質気泡成形体１の表面に
セラミツクス２が積層されてあり、ケイ酸リチウ
ムはセメント質材と反応し強固な中間層３を形成
し、セラミツクス２と成形体１とを強固に密着性
よく固着し、該中間層はセラミツクス２に近い低
い熱膨張係数を有している。
図示のごとく、セメント質気泡成形体１の表面に
セラミツクス２が積層されてあり、ケイ酸リチウ
ムはセメント質材と反応し強固な中間層３を形成
し、セラミツクス２と成形体１とを強固に密着性
よく固着し、該中間層はセラミツクス２に近い低
い熱膨張係数を有している。
従つて、積層体は気泡成形体の引張強度、欠け
易さ、透湿性を改善し、長期にわたる耐久性を良
くすることができる。また熱水処理等によつてセ
ラミツクス層が剥離したり屋外曝露により劣化す
ることがない。
易さ、透湿性を改善し、長期にわたる耐久性を良
くすることができる。また熱水処理等によつてセ
ラミツクス層が剥離したり屋外曝露により劣化す
ることがない。
セメント質気泡成形体、例えばALC板（オー
トクレーブ養生軽気泡コンクリート板）は熱伝導
率が0.1Kcal／ｍ・℃・hr程度で厚さ2.5〜15cmと
するならば、断熱材としての要求レベルを満足す
ることができる。例えばALC板を基材としたこ
の発明になるセラミツクス積層体の直方体を陸屋
根の防水層上にセラミツクスを上面にして敷き並
べ、モルタル等を用い建物躯体に固着するなら
ば、耐水性、耐候性、欠損等に耐える強度および
耐火性を備えた外断熱構造の断熱層を旋工するこ
とができる。また、セラミツクスの厚さを0.5〜
１mm程度とするならば歩行荷重に耐える強度とす
ることができる。なお、セラミツクスの密度は
1.5〜2.7ｇ／cm3であり、高密度の方が強度が高く
好ましい。これら外断熱構造用のセラミツクス積
層体の寸法形状は取扱い施工に便利な範囲で適宜
選択できる。縦・横寸法が大きいと運搬取扱いが
不便であり、逆に小さいと施工に手間が多くかか
る。形状は一般に扁平な直方体であり、敷設した
場合目地間が密に接合し、高い水密性を保つ必要
がある。また、モルタルにより敷並べた積層体を
固着するに当つて、アスフアルト、合成樹脂、合
成樹脂ラテツクス等をモルタルに混入して耐水性
の向上を図つたり、目地にアスフアルト、合成樹
脂、セメント等の結合、充填材を詰込み、水密性
の向上を図つたりすると効果が大である。
トクレーブ養生軽気泡コンクリート板）は熱伝導
率が0.1Kcal／ｍ・℃・hr程度で厚さ2.5〜15cmと
するならば、断熱材としての要求レベルを満足す
ることができる。例えばALC板を基材としたこ
の発明になるセラミツクス積層体の直方体を陸屋
根の防水層上にセラミツクスを上面にして敷き並
べ、モルタル等を用い建物躯体に固着するなら
ば、耐水性、耐候性、欠損等に耐える強度および
耐火性を備えた外断熱構造の断熱層を旋工するこ
とができる。また、セラミツクスの厚さを0.5〜
１mm程度とするならば歩行荷重に耐える強度とす
ることができる。なお、セラミツクスの密度は
1.5〜2.7ｇ／cm3であり、高密度の方が強度が高く
好ましい。これら外断熱構造用のセラミツクス積
層体の寸法形状は取扱い施工に便利な範囲で適宜
選択できる。縦・横寸法が大きいと運搬取扱いが
不便であり、逆に小さいと施工に手間が多くかか
る。形状は一般に扁平な直方体であり、敷設した
場合目地間が密に接合し、高い水密性を保つ必要
がある。また、モルタルにより敷並べた積層体を
固着するに当つて、アスフアルト、合成樹脂、合
成樹脂ラテツクス等をモルタルに混入して耐水性
の向上を図つたり、目地にアスフアルト、合成樹
脂、セメント等の結合、充填材を詰込み、水密性
の向上を図つたりすると効果が大である。
この発明のセメント質成形体は気泡を含有する
ものに限らない。無気泡のものにも適用できるこ
とは云うまでもない。
ものに限らない。無気泡のものにも適用できるこ
とは云うまでもない。
この発明は以上の通りで、この発明になるセラ
ミツクス積層体はセメント質成形体の透湿性、強
度を改善することができる。特にセメント質気泡
成形体の場合はその効果が著しく、外断熱構造用
断熱材として用い好適である。
ミツクス積層体はセメント質成形体の透湿性、強
度を改善することができる。特にセメント質気泡
成形体の場合はその効果が著しく、外断熱構造用
断熱材として用い好適である。
実施例 １
密度0.54、曲げ強度42.4Kg／cm2の300m／ｍ×
600m／ｍ×25m／ｍのケイ酸カルシウム発泡体
を100℃で乾燥した後、表面をSiO2／Li2O重量比
で7.0のSiO220重量％の水溶液で処理した後、処
理表面を400℃で10分間加熱する。次にケイ酸リ
チウム処理した面上へ更に650〜700℃で溶融する
硝子釉薬をスリツプ状でふきつけて施釉した後、
700℃の温度で施釉表面から加熱して積層体を得
た。この積層体は約0.5m／ｍの硝子質釉薬層を
表面に、その下に約3m／ｍ厚のSiO2−CaO−
Li2O又はりん酸処理を行なつたときはSiO2−
CaO−Li2O−P2O5系の焼結された中間層を有す
るものが母体と一体として構成されたものであ
る。このものの曲げ強度は60Kg／cm2に向上した。
この製品はJIS A5209タイルの条件によりオート
クレーヴテストを行つたが、釉薬面にひびわれは
発見されなかつた。
600m／ｍ×25m／ｍのケイ酸カルシウム発泡体
を100℃で乾燥した後、表面をSiO2／Li2O重量比
で7.0のSiO220重量％の水溶液で処理した後、処
理表面を400℃で10分間加熱する。次にケイ酸リ
チウム処理した面上へ更に650〜700℃で溶融する
硝子釉薬をスリツプ状でふきつけて施釉した後、
700℃の温度で施釉表面から加熱して積層体を得
た。この積層体は約0.5m／ｍの硝子質釉薬層を
表面に、その下に約3m／ｍ厚のSiO2−CaO−
Li2O又はりん酸処理を行なつたときはSiO2−
CaO−Li2O−P2O5系の焼結された中間層を有す
るものが母体と一体として構成されたものであ
る。このものの曲げ強度は60Kg／cm2に向上した。
この製品はJIS A5209タイルの条件によりオート
クレーヴテストを行つたが、釉薬面にひびわれは
発見されなかつた。
比較例 １
密度0.54、曲げ強度42.4Kg／cm2の300m／ｍ×
600m／ｍ×25m／ｍのケイ酸カルシウム発泡体
を100℃で乾燥した。この後、この基板の表面温
度が80℃の時に表面をSiO2／Li2O重量比で7.0の
SiO220重量％の水溶液で処理した。
600m／ｍ×25m／ｍのケイ酸カルシウム発泡体
を100℃で乾燥した。この後、この基板の表面温
度が80℃の時に表面をSiO2／Li2O重量比で7.0の
SiO220重量％の水溶液で処理した。
次にケイ酸リチウム処理した面上へ更に650〜
700℃で溶融する硝子釉薬をスリツプ状で吹きつ
けて施釉した後、700℃の温度で施釉面から加熱
して積層体を得た。この積層体をJIS A5209タイ
ルの条件によりオートクレーヴテストを行つたと
ころ、釉薬面にひび割が観察された。
700℃で溶融する硝子釉薬をスリツプ状で吹きつ
けて施釉した後、700℃の温度で施釉面から加熱
して積層体を得た。この積層体をJIS A5209タイ
ルの条件によりオートクレーヴテストを行つたと
ころ、釉薬面にひび割が観察された。
図面はこの発明になるセラミツクス積層体の斜
視図である。 １…セメント質気泡成形体、２…セラミツク
ス、３…中間層。
視図である。 １…セメント質気泡成形体、２…セラミツク
ス、３…中間層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ セメント質成形体の表面に硝子釉薬を積層し
てなつたセラミツクス積層体において、前記セメ
ント質成形体の表面にセメント質とケイ酸リチウ
ムの溶液とが400〜700℃で反応してなつた中間層
が設けてあることを特徴とするセラミツクス積層
体。 ２ セメント質成形体の表面に硝子釉薬を高温処
理により積層しセラミツクス積層体を製造するに
当り、前記セメント質成形体の表面を予めケイ酸
リチウムの溶液により400〜700℃で高温処理し、
セメント質とケイ酸リチウムの溶液とが反応して
なつた中間層を形成することを特徴とするセラミ
ツクス積層体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11848382A JPS5913680A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | セラミツクス積層体およびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11848382A JPS5913680A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | セラミツクス積層体およびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5913680A JPS5913680A (ja) | 1984-01-24 |
| JPH0369869B2 true JPH0369869B2 (ja) | 1991-11-05 |
Family
ID=14737788
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11848382A Granted JPS5913680A (ja) | 1982-07-09 | 1982-07-09 | セラミツクス積層体およびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5913680A (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2588550A1 (fr) * | 1985-10-11 | 1987-04-17 | Serre Jacques | Materiau a base de pierre naturelle telle que lave et verre |
| JPH01100075A (ja) * | 1987-10-13 | 1989-04-18 | Nippon Steel Corp | コンクリート基材への釉薬焼付け方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551780A (en) * | 1978-10-07 | 1980-04-15 | Matsushita Electric Works Ltd | Method of painting porous substrate |
-
1982
- 1982-07-09 JP JP11848382A patent/JPS5913680A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5551780A (en) * | 1978-10-07 | 1980-04-15 | Matsushita Electric Works Ltd | Method of painting porous substrate |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5913680A (ja) | 1984-01-24 |
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