JPH0367496A - 誘導プラズマ発生装置 - Google Patents

誘導プラズマ発生装置

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JPH0367496A
JPH0367496A JP1204496A JP20449689A JPH0367496A JP H0367496 A JPH0367496 A JP H0367496A JP 1204496 A JP1204496 A JP 1204496A JP 20449689 A JP20449689 A JP 20449689A JP H0367496 A JPH0367496 A JP H0367496A
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JP
Japan
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plasma
tube
metal rod
high voltage
gas
Prior art date
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Pending
Application number
JP1204496A
Other languages
English (en)
Inventor
Takanobu Amano
天野 高伸
Hisashi Komaki
久 小牧
Yoshiharu Hirakawa
平川 祥治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Jeol Ltd
Original Assignee
Jeol Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、誘導プラズマ発生装置に関し、更に詳しくは
、誘導プラズマ成膜装置等に使用して好適な誘導プラズ
マ発生装置に関する。
(従来技術) 物体の表面の耐熱性を向上させる目的で、耐熱性に秀れ
た粉末等の物質を1万度程度の高温プラズマ中に通して
溶かし、この溶融した物質を被処理材料に導き、溶融物
質を材料に溶射したり、材料上に粉末物質の膜あるいは
粉末物質とプラズマガスあるいは反応ガスとの反応物質
の膜を形成することが行われているが、このプラズマを
発生させるために誘導プラズマ発生装置が用いられてい
る。
この装置では、絶縁性物質で形成された円筒状の管の周
囲に高周波電源により駆動される加熱用のRFコイルを
配置するようにしている。この構成で、RFコイルに励
磁電流を流すと、管の内部に誘導プラズマが発生するが
、このプラズマの温度は、1万度から1万5千度程度と
かなりの高温になり、このプラズマ内に成膜用の物質を
流すことにより、この物質を溶解することができる。溶
解された物質は、管に連通したチャンバー内に配置され
た材料上に照射され、例えば、材料上に所望物質の膜が
形成される。通常、この管は、プラズマの熱により高温
に加熱されるため、2重構造とし、その内部に冷却水を
流すようにしている。
(発明が解決しようとする課題) ところで、この高周波誘導プラズマを発生させるために
は、必ず、着火という作業が必要となる。
従来、この着火の方法としては、次の方法が一般的であ
る。なお、これらの方法は、いずれも管の内部にアルゴ
ンガスを流し、RFコイルに所定の高周波電流を流した
上で行われる。
■ 着火棒と称する金属棒を管内に挿入し、これを誘導
加熱して金属棒から熱電子を発生させ、この熱電子の発
生を引き金にしてプラズマを発生させる。
■ 管内を排気し、例えば、1O−2Torr程度に減
圧した状態とすることにより、プラズマを着火する。
しかしながら、■の方法は、誘導加熱により、金属棒か
ら火花が散り、又、金属棒を管内に挿入しているので、
管内が汚染され、結果的に純粋な成膜や微粉末の生成が
行えない。
■の方法は、減圧装置が付属しているプラズマ発生装置
にしか適用することができず、大気圧で使用するプラズ
マの発生装置では、実現が不可能である。又、減圧装置
が付属していても、プラズマが着火できるまでに排気す
ることは時間がかかり、作業性が悪いことや、減圧下、
プラズマを発生させると、管の内壁にプラズマが触れ易
くなり、管が破損する恐れがある。
上記した点に注目し、第2図に示したようなプラズマ発
生装置が提案されている。図中、1は誘導プラズマ発生
装置(プラズマトーチ)の上部フランジ、2は下部フラ
ンジであり、上部フランジ1、下部フランジ2共に、中
心に開口を有している。上部フランジ1の開口には、ガ
ス供給ノズル3が配置されている。ガス供給ノズル3に
は、複数の孔4が穿たれており、孔4は、図示していな
いが、ガス供給源や成膜物質供給源に接続されている。
上部フランジ1と下部フランジ2との間には、円筒状の
内管5と同じく円筒状の外管6とより成る2重管が配置
されている。内管5と各フランジとの間、および、外管
6と下部フランジとの間には、Oリングシール7が設け
られ、内管5内部、内管5と外管6との間の空間の機密
を保持するようにしている。
下部フランジ2には、内管5と外管6との間の空間に連
通している冷却水導入孔8が穿たれており、上部フラン
ジ1には、内管5と外管6との間の空間に連通している
冷却水排出孔9が穿たれている。冷却水導入孔8から冷
却水を導入し、内管5と外管6との間の空間を通って、
冷却水を排出孔9から排出することにより、特に、内管
5を冷却することができる。2重管の周囲には、図示し
ていない高周波電源に接続されているRFコイル10が
巻回されている。
下部フランジ2の下側には、図示していないが、成膜さ
れる材料が配置されるチャンバーが配置される。上部フ
ランジ1と下部フランジ2との間には、イグニションコ
イルの如き高圧発生装置11が接続されている。このよ
うに槽底された装置の動作を説明すれば、以下の通りで
ある。
装置の初期状態においては、ガスノズル3に穿たれた孔
4から、例えば、アルゴンガスを供給すると共に、RF
コイル10に高周波を供給する。
この状態で、高圧発生装置11から高電圧を上部フラン
ジ1と下部フランジ2との間に印加すると、上部フラン
ジ1 (ガス供給ノズル3)と下部フランジ2との間で
高電圧火花放電が生起し、この放電が引金となって内管
3内部にプラズマが発生する。その後、アルゴンガスに
代えて酸素ガスや窒素ガスを供給し、更に、キャリアー
ガスと共に、成膜用物質を内管5内部に供給する。この
結果、成膜用物質は、1万度〜1万5千度に加熱された
プラズマによって溶融し、下部フランジ2の下側に配置
されたチャンバー内の材料上に投射される。
このように、この提案装置は、上記した■、■の方法に
おける欠点を改善することができるが、フランジのよう
な金属製物質が存在しないプラズマ発生装置には適用す
ることができない。
本発明は、上述した点に鑑みてなされたもので、その目
的は、金属製物質が存在していない装置でも、構造が簡
単で容易に確実に、又、管内の汚染少なくプラズマの着
火を行うことができる誘導プラズマ発生装置を実現する
にある。
(課題を解決するための手段) 前記した課題を解決する本発明は、絶縁性物質で形成さ
れた管の周囲に巻回されたRFコイルに励磁電流を流し
て管内部に誘導プラズマを発生させる誘導プラズマ発生
装置において、プラズマ生成室内に挿脱可能な電極部材
を配置し、管の一方の端部に配置された金属製部材と電
極部材との間に高圧発生手段を接続するように構成し、
電極部材をプラズマ生成室内に挿入した状態でプラズマ
の着火を行うようにしたことを特徴としている。
(作用) プラズマ生成室内に挿脱可能な電極部材を配置し、プラ
ズマ着火時には、この電極部材をプラズマ生成室内に挿
入し、電極部材と他の金属製部材との間で高圧火花放電
を起こさせ、これを引金としてプラズマを着火する。
(実施例) 以下、第1図を参照して本発明の実施例を詳細に説明す
る。図中、21は誘導プラズマ発生装置(プラズマトー
チ)の上部フランジであり、上部フランジ21は、中心
に開口を有している。上部フランジ21の開口には、ガ
ス供給ノズル22が配置されている。ガス供給ノズル2
2には、複数の孔23が穿たれており、孔23は、図示
していないが、ガス供給源や成膜物質供給源に接続され
ている。上部フランジ21には、石英などで形成された
管24が取り付けられている。管の周囲には、図示して
いない高周波電源に接続されているRFコイル25が巻
回されている。
管24の下部には、チャンバー26が連通しており、こ
のチャンバー26の下方には、図示していないが、被処
理材料が配置される。チャンバー26の側面には、金属
棒挿脱機$1127が取り付けられており、この挿脱機
構27からチャンバー26内に金属棒28が挿入される
。この金属棒28と金属製材料で形成された上部フラン
ジ21との間には、イグニションコイルの如き高圧発生
装置29が設けられている。
このように構成された装置の動作を説明すれば、以下の
通りである。
装置の初期状態においては、ガスノズル22に穿たれた
孔23から、例えば、アルゴンガスを供給すると共に、
RFコイル25に高周波を供給する。この状態で、金属
棒28と上部フランジとの間に、高圧発生装置2つから
高電圧を印加すると、金属棒28と上部フランジ21と
の間で高電圧火花放電が生起し、この放電が引金となっ
て管24とチャンバ−26内部にプラズマが発生する。
その後、金属棒28を挿脱機構27によってチャンバ−
26内部から挿脱機構内へ移動させる。そして、アルゴ
ンガスに代えて酸素ガスや窒素ガスを供給し、更に、キ
ャリアーガスと共に、成膜用物質を管24内部に供給す
る。この結果、成膜用物質は、1万度〜1万5千度に加
熱されたプラズマによって溶融し、チャンバー26内の
下方に配置される材料上に投射される。
以上本発明の一実施例を説明したが、本発明はこの実施
例に限定されない。例えば、上部フランジと金属棒との
間に高電圧を印加するようにしたが、上部フランジ以外
に別の金属製物質がトーチ上部に存在する場合には、フ
ランジに代え、そのような金属製物質を使用することが
できる。
(発明の効果) 以上、詳細に説明したように、本発明によれば、金属棒
をプラズマの着火のときのみプラズマ生成領域に挿入し
、この金属棒と他の金属製物質との間で高電圧火花放電
を生じさせるようにしたので、トーチ下部に金属製物質
がない場合でも、簡単にプラズマの着火を行うことがで
きる。又、金属棒は、プラズマの着火後はプラズマ発生
領域から除かれるので、金属棒が高温のプラズマフレー
ムに晒されることはなく、金属棒によって管やチャンバ
ー内を汚染することはない。更に、大気圧テプラズマの
着火を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の一実施例を示す断面図、第2図は、
本発明の前提となる提案装置を示す図である。 1.21・・・上部フランジ 2・・・下部フランジ 3.22・・・ガスノズル 4,23・・・孔5・・・
内管       6・・・外管7・・・Oリングシー
ル  8・・・冷却水導入孔9・・・冷却水排出孔  
10・・・RFコイル11.29・・・高圧発生装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 絶縁性物質で形成された管の周囲に巻回されたRFコイ
    ルに励磁電流を流して管内部に誘導プラズマを発生させ
    る誘導プラズマ発生装置において、プラズマ生成室内に
    挿脱可能な電極部材を配置し、管の一方の端部に配置さ
    れた金属製部材と電極部材との間に高圧発生手段を接続
    するように構成し、電極部材をプラズマ生成室内に挿入
    した状態でプラズマの着火を行うようにしたことを特徴
    とする誘導プラズマ発生装置。
JP1204496A 1989-08-07 1989-08-07 誘導プラズマ発生装置 Pending JPH0367496A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0665306A1 (en) * 1994-01-19 1995-08-02 TOKYO ELECTRON AMERICA Inc. Apparatus and method for igniting plasma in a process module
JP2008071739A (ja) * 2006-09-14 2008-03-27 Ind Technol Res Inst プラズマ生成装置と処理システム
JP2012038839A (ja) * 2010-08-05 2012-02-23 Panasonic Corp プラズマ処理装置及び方法
US9583313B2 (en) 2013-08-20 2017-02-28 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Plasma processing apparatus and plasma processing method

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