JPH0365535A - 光ファイバの冷却装置 - Google Patents
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Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
り効率よく冷却する光ファイバのl5却装置に関する。
に加熱線引きする場合、一般にはこれに引き続いて光フ
ァイバの外周面に樹脂被覆が施される。
すように、光フアイバ母材11を加熱溶融させるための
ヒータ13が取り巻くように設けられている。さらにこ
れらの図中下方には、加熱溶融状態の光フアイバ母材1
1から線引きされた光フアイバ14を押通させて樹脂被
覆を施すコーティングダイス15が配設され且つその直
下には前述した樹脂被覆を硬化させ光フアイバ14に固
着させる硬化装置16が設けられている。
#A線引きされた光フアイバ14は、コーティングダイ
ス15により樹脂被覆されさらに硬化装置!16により
前記樹脂被覆を硬化定着されて最終的には、硬化装置2
16の図中下方に位置するドラム17に巻き取られろ。
グダイス15に押通される前に十分冷却されていないと
、コーティングダイス15内に保持された樹脂或いはコ
ーティングダイス15により光フアイバ14に被覆され
た樹脂が加熱されその粘度が低下して被覆4!1rJF
J層の厚さを十分なものに保ち得ないという問題がある
。このため例えば特公昭54−39496号公報、特開
昭61−72648号公報、特開昭63−100035
号公報等に詳しく示されているように様々な光フアイバ
14の冷却装置が考えられていた。
概略は、第10図に表したように、炉心管12とコーテ
ィングダイス15との間に加熱線引きされた光フアイバ
14が押通される冷却管18を配設し、且つこの冷却v
:18内に光フアイバ14の線引き方向に沿って冷却用
気体19を流すことにより光フアイバ14を冷却しよう
としたものである。
冷却装置は、第11図に示したように、加熱線引きされ
tコ光ファイバ14が押通され且つこの光フアイバ14
の冷却用気体19が導入されろ内管20を有している。
冷却するための冷却液21が貫流する外管24が、内管
20を囲繞して設けられている。また外管24の図中下
部には、冷却液21の入口管22及び出口管23が設け
られている。つまり光フアイバ14は内#r!120内
に充填された冷却用気体19によって冷却され、さらに
この冷却効率を高めるため冷却用気体19は伶却液21
によって冷却されるのである。
置の破断斜視図を第12図に示すように、放熱体25内
には、光フアイバ14が挿通される挿通孔26が形成さ
れていると共に、この挿通孔26には、光フアイバ11
が十分な隙間のない状態で貫通する孔27を形成しrコ
ストリップ板28が複数箇所設けられている。また光フ
アイバ14近傍の放熱を効率よく放熱体25に伝達する
ためのビン29が、挿通孔26内周面より多数突設され
ている。つまりストリップ板28によって光ファイバ1
4外周近傍の高温雰囲気を剥離させ且つピン29によっ
てその剥離した高温雰囲気の熱を効率よく放熱体25へ
伝達することで光フアイバ14の冷却を行おうとしたも
のである。
においても、光ファイバの線引き開始時には、溶融して
液滴状となった光フアイバ母材11の先端部を通す必要
があるため、夫々の冷却装置の上下開口部直径は最小で
も10恥〜20II+lI程度となり比較的大きなもの
である。その上、冷却すべき光ファイバに対する冷却用
気体の流速は、該光ファイバの高速線引き等に対応すべ
く、かなり大きな位を設定せざるを得ず、従って前述し
た冷却装置にはかなり多量の冷却用気体を供給する必要
があった。しかるに、該冷却用気体には熱伝導率の大き
なヘリウムガスが主として用いられており、該ガスは比
較的高価であるため、前述したような理由による大量使
用によって光ファイバの製造コストが大幅に増大してし
まうという[1があった。
ファイバが押通されると共に冷却用気体が前記光ファイ
バの軸心方向と略平行して流される流路を有し、前記軸
心方向と直交する直交平面内における前記流路の断面積
が、前記流路の内面近傍及び前記光ファイバの外周面近
傍の前記冷却用気体中に形成される温度境界層の前記直
交平面内における総断面積より、前記流路の少なくとも
一部分において小さいことを特徴とするものである。
され、且つ該流路内に前記光ファイバの軸心方向と略平
行して冷却用気体が流されて、光ファイバが冷却される
。ここで、前記軸心方向と直交する直交平面内における
流路の断面積が、流路の内面近傍及び前記光ファイバの
外周面近傍の冷却用気体中に形成される温度境界層の前
記直交平面内における総断面積より、流路の少なくとも
一部分において小さいために、熱伝導にほとんど関与し
ない気体領域を廃して流路断補積を最小とすることがで
き、冷却効率を損なうことなく冷却用気体を節減できる
。
図を参照して詳細に説明する。
を付して表すこととし詳細な説明は省略する。
ように、光フアイバ14の冷却装置31は、炉心[12
と被覆装置15との間に配設されている。炉心w12内
にて加熱溶融された光フアイバ母材より締引きされた光
フアイバ14は、まずこの冷却装置31を通って十分に
冷却された上で、光フアイバ14に樹脂被覆を施す被覆
装置15を通り、さらには被覆層の硬化装置16を経て
ドラム17に巻き取られる。また炉心管12と冷却装置
31との間には、線引きされた光フアイバ14の外径を
測定する外径測定@30が配設されている。
、第2図中のA−A矢視断面図が第3図である。これら
の図に示したように、冷却装置31は、対向して密着す
る一対のケーシング部材32を有している。これらケー
シング部材32の夫々の密着面には、第2図中上下方向
に沿って溝部33が形成されていると共に、夫々の溝部
33は対向して位置し、加熱線引きされた光フアイバ1
4が押通される冷却流路34を形成している。
て開閉自在に連結されており、これらケーシング部材3
2を開閉することによって光フアイバ14を容易に押通
させ得るようになっている。従ってこれらケーシング部
材32を閉じた場合において、前記冷却流路34の気密
性を向上させろために、夫々のケーシング部材32の対
向する密着面にはゴムパツキン36が設けられている。
のケーシング部材32には、止め具37とこれに係合す
るばねフック38からなる固定手段が設けられている。
て導入流路39が穿設されている。つまり該導入流路3
9には、図示しない気体供給源から冷却用気体であるヘ
リウムガスが供給され、さらには冷却流路34へと至っ
て該冷却流路34内の光フアイバ14を冷却した後、第
2図中上下の開口部40より外部へ放出される。
の下部に形成されていると共に、冷却流路34に近づく
につれて上方へと向かうよう傾斜して形成されている。
利用して、第2図中下方へと線引きされる光フアイバ1
4に対する該ヘリウムガスの相対速度を増大させ、以て
光フアイバ14の冷却効率を高めるためである。しかし
ながら、導入流路39の冷却流路34に対する前述した
ような傾斜をあまり大きくした場合、これに大流量のガ
スを流すと、冷却流路34の下方の開口部40より外気
を吸引してしまい、返って十分な冷却効率を実現し得な
い虞れがあるので、自ずと好適な傾斜を持たせることが
必要である。
部材32を前記冷却流路34に沿って貫通する冷却孔4
1が形成され、図示しない冷却液循環装置により送出さ
れる冷却液がこれら冷却孔41を流れて、冷却流路34
内のヘリウムガスを冷却する。
下の如く決められる。まず、該冷却流路34の光フアイ
バ軸心方向と直交する断面積が相当に大きい従来の例で
は、光フアイバ14近傍及び冷却流l534内面近傍の
流動する冷却用気体の温度分布は第4図に示したように
なる。即ち、冷却流路34内を流れる冷却用気体は、光
フアイバ14の近傍及び冷却流路34の内面近傍におい
て速度勾配が極めて大きな領域である境界層a、cを形
成する。さらにこれらの境界層a、Cにおいては、速度
勾配のみならず温度勾配も同様に極めて大きくなり、い
わゆる温度境界層を形成する。一方、これら境界層aと
境界層Cとの間には、速度勾配、温度勾配共に小さい主
流領域すが形成されている。温度勾配の小さい該主流領
域すは、その全域に互って略一定の温度状態にあり、こ
のため該主流領域すは、光フアイバ14からケーシング
部材32側への熱伝達にはほとんど関与することがない
。
流領域すが形成されぬほどに或いはまた境界map c
が互いに重なり合うほどに、光フアイバ14とケーシン
グ部材32の内面との距離を狭める。この結果、光フア
イバ14とケーシング部材32との間の温度勾配が大き
くなって伝熱量が増大し冷却効率が向上すると共に、冷
却用気体(本実施例ではヘリウムガス)の使用量を大幅
に削減することができるのである。また既述したように
光フアイバ14とケーシング部材32の内面との距離を
狭めて設定する区間は、冷却流路34の全長に亙っても
よいしまた該冷却流路34の一部分であってもよい。
結果を示した。このグラフは、成る一定線速において、
良好な光フアイバ14のコーティングを施すために必要
な、最小の冷却用ヘリウムガス流量を表したものである
。
面の断面積を4911Im2(7IIlll角形状)と
した場合、また実線■は前記断面積を25m’(5mm
角形状)とした場合である。このように、光フアイバ1
4とケーシング部材32の内面との距離を従来のものよ
り大幅に狭め且つその狭める程度をより大きくするに伴
って、前述した如く境界in、 Cが重なり合い且つ
伝熱量が増大する結果、使用すべきヘリウムガスがより
削減されろと共に冷却効率をより大きく向上させること
ができるのである。
を第7図に、第7図中のB−B矢視断面図を第8図に示
した。これらの図に示したように、加熱線引きされた光
フアイバ14が挿通される冷却流路34は、縦割りに2
分割され且つこれらを開閉自在に結合して構成した冷却
管51の内側に形成されている。
34と連通して結合されており、図示しない気体供給源
から該導入管52を経て冷却用気体のヘリウムガスが、
前記冷却流路34内へと送り込まれ加熱線引きされた光
フアイバ14を冷却する。またこの実施例では、既述し
た第1実施例とは異なり、冷却用気体のヘリウムガスを
冷やすために冷却液を用いず、冷却管51の外周面より
突設された冷却用フィン53を用いて空冷により冷却を
行うのである。またもちろん、冷却流路34の光フアイ
バ軸心方向と直交する断面積は、第1実施例と同様に決
定される。
効率を高めるため、冷却流路34の内周に微小な凹凸を
形成してもよい。ただしこの場合、冷却用気体流の乱れ
が光ファイバの線ブレを助長する虞れがあり、従って冷
却用気体の流量を適切なものとする必要がある。またさ
らには、光フアイバ14からの輻射熱を効率よく吸収す
るため、冷却流路34の内面を黒色系の色にするなどし
てもよい。
を用いてもよい。
押通され且つ冷却用気体が流される流路の断面積を、流
路内面近傍及び光フアイバ近傍に形成される温度境界層
の総断面積より小さく設定したことにより、光ファイバ
と流路内面との間の温度勾配が大きくなって冷却効率が
向上すると共に冷却用気体の使用量を大きく削減できる
ので、該光ファイバの生産コストの大幅な低減を実現で
きる。
冷却装置の概略構成断面図、第3図+、1第2図中のA
−A矢視断面図、第4図、第5図は温度境界層等の説明
図、第6図は前記冷却装置による実験結果を表すグラフ
、第7図は他の一実施例を表す概略構成断面図、第8図
は第7図中のB−8矢視断面図、第9図から第12図は
夫々従来の冷却装置を表す概略構成図である。 図 面 中、 11は光フアイバ母材、13はヒータ、14は光ファイ
バ、15はコーティングダイス、17ばドラム、31は
冷却装置、32はケーシング部材、34は冷却流路、3
8はばねフック、39は導入流路、41は冷却孔、51
(よ冷却管、52は導入管、53は冷却用フィン、n、
Cは境界層、bは主流領域である。 第1図 第2図 g3 図 第4図 32 4 第5図 第7図 箒8 区 第6図 Heガス流量 第9図 第1O図 第11因 宕12図
Claims (1)
- 加熱線引きされた光ファイバが挿通されると共に冷却用
気体が前記光ファイバの軸心方向と略平行して流される
流路を有し、前記軸心方向と直交する直交平面内におけ
る前記流路の断面積が、前記流路の内面近傍及び前記光
ファイバの外周面近傍の前記冷却用気体中に形成される
温度境界層の前記直交平面内における総断面積より、前
記流路の少なくとも一部分において小さいことを特徴と
する光ファイバの冷却装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1197998A JP2805869B2 (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | 光ファイバの冷却装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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---|---|---|---|
JP1197998A JP2805869B2 (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | 光ファイバの冷却装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0365535A true JPH0365535A (ja) | 1991-03-20 |
JP2805869B2 JP2805869B2 (ja) | 1998-09-30 |
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ID=16383813
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1197998A Expired - Lifetime JP2805869B2 (ja) | 1989-08-01 | 1989-08-01 | 光ファイバの冷却装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2805869B2 (ja) |
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-
1989
- 1989-08-01 JP JP1197998A patent/JP2805869B2/ja not_active Expired - Lifetime
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JP2805869B2 (ja) | 1998-09-30 |
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