JPH0364791A - Tft液晶表示装置 - Google Patents
Tft液晶表示装置Info
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- JPH0364791A JPH0364791A JP20183189A JP20183189A JPH0364791A JP H0364791 A JPH0364791 A JP H0364791A JP 20183189 A JP20183189 A JP 20183189A JP 20183189 A JP20183189 A JP 20183189A JP H0364791 A JPH0364791 A JP H0364791A
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title claims abstract description 24
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 60
- 210000002858 crystal cell Anatomy 0.000 claims abstract description 19
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 210000004027 cell Anatomy 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
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- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
る。
第1図は本発明によるTFT液晶表示装置の1画素部分
を抜き出して示したものである。同図に示すようにアド
レスラインA及びデータラインDがマトリックス状に配
列され、その各交点部分に選択用薄膜トランジスタTが
配置される。この薄膜トランジスタTは、ゲート電極が
アドレスラインAに接続され、ドレイン電極がデータラ
インDに接続される。上記アドレスラインAには、時分
割された走査信号が供給され、データラインDには、サ
ンプリングされた画素情報が入力される。
を抜き出して示したものである。同図に示すようにアド
レスラインA及びデータラインDがマトリックス状に配
列され、その各交点部分に選択用薄膜トランジスタTが
配置される。この薄膜トランジスタTは、ゲート電極が
アドレスラインAに接続され、ドレイン電極がデータラ
インDに接続される。上記アドレスラインAには、時分
割された走査信号が供給され、データラインDには、サ
ンプリングされた画素情報が入力される。
上記薄膜トランジスタTのソース電極は、不揮発性メモ
リ素子、すなわち、薄膜トランジスタにより構成した薄
膜メモリ素子対のゲート電極に接続される。この薄膜メ
モリ素子間は、ドレイン電極が電源端子11に接続され
、ソース電極が液晶セルLCの透明画素電極に接続され
る。そして、上記電源端子11に所定の電源電圧が与え
られ、液晶セルLCのコモン電極Cにコモン信号が印加
される。
リ素子、すなわち、薄膜トランジスタにより構成した薄
膜メモリ素子対のゲート電極に接続される。この薄膜メ
モリ素子間は、ドレイン電極が電源端子11に接続され
、ソース電極が液晶セルLCの透明画素電極に接続され
る。そして、上記電源端子11に所定の電源電圧が与え
られ、液晶セルLCのコモン電極Cにコモン信号が印加
される。
上記選択用薄膜トランジスタTは、第2図(a)のゲー
ト電圧VG−ドレイン電流(ソース−ドレイン間に流れ
る電流)Io特性に示すようにゲート電圧v(、の値に
よってドレイン電流I0がオン/オフするスイッチング
特性をHするものが使用される。また、薄膜メモリ素子
間は、第2図(b)のV。−ro特性に示すようにヒス
テリシス特性を有するものが使用される。このヒステリ
シス特性におけるデプレッション・タイプの特性部分a
1エンハンスメント・タイプの特性部分すを利用して薄
膜メモリ素子対に対する画素情報の書込みが行なわれる
。
ト電圧VG−ドレイン電流(ソース−ドレイン間に流れ
る電流)Io特性に示すようにゲート電圧v(、の値に
よってドレイン電流I0がオン/オフするスイッチング
特性をHするものが使用される。また、薄膜メモリ素子
間は、第2図(b)のV。−ro特性に示すようにヒス
テリシス特性を有するものが使用される。このヒステリ
シス特性におけるデプレッション・タイプの特性部分a
1エンハンスメント・タイプの特性部分すを利用して薄
膜メモリ素子対に対する画素情報の書込みが行なわれる
。
上記のようなメモリ特性をもつ薄膜メモリ素子対を形成
するには、上記通常の薄膜トランジスタTで用いられて
いるゲート絶縁膜である5iNI良の組成、つまり、シ
リコン原子Siと窒素原、子Nとの組成比S i /
Nを化学量論比(S i / N −0,75)より太
きく (S i/N=0.85〜1.1)することで
達成することができる。第3図は、上記SiN膜の組成
比S i / Nとヒステリシス幅、即ち第2図(b)
におけるΔVtとの関係を示したものである。上記第3
図からも明らかなようにSiN膜の組成比Si/Nをr
O,85〜’1.IJの範凹で設定することにより、大
きなヒステリシス幅ΔVtが得られることが分かる。
するには、上記通常の薄膜トランジスタTで用いられて
いるゲート絶縁膜である5iNI良の組成、つまり、シ
リコン原子Siと窒素原、子Nとの組成比S i /
Nを化学量論比(S i / N −0,75)より太
きく (S i/N=0.85〜1.1)することで
達成することができる。第3図は、上記SiN膜の組成
比S i / Nとヒステリシス幅、即ち第2図(b)
におけるΔVtとの関係を示したものである。上記第3
図からも明らかなようにSiN膜の組成比Si/Nをr
O,85〜’1.IJの範凹で設定することにより、大
きなヒステリシス幅ΔVtが得られることが分かる。
しかして、第1図に示したTFT液晶表示装置において
、アドレスラインAに特分割された走査(3号が9.え
られ、データラインDにサンプリングされた画素情報、
即ち、テレビ映像信号に対応する階調信号が与えられる
。アドレスラインAに、!jえられた走査信号は薄膜ト
ランジスタTのゲート電極に入力され、その間、f+’
i II+ トランジスタTがオン状態に保持され、デ
ータラインDに与えられている階調信号が選択されてハ
シ膜メモリ索子Mのゲート電極に入力される。薄膜メモ
リ素子間は、ゲート電極に人力された階調信号に応じて
スレッシュホールド7じ圧vthがシフトしてオン抵抗
が変化する。lfk晶セルLCには、電源端子11に与
えられている電源電圧が薄膜メモリ素子間を介して供給
されているので、薄膜メモリ素子間のオン抵抗に応じて
薄膜メモリ素子間への供給電位が変化する。従って、デ
ータラインDに与えられる階調信号に応じた本能が液晶
セルLCにLjえられることになる。
、アドレスラインAに特分割された走査(3号が9.え
られ、データラインDにサンプリングされた画素情報、
即ち、テレビ映像信号に対応する階調信号が与えられる
。アドレスラインAに、!jえられた走査信号は薄膜ト
ランジスタTのゲート電極に入力され、その間、f+’
i II+ トランジスタTがオン状態に保持され、デ
ータラインDに与えられている階調信号が選択されてハ
シ膜メモリ索子Mのゲート電極に入力される。薄膜メモ
リ素子間は、ゲート電極に人力された階調信号に応じて
スレッシュホールド7じ圧vthがシフトしてオン抵抗
が変化する。lfk晶セルLCには、電源端子11に与
えられている電源電圧が薄膜メモリ素子間を介して供給
されているので、薄膜メモリ素子間のオン抵抗に応じて
薄膜メモリ素子間への供給電位が変化する。従って、デ
ータラインDに与えられる階調信号に応じた本能が液晶
セルLCにLjえられることになる。
そして、上記アドレスラインAに走査信号が入力された
後、非選択期間に入ると、選択用薄膜トランジスタTが
オフし、データラインDの信号と薄膜メモリ素子間のゲ
ート電極が切り離される。
後、非選択期間に入ると、選択用薄膜トランジスタTが
オフし、データラインDの信号と薄膜メモリ素子間のゲ
ート電極が切り離される。
この結果、薄膜メモリ素子間は、階調信号によるオン状
態がそのまま保持され、次の走査時まで液晶セルLCの
画素電位が容量のチャージに頼ることなく保持され続け
る。このため各液晶セルLCは、非走査時であっても走
査時と同じ?li位で表示駆動され、常に安定した表示
状態に保たれる。
態がそのまま保持され、次の走査時まで液晶セルLCの
画素電位が容量のチャージに頼ることなく保持され続け
る。このため各液晶セルLCは、非走査時であっても走
査時と同じ?li位で表示駆動され、常に安定した表示
状態に保たれる。
また、上記実施例によれば、両像の高精細化を図るため
に画素数を増加して書込み時間が短くなった場合でも、
次の走査時まで液部セルLCの印加電位を同じレベルに
保つことができ、高速のドライバを使用することなく高
い両像品位品を得ることができる。更に、画素情報が薄
膜メモリ素子間に記憶されるので、走査信号を停止する
ことにより、静止画を表示することができる。上記薄膜
メモリ素子間に記憶された画素情報は、電源をオフして
もそのまま保持される。
に画素数を増加して書込み時間が短くなった場合でも、
次の走査時まで液部セルLCの印加電位を同じレベルに
保つことができ、高速のドライバを使用することなく高
い両像品位品を得ることができる。更に、画素情報が薄
膜メモリ素子間に記憶されるので、走査信号を停止する
ことにより、静止画を表示することができる。上記薄膜
メモリ素子間に記憶された画素情報は、電源をオフして
もそのまま保持される。
[第2尖施例]
次に第4図を参照して本発明の第2実施例について説明
する。上記第1実施例では、1画素に対して1組の薄膜
トランジスタT及び薄膜メモリ索子・Mを設けたのに対
し、この第2実施例では第4図に示すように1画素に対
して2組のL専膜トランジスタT1.T2及び薄膜メモ
リ素子Ml、M2を設け、奇数フィールドの画素情報と
偶数フィールドのi+jii素情報をそれぞれ別個に記
憶させるようにしたものである。すなわち、1つのデー
タラインDに対して2つのアドレスラインAI、A2を
設け、薄膜トランジスタTI、T2のドレイン電極をデ
ータラインDに共通接続し、各ゲート電極をアドレスラ
インA2.AIにそれぞれ接続する。
する。上記第1実施例では、1画素に対して1組の薄膜
トランジスタT及び薄膜メモリ索子・Mを設けたのに対
し、この第2実施例では第4図に示すように1画素に対
して2組のL専膜トランジスタT1.T2及び薄膜メモ
リ素子Ml、M2を設け、奇数フィールドの画素情報と
偶数フィールドのi+jii素情報をそれぞれ別個に記
憶させるようにしたものである。すなわち、1つのデー
タラインDに対して2つのアドレスラインAI、A2を
設け、薄膜トランジスタTI、T2のドレイン電極をデ
ータラインDに共通接続し、各ゲート電極をアドレスラ
インA2.AIにそれぞれ接続する。
このアドレスラインA2には奇数フィールドにおいて走
査信号が与えられ、アドレスラインA2には偶数フィー
ルドにおいて走査信号が与えられる。
査信号が与えられ、アドレスラインA2には偶数フィー
ルドにおいて走査信号が与えられる。
そして、薄膜トランジスタTI、T2のソース電極を薄
膜メモリ素子Ml、M2のゲート電極にそれぞれ接続す
る。この薄膜メモリ素子Ml 、 M2は、ドレイン電
極がそれぞれ電源端子11a。
膜メモリ素子Ml、M2のゲート電極にそれぞれ接続す
る。この薄膜メモリ素子Ml 、 M2は、ドレイン電
極がそれぞれ電源端子11a。
11bに接続され、ソース電極が選択用薄膜トランジス
タT3.T4のドレイン電極に接続される。この選択用
薄膜トランジスタT3.T4は、ゲート電極が入力端子
12a、12bに接続され、ソース電極が液晶セルLC
の透明画素7G極に接続される。そして、上記電源端子
11a。
タT3.T4のドレイン電極に接続される。この選択用
薄膜トランジスタT3.T4は、ゲート電極が入力端子
12a、12bに接続され、ソース電極が液晶セルLC
の透明画素7G極に接続される。そして、上記電源端子
11a。
11bに所定の電源電圧がりえられると共に、入力端子
12aに奇数フィールド信号FAが人力され、入力端子
12bに偶数フィールド信号FBが人力され、液晶セル
LCのコモン電極Cにコモン信号が印加される。
12aに奇数フィールド信号FAが人力され、入力端子
12bに偶数フィールド信号FBが人力され、液晶セル
LCのコモン電極Cにコモン信号が印加される。
上記の構成において、入力端子12a、12bに与えら
れるフィールド信号FA、FBにより選択用薄膜トラン
ジスタT3あるいはT4がオンし、薄膜メモリ素子Ml
あるいはM2の系統が選択される。すなわち、奇数フィ
ールドでは、選択用薄膜トランジスタT4がオフして薄
膜メモリ素子M2の系統が非選択状態となるが、この非
選択状態においてアドレスラインAlに走査信号が与え
られて選択用薄膜トランジスタT2がオンし、薄膜メモ
リ索子M2に画素情報が書込まれる。そして、偶数フィ
ールドに入ると、フィールド信号FBにより選択用薄膜
トランジスタT4がオンし、薄膜メモリ索子M2に保持
されている画素情報により液晶セルLCが表示駆動され
る。
れるフィールド信号FA、FBにより選択用薄膜トラン
ジスタT3あるいはT4がオンし、薄膜メモリ素子Ml
あるいはM2の系統が選択される。すなわち、奇数フィ
ールドでは、選択用薄膜トランジスタT4がオフして薄
膜メモリ素子M2の系統が非選択状態となるが、この非
選択状態においてアドレスラインAlに走査信号が与え
られて選択用薄膜トランジスタT2がオンし、薄膜メモ
リ索子M2に画素情報が書込まれる。そして、偶数フィ
ールドに入ると、フィールド信号FBにより選択用薄膜
トランジスタT4がオンし、薄膜メモリ索子M2に保持
されている画素情報により液晶セルLCが表示駆動され
る。
一方、上記偶数フィールドでは、選択用薄膜トランジス
タT3がオフして薄膜メモリ素子Mlの系統が非選択状
態となるが、この非違°択状態においてアドレスライン
A2に走査信号が与えられて選択用薄膜トランジスタT
lがオンし、薄膜メモリ素子Mlに画素情報が書込まれ
る。そして、次の奇数フィールドに切換わったときに、
この薄膜メモリ素子Mlに保持された画素情報に基づい
て液晶セルLCが表示駆動される。
タT3がオフして薄膜メモリ素子Mlの系統が非選択状
態となるが、この非違°択状態においてアドレスライン
A2に走査信号が与えられて選択用薄膜トランジスタT
lがオンし、薄膜メモリ素子Mlに画素情報が書込まれ
る。そして、次の奇数フィールドに切換わったときに、
この薄膜メモリ素子Mlに保持された画素情報に基づい
て液晶セルLCが表示駆動される。
上記のように奇数フィールド及び偶数フィールドの1]
素情報が薄膜メモリ素子Ml、M2に交互に書込まれ、
その保持情報に基づいて液晶セルLCが交互に表示駆動
される。薄膜メモリ素子M1.M2には、それぞれ非表
示フィールドにおいて画素情報の書き込みが行なわれの
で、画素+1r報を安定して表示させることができる。
素情報が薄膜メモリ素子Ml、M2に交互に書込まれ、
その保持情報に基づいて液晶セルLCが交互に表示駆動
される。薄膜メモリ素子M1.M2には、それぞれ非表
示フィールドにおいて画素情報の書き込みが行なわれの
で、画素+1r報を安定して表示させることができる。
〔発明の効果]
以上詳記したように本発明によれば、選択用薄膜トラン
ジスタにより選択された画素情報を薄膜メモリ素子に記
憶し、このメモリ素子に記憶した画像情報により液晶セ
ルを駆動するようにしので、選択時以外であっても画素
信号を液晶セルを供給し続けることが可能となり、高品
質の画像を表示することができる。
ジスタにより選択された画素情報を薄膜メモリ素子に記
憶し、このメモリ素子に記憶した画像情報により液晶セ
ルを駆動するようにしので、選択時以外であっても画素
信号を液晶セルを供給し続けることが可能となり、高品
質の画像を表示することができる。
第1図は本発明の第1実施例におけるTFT液晶表示装
置の1画素の構成を示す等価回路図、第2図(a)、(
b)は第1図における選択用薄膜トランジスタ及び薄膜
メモリ素子の特性・を示す図、第3図は薄膜メモリ素子
のS i / N組成比とヒステリシスの大きさとの関
係を示す特性図、第4図は本発明の第2実施例における
TFT戒晶表示装置の1画素の構成を示す等価回路図、
第5図は従来のTFT液晶表示装置における1画素の構
成を示す等価回路図である。 D・・・データライン、A、AI、A2・・・アドレス
ライン、T、Tl−T4・・・選択用薄膜トランジスタ
、M、Ml 、M2・・・薄膜メモリ素子、LC・・・
液晶セル。 第1図
置の1画素の構成を示す等価回路図、第2図(a)、(
b)は第1図における選択用薄膜トランジスタ及び薄膜
メモリ素子の特性・を示す図、第3図は薄膜メモリ素子
のS i / N組成比とヒステリシスの大きさとの関
係を示す特性図、第4図は本発明の第2実施例における
TFT戒晶表示装置の1画素の構成を示す等価回路図、
第5図は従来のTFT液晶表示装置における1画素の構
成を示す等価回路図である。 D・・・データライン、A、AI、A2・・・アドレス
ライン、T、Tl−T4・・・選択用薄膜トランジスタ
、M、Ml 、M2・・・薄膜メモリ素子、LC・・・
液晶セル。 第1図
Claims (1)
- 時分割された走査信号が供給される複数のアドレスライ
ンと、サンプリングされた画素信号が供給される複数の
データラインと、これらのアドレスライン及びデータラ
インの各交点部に配置されて対応するアドレスライン及
びデータラインに接続される選択用薄膜トランジスタと
、これらの各選択用薄膜トランジスタにより選択された
画素信号を記憶する薄膜メモリ素子と、これらの各薄膜
メモリ素子に保持された画素信号に基づいてそれぞれ表
示駆動される液晶セルとを具備したことを特徴とするT
FT液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20183189A JPH0364791A (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | Tft液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20183189A JPH0364791A (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | Tft液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0364791A true JPH0364791A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16447617
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20183189A Pending JPH0364791A (ja) | 1989-08-03 | 1989-08-03 | Tft液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0364791A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000008626A1 (fr) * | 1998-08-03 | 2000-02-17 | Seiko Epson Corporation | Dispositif electro-optique, substrat a cet effet, dispositif electronique, et afficheur a projection |
KR100411320B1 (ko) * | 2000-03-31 | 2003-12-18 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 디지털 데이터에 기초하여 계조 표시가 가능한 액정 표시장치 및 그것을 구비하는 휴대 전화기 |
JP2004062147A (ja) * | 2002-06-03 | 2004-02-26 | Ricoh Co Ltd | 液晶駆動回路、空間光変調装置及び画像表示装置 |
US6853370B2 (en) | 2001-01-10 | 2005-02-08 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device with electro-optical element activated from plural memory elements |
WO2006005749A1 (fr) * | 2004-07-13 | 2006-01-19 | Thales | Afficheur matriciel a cristaux liquides |
JP2012088737A (ja) * | 2000-09-18 | 2012-05-10 | Sanyo Electric Co Ltd | 表示装置 |
WO2012090803A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
-
1989
- 1989-08-03 JP JP20183189A patent/JPH0364791A/ja active Pending
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2000008626A1 (fr) * | 1998-08-03 | 2000-02-17 | Seiko Epson Corporation | Dispositif electro-optique, substrat a cet effet, dispositif electronique, et afficheur a projection |
US6628258B1 (en) | 1998-08-03 | 2003-09-30 | Seiko Epson Corporation | Electrooptic device, substrate therefor, electronic device, and projection display |
KR100517398B1 (ko) * | 1998-08-03 | 2005-09-28 | 세이코 엡슨 가부시키가이샤 | 전기 광학 장치용 기판, 전기 광학 장치, 전자 기기 및투사형 표시 장치 |
KR100411320B1 (ko) * | 2000-03-31 | 2003-12-18 | 미쓰비시덴키 가부시키가이샤 | 디지털 데이터에 기초하여 계조 표시가 가능한 액정 표시장치 및 그것을 구비하는 휴대 전화기 |
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WO2006005749A1 (fr) * | 2004-07-13 | 2006-01-19 | Thales | Afficheur matriciel a cristaux liquides |
FR2873227A1 (fr) * | 2004-07-13 | 2006-01-20 | Thales Sa | Afficheur matriciel |
JP2008506979A (ja) * | 2004-07-13 | 2008-03-06 | テールズ | マトリックスディスプレイ |
US8144101B2 (en) | 2004-07-13 | 2012-03-27 | Thales | Liquid-crystal matrix display |
WO2012090803A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
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