JPH035736Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH035736Y2 JPH035736Y2 JP1983049921U JP4992183U JPH035736Y2 JP H035736 Y2 JPH035736 Y2 JP H035736Y2 JP 1983049921 U JP1983049921 U JP 1983049921U JP 4992183 U JP4992183 U JP 4992183U JP H035736 Y2 JPH035736 Y2 JP H035736Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slit
- flow
- spool
- control valve
- flow control
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
- 239000012530 fluid Substances 0.000 claims description 12
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 4
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 102100027340 Slit homolog 2 protein Human genes 0.000 description 1
- 101710133576 Slit homolog 2 protein Proteins 0.000 description 1
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 1
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetically Actuated Valves (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本考案は、ソレノイドに印加される制御電流に
応じて高圧側流路から低圧側流路に流れる圧力流
体の流量を制御する電磁流量制御弁に関するもの
である。
応じて高圧側流路から低圧側流路に流れる圧力流
体の流量を制御する電磁流量制御弁に関するもの
である。
〈従来技術〉
この種の電磁流量制御弁として、例えば第1図
に示した様に、バルブ本体10の内孔11内に筒
状のスプール20を軸方向に摺動可能に嵌挿し、
このスプール20の内端部にその軸線方向に所定
の長さにわたつて円周方向に所定の幅で切欠して
設けた複数個のスリツト21により軸方向変位に
応じて開口面積が変化するバイパス通路を第1流
路P1と第2流路P2間に形成したものがある。
に示した様に、バルブ本体10の内孔11内に筒
状のスプール20を軸方向に摺動可能に嵌挿し、
このスプール20の内端部にその軸線方向に所定
の長さにわたつて円周方向に所定の幅で切欠して
設けた複数個のスリツト21により軸方向変位に
応じて開口面積が変化するバイパス通路を第1流
路P1と第2流路P2間に形成したものがある。
かかる電磁流量制御弁において、前記バイパス
通路を流れる圧力流体が所定の幅を有するスリツ
ト21の切欠端面に作用することにより、前記ス
プール20には、第1図の左半断面に示す様に第
1流路P1から第2流路P2へ圧力流体を流した場
合、更にその逆の第1図の右半断面に示す様に第
2流路P2から第1流路P1へ圧力流体を流した場
合ともバイパス通路の開度Xを狭める方向にフロ
ーフオースF1,F2が作用し、第5図に示す様に
弁差圧ΔP=P1−P2=P2−P1一定時の前記フロー
フオースF1,F2の大きさが異なるため、開度X
の制御に影響を及ぼし、流れの方向により正確な
流量制御ができない問題点があつた。
通路を流れる圧力流体が所定の幅を有するスリツ
ト21の切欠端面に作用することにより、前記ス
プール20には、第1図の左半断面に示す様に第
1流路P1から第2流路P2へ圧力流体を流した場
合、更にその逆の第1図の右半断面に示す様に第
2流路P2から第1流路P1へ圧力流体を流した場
合ともバイパス通路の開度Xを狭める方向にフロ
ーフオースF1,F2が作用し、第5図に示す様に
弁差圧ΔP=P1−P2=P2−P1一定時の前記フロー
フオースF1,F2の大きさが異なるため、開度X
の制御に影響を及ぼし、流れの方向により正確な
流量制御ができない問題点があつた。
〈考案の目的〉
本考案は、かかる従来の問題点を解消するた
め、スリツトの切込端面の幅方向の内周部側に面
取りを設け、バイパス部をシヤープエツジに加工
し、流れの方向の違いによるバイパス通路の開度
変化を極力防止し、流れの方向に関係なくより正
確な流量制御を行うことを目的とする。
め、スリツトの切込端面の幅方向の内周部側に面
取りを設け、バイパス部をシヤープエツジに加工
し、流れの方向の違いによるバイパス通路の開度
変化を極力防止し、流れの方向に関係なくより正
確な流量制御を行うことを目的とする。
〈考案の構成〉
本考案は、かかる目的を達成するために、スリ
ツトの切込端面の幅方向の内周部側のみ円筒の切
削工具等により面取りを施して、スリツトの切込
端面の面積を少なくし、圧力流体の流れの剥離、
再付着によるフローフオースの影響を流れの方向
に関係なくしたことを特徴とする電磁流量制御弁
である。
ツトの切込端面の幅方向の内周部側のみ円筒の切
削工具等により面取りを施して、スリツトの切込
端面の面積を少なくし、圧力流体の流れの剥離、
再付着によるフローフオースの影響を流れの方向
に関係なくしたことを特徴とする電磁流量制御弁
である。
〈実施例〉
以下本考案の実施例を図面に基づいて説明す
る。第2図において、32は取付基体で、この取
付基体32には、貫通穴32aが形成され、この
貫通穴32aの大径部には磁性体からなるバルブ
本体10の突出部10aが液密的に嵌合されてい
る。この突出部10aには、第1流路P1に開口
するポート12と、このポート12に連通する内
孔11が設けられている。また、突出部10aの
内端には、ステンレス鋼等からなる非磁性体のユ
ニオン24が螺着され、このユニオン24の内端
が貫通穴32aの小径部に液密的に嵌合してい
る。なお、このユニオン24には一端が第2流路
P2に開口し、他端が前記内孔11に開口するポ
ート13が形成されている。
る。第2図において、32は取付基体で、この取
付基体32には、貫通穴32aが形成され、この
貫通穴32aの大径部には磁性体からなるバルブ
本体10の突出部10aが液密的に嵌合されてい
る。この突出部10aには、第1流路P1に開口
するポート12と、このポート12に連通する内
孔11が設けられている。また、突出部10aの
内端には、ステンレス鋼等からなる非磁性体のユ
ニオン24が螺着され、このユニオン24の内端
が貫通穴32aの小径部に液密的に嵌合してい
る。なお、このユニオン24には一端が第2流路
P2に開口し、他端が前記内孔11に開口するポ
ート13が形成されている。
バルブ本体10の外端突出部にロー付等によつ
て固着したスリーブ26の内部には、磁性体から
なるヨーク27が嵌合固着され、このヨーク27
の内端とバルブ本体10の外端との間には、非磁
性体からなるスペーサリング50が介在されてい
る。ヨーク27の内端部には、筒状のスプール2
0の外端を所定のストロークを付与して、収容す
る筒状部27aが形成されている。
て固着したスリーブ26の内部には、磁性体から
なるヨーク27が嵌合固着され、このヨーク27
の内端とバルブ本体10の外端との間には、非磁
性体からなるスペーサリング50が介在されてい
る。ヨーク27の内端部には、筒状のスプール2
0の外端を所定のストロークを付与して、収容す
る筒状部27aが形成されている。
スリーブ26の外周には、非磁性体からなるボ
ビン28に巻かれたソレノイド29が設けられ、
このソレノイド29に包囲して内端がバルブ本体
10に接合する磁性体からなるカバー15がヨー
ク27の上端にボルト16によつて固着されてい
る。
ビン28に巻かれたソレノイド29が設けられ、
このソレノイド29に包囲して内端がバルブ本体
10に接合する磁性体からなるカバー15がヨー
ク27の上端にボルト16によつて固着されてい
る。
筒状のスプール20は、磁性体からなり、バル
ブ本体10の内孔11に摺動可能に嵌挿され、ヨ
ーク27の内孔27bに収納したステンレス鋼等
からなるスプリング25の付勢により通常ユニオ
ン24の下降端に保持されている。
ブ本体10の内孔11に摺動可能に嵌挿され、ヨ
ーク27の内孔27bに収納したステンレス鋼等
からなるスプリング25の付勢により通常ユニオ
ン24の下降端に保持されている。
一方このスプール20には、第3図に示すよう
にその中心部に大径穴35ならびに小径穴36が
形成されるとともに、この大径穴35には、内端
部側から外端部側に向かつてバイパス用スリツト
21が軸方向に所定の長さに亘つて円周方向に所
定の幅で複数個形成されている。このスリツト2
1は、スプール20が下降端位置にあるときポー
ト12との連通が遮断され、またスプール20の
上方向変位によりポート12とポート13との間
を連通するバイパス通路を構成する。
にその中心部に大径穴35ならびに小径穴36が
形成されるとともに、この大径穴35には、内端
部側から外端部側に向かつてバイパス用スリツト
21が軸方向に所定の長さに亘つて円周方向に所
定の幅で複数個形成されている。このスリツト2
1は、スプール20が下降端位置にあるときポー
ト12との連通が遮断され、またスプール20の
上方向変位によりポート12とポート13との間
を連通するバイパス通路を構成する。
前記スリツト21の切込端面37にはその内周
側に切削加工等により、面取り38が設けてあ
る。第4図に示す様に面取り38は、スプール2
0の外径にかからない程度の隙間δまで加工し、
スリツトの切込端面37をシヤープエツジに近い
構成とする。
側に切削加工等により、面取り38が設けてあ
る。第4図に示す様に面取り38は、スプール2
0の外径にかからない程度の隙間δまで加工し、
スリツトの切込端面37をシヤープエツジに近い
構成とする。
上記構成の電磁流量制御弁において、ソレノイ
ド29に電流を印加すると、このソレノイド29
の吸引力が、スプリング25の付勢力に打勝つ
て、スプール20が上方向に変位し始める。これ
により、スリツト21がポート12に開口され、
両ポート12,13間にバイパス通路が構成さ
れ、その通路の開度に応じた流量が、第1流路
P1より、第2流路P2へ、また第2流路P2より第
1流路P1へ圧力流体が流れ込む。
ド29に電流を印加すると、このソレノイド29
の吸引力が、スプリング25の付勢力に打勝つ
て、スプール20が上方向に変位し始める。これ
により、スリツト21がポート12に開口され、
両ポート12,13間にバイパス通路が構成さ
れ、その通路の開度に応じた流量が、第1流路
P1より、第2流路P2へ、また第2流路P2より第
1流路P1へ圧力流体が流れ込む。
ところで、この第1流路P1より第2流路P2へ
圧力流体を通過させる場合、第3図左半断面に示
す様に切込端面37がシヤープエツジに近い構成
となつているため、切込端面37に流れの再付着
が起こりにくくなり、主として切込端面37のa
点での流れの剥離の影響によりスプールを閉じよ
うとするフローフオースF1′がスプール20に作
用する。
圧力流体を通過させる場合、第3図左半断面に示
す様に切込端面37がシヤープエツジに近い構成
となつているため、切込端面37に流れの再付着
が起こりにくくなり、主として切込端面37のa
点での流れの剥離の影響によりスプールを閉じよ
うとするフローフオースF1′がスプール20に作
用する。
ここで第1図で示したフローフオースF1と比
較するとF1<F1′となる。
較するとF1<F1′となる。
次に第2流路P2より第1流路P1へ圧力流体を
通過させる場合、第3図の右半断面に示す様に、
スリツト21の切込端面37がシヤープエツジに
近い構成となつているが、切込端面37のa点で
の流れの剥離は、解消できず、スプールを閉じよ
うとするフローフオースF2′がスプール20に作
用する。ここで第1図に示したフローフオース
F2と比較すると、F2≒F2′となる。第5図にフロ
ーフオースF1,F2,F1′,F2′の関係を示す。
通過させる場合、第3図の右半断面に示す様に、
スリツト21の切込端面37がシヤープエツジに
近い構成となつているが、切込端面37のa点で
の流れの剥離は、解消できず、スプールを閉じよ
うとするフローフオースF2′がスプール20に作
用する。ここで第1図に示したフローフオース
F2と比較すると、F2≒F2′となる。第5図にフロ
ーフオースF1,F2,F1′,F2′の関係を示す。
従つて、第1流路P1から第2流路P2への圧力
流体の流れによるフローフオースF1′と第2流路
から第1流路への圧力流体の流れによるフローフ
オースF2′とはほぼ同程度となり、流れの方向が
いずれの場合も、バイパス開度がほぼ一定となる
ため、両者の流れに対する流量制御を均一にでき
る。
流体の流れによるフローフオースF1′と第2流路
から第1流路への圧力流体の流れによるフローフ
オースF2′とはほぼ同程度となり、流れの方向が
いずれの場合も、バイパス開度がほぼ一定となる
ため、両者の流れに対する流量制御を均一にでき
る。
〈考案の効果〉
以上述べたように本考案の電磁流量制御弁は、
スリツトの切込端面の幅方向の内周部側のみに例
えば円弧状の面取りを設ける簡単な構成により、
流れの方向に関係なくスプールを閉じようとする
フローフオースをほぼ一定にできるため、流れの
方向による流量特性の差異を減少させる効果があ
るととも、スリツトの切込端面部のみに面取りを
設けているため、部品強度を確保する上にも効果
がある。
スリツトの切込端面の幅方向の内周部側のみに例
えば円弧状の面取りを設ける簡単な構成により、
流れの方向に関係なくスプールを閉じようとする
フローフオースをほぼ一定にできるため、流れの
方向による流量特性の差異を減少させる効果があ
るととも、スリツトの切込端面部のみに面取りを
設けているため、部品強度を確保する上にも効果
がある。
第1図は従来の電磁流量制御弁の主要断面図、
第2図は本考案の電磁流量制御弁の断面図、第3
図は第2図の要部拡大断面図、第4図は第3図の
−線矢視断面図、第5図はスプール開度とフ
ローフオースとの関係を表す図である。 10……バルブ本体、11……内孔、12,1
3……ポート、20……スプール、21……スリ
ツト、37……切込端面、38……スリツト切込
端面面取り、25……スプリング、29……ソレ
ノイド。
第2図は本考案の電磁流量制御弁の断面図、第3
図は第2図の要部拡大断面図、第4図は第3図の
−線矢視断面図、第5図はスプール開度とフ
ローフオースとの関係を表す図である。 10……バルブ本体、11……内孔、12,1
3……ポート、20……スプール、21……スリ
ツト、37……切込端面、38……スリツト切込
端面面取り、25……スプリング、29……ソレ
ノイド。
Claims (1)
- 高圧流体と低圧流体が流通する2つの流路にそ
れぞれ連通する2つのポートを有し、かつこれら
ポートのいずれか一方が側面に開口する内孔を形
成してなるバルブ本体と、その軸線方向に所定の
長さにわたつて円周方向に所定の幅で切欠して設
けたスリツトを有し、前記バルブ本体の内孔内で
の軸方向変位に応じて前記スリツトの前記ポート
との開口面積が変化するバイパス通路を形成する
筒状のスプールと、制御電流が印加されるソレノ
イドと、前記スリツトが前記バイパス通路を閉じ
る方向に前記スプールを付勢するスプリングとを
具備する電磁流量制御弁において、前記スリツト
の切込端面の幅方向の内周部側に面取りを施した
ことを特徴とする電磁流量制御弁。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4992183U JPS59155371U (ja) | 1983-04-04 | 1983-04-04 | 電磁流量制御弁 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4992183U JPS59155371U (ja) | 1983-04-04 | 1983-04-04 | 電磁流量制御弁 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59155371U JPS59155371U (ja) | 1984-10-18 |
JPH035736Y2 true JPH035736Y2 (ja) | 1991-02-14 |
Family
ID=30180407
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4992183U Granted JPS59155371U (ja) | 1983-04-04 | 1983-04-04 | 電磁流量制御弁 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59155371U (ja) |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS57155371U (ja) * | 1981-03-24 | 1982-09-29 | ||
JPS6142506Y2 (ja) * | 1981-03-27 | 1986-12-02 |
-
1983
- 1983-04-04 JP JP4992183U patent/JPS59155371U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59155371U (ja) | 1984-10-18 |
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