JPH0355919B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 Ａ 産業上の利用分野 本発明はデータ保存特性の高い静的メモリ・セ
ルを有する集積半導体メモリのための長期DC安
定性設計／テスト技法に関する。

Ｂ 開示の概要 本発明に従い、待機電流が極めて小さく固有の
データ保存性の高い、静的メモリ装置の長期安定
性テストが容易に行われる改良設計／テスト技法
が与えられる。本発明のテスト方法の着想はメモ
リ装置の待機条件装置の欠陥が語線の待機電位に
関連するという事実に基づく。待機状態、即ち非
選択動作モードにおける語線の電位がその公称値
と異なつている事の部分的もしくは完全に選択さ
れていない装置への撹乱書込み動作を行う事によ
つて達成される。この結果欠陥語線に沿うセルは
良好な語線に沿うセルよりも撹乱が少なくなる。
この結果（反転誤りパターン）は（長期の）デー
タ保存の問題を生ずる様な欠陥語線の選別に使用
される。

Ｃ 従来技術 半導体メモリの集積密度が増大するにつれ、チ
ツプのすべてのメモリ機能のテスト可能性の問題
が大きくなつた。複雑な論理チツプの場合には、
後の段階の種々のテストを容易にするためにチツ
プの設計レベルでかなりな努力がはらわれるのが
通例になつている。半導体メモリの開発及び製造
の分野では、通常多くのテスト・シーケンスを行
なつて、種々の読取り／書込み動作中に、温度、
電源、信号レベルの公差、タイミングの変動、テ
スト・パターン等のパラメータの影響を受けやす
い夫々のメモリ・チツプの機能が検査されてい
る。一般にこのテストは比較的短時間、例えば
２、３秒で行われている。動的メモリの場合には
対応するメモリ・セルの長期の安定性は、比較的
リフレツシユ時間が短かいのでテスト時間もそれ
なりに短かい、実時間リフレツシユ・テストと呼
ばれるテストによつて検査されている。

静的メモリ分野の開発が進んで固有の長期デー
タ保存期間を有するメモリ・セルが製造されるに
つれ、長期の安定性のテストが特殊な問題となつ
た。例えばMTL／I²L型のメモリ・セルの如き相
補的負荷装置を与える事によつて静的セルは極め
てわずかな電力消費で動作を行う様になつた。こ
の型のメモリの詳細な説明は次の文献に示されて
いる。

1984年６月刊IEEEジヤーナル・オブ・ソリツ
ド・ステート・サーキツト第SC−19巻、第３号、
第282乃至第290頁のエス・ケー・ウイドマン著
「バイポーラVLSI回路及び技術の進歩」（S.K.
Wiedmann.“Advancements in Bipolas VLSI
Circuits and Technologies”in IEEEE Journal
of Solid−State Cercuits、VolSC−19、No.３、
June1984、pp.282−290）。特に第285頁に始まる
第章「メモリ装置の思想の進歩」には上記の
型、即ち注入結合セル、注入感知セル、低Ｒ（低
抵抗）注入結合セル、スプリツト・エミツタ・セ
ル等より成るメモリについての包括的な概観が与
えられている。本願明細書も、これ等の記法、対
応する回路図、レイアウトに基づいて説明する。

1984年２月23日刊エレクトロニクス第139乃至
第143頁のエス・ケイ・ウイードマン、エフ・ワ
ーナイク等著「注入結合論理のバイポーラRAM
VLSIへの応用」（S.K.Wiedmann、F.Wernicke
et al：“Injection coupled logic leads bipolar
RAMS to VLSI”in Electronics／
February23、、1984 pp139 to（43）及びGB特許
第1569800号。この２つの文献は共に感知のため
に逆注入現象を利用したMTL論理及びメモリ構
造（例べば注入感知セル）を開示している。

1983年10月刊IEEEジヤーナル・オブ・ソリツ
ド・ステート・サーキツト第SC18巻、第５号、
第486乃至第493頁のエス・ケイ・ウイードマン、
ケイ・エイ・ホイバー著「25ns8K×静的MTL／
I²L RAM」。この論文は上述の低抵抗（低Ｒ）
注入結合セル型について説明している。

集積半導体メモリにとつて消費電力が極めて少
い事は魅力ある一つの特徴であるがテスト可能性
に関する問題はこれ等のメモリ・セルの電源を切
断しても数分間は記憶した情報を保持出来る点に
ある。しかしながらコスト及び他の理由のため
に、全チツプのテスト時間は出来るだけ短かい方
がよく、２、３秒以下である事が望ましい。従つ
て、休止テストもしくは長サイクル・テストを行
う事によつて長期の安定性を検出する通常の方法
はもはや上述の型のメモリ・セルの分の範囲のデ
ータ保存時間では最適ではない。

さらに、この様に極端な安定なメモリ・セルは
通常の読取り／書込み機能テストの過程で各アド
レス段階もしくは半選択動作によつてリフレツシ
ユ出来る。即ちこれらのメモリは通常のセルの待
機電源流を使用しないでもテスト中に動作出来
る。

上述の事からメモリの待機条件電流系統の欠陥
は極めて複雑な信頼性上の問題を生ずる事が明ら
かである。それは、これ等の問題が通常のテスト
過程中に発見しにくいからである。しかしながら
製造上の欠陥により、夫々のメモリ・チツプがす
べての慣行の機能テストに合格したとしても、メ
モリ・セルもしくはメモリ・セル群のための待機
電流源が、例えば、切断されている事も一つの可
能な欠陥源として、無視する事は出来ない。

次の従来技術は上述の通常のテスト技術の代表
的なものである。

1978年１月刊IBMテクニカル・デイスクロー
ジヤ・ブリテイン（TDB）第20巻、第８号、第
3175／第3176頁（IBM Technical Disclosare
Bulletiv Vol.20、No.８、January 1978、
pp3175／3176）及び1979年２月刊IBM TDB第
21巻、第９号、第3659頁／第3660頁は通常の動作
中にメモリ・セルが互いに撹乱しない事を保証す
る様に特定のテスト・パターン・シーケンスを印
加するメモリ・セル撹乱テストに関する。

1977年４月刊IBM TDB第19巻、第11号、第
4197／第4198頁の論文は追加のビツト線及び関連
する感知回路を使用して、開放もしくは短絡の両
方の語線の故障によつて非アクチベート・データ
を出力を発生する語線故障検出回路に関する。

米国特許第4418403号は選択した語線上の電圧
を減少して動作させつつ、メモリの行に沿うメモ
リ・セルの適切な機能をテストするため、電源の
電圧を変化させないで語線に印加する電圧を変化
させる、語線に接続した装置を含むメモリ・セ
ル・マージンテスト回路に関する。

米国特許第4004222号はかなりの待ち時間を経
過しなければ検出されない様な欠陥セルが容易に
迅速に検出出来る、或るノードからのもれ電流を
加速する半導体メモリ・セルのためのテスト装置
に関する。

米国特許第3995215号はテスト信号を直接印加
出来ない一対のビツト線に接続されたフリツプ・
フロツプ・セルの負荷装置のテスト手段を含む半
導体メモリ装置のテスト方法に関する。テストは
テストを受けているメモリ・セルに印加される信
号の接続時間を変える事によつて行われている。

Ｄ 発明が解決しようとする問題点 本発明の目的は待機電流が極めて少なく、固有
のデータ保存姓が高い静的メモリ装置の長期安定
性テストを行うための効果的な設計／テスト方法
に関する。

Ｅ 問題点を解決するための手段 本発明はメモリ装置の待機条件装置の欠陥が待
機中の選択線、例えば語線の電位に関連があると
いう知見に基づいている。選択線の電位が待機状
態、即ち非選択動作モードに対して定められた公
称値と異なる事の検出は撹乱書込み動作を部分的
もしくは全体的に選択されていないメモリ装置に
対して行う事によつて達成される。この結果、欠
陥語線は良好な語線よりも撹乱されない。この事
実（反転誤りパターンを生ずること）は（長期）
データ保存の問題をなげかける欠陥語線をふるい
分けるのに使用される。上述の故障機構によつ
て、この種の欠陥は或る程度後になる迄、おそら
くカストマへの引き渡し後あるいは計算機システ
ムに組込む迄発見されないであろう。

Ｆ 実施例 上述の様に長期のデータ保存特性を有する現在
と半導体メモリ装置はその長期の安定性の信頼性
のある高速テストに関して特殊な問題がある。長
期の安定性を与えるための決定的因子は勿論メモ
り待機装置に故障がない事にある。この点からし
て、語線（WL）電位は重要な役割を演ずる。

現在のVLSI集積回路は大部分所謂多層チツプ
配線によつて製造されている。この技術に関連す
る故障の一つの型は２つの導電体層間の絶縁体に
ピンボールもしくは他の欠陥がある時の２つの層
間の短絡（所謂レベル間端絡ILS）である。これ
等のILS欠陥は夫々の語線上の電位を増大する。
代表的な場合、語線の電位の増大はセルの待機電
流の減少を生じ、セルを安定の限界に導き、やが
て記憶データを失う。待機電位の上昇は又例えば
プロセス上の欠陥によつて語線と待機電流源間の
接続が切れた場合にも生ずる。上記の従来の技術
の項で参照したデータ保存期間の長いメモリ・セ
ルでは、セルに書込まれた情報は待機電流が減少
したり、なくなつたりしてもかなり長い時間保存
される。このために、数分にもわたるテストを行
つて上述の誤り機構を有するチツプを発見してい
た。しかしながらこの様な時間のかかるテストは
一般に今日の大量生産には不適である。本発明は
短時間のテストで電位が増大した語線を発見す
る。

本発明を説明するために、すでに低抵抗（低
Ｒ）注入結合セルとして参照された型のメモリ・
セルを使用した第２図のメモリ・マトリツクスを
参照されたい。全体的なメモリ装置及び通常の読
取り／書込み動作の一般的な説明については上述
の文献を参照されたい。第２図は４個のメモリ・
セルを示しているが、完全なメモリ・チツプはこ
の様なセルを数万個も含んでいる。各セルは（今
の場合）フリツプ・フロツプ・トランジスタＴ１
及びＴ２より成り、これ等のトランジスタは一般
に知られているMTL／I²L技法に従つて逆状態で
動作するトランジスタ構造体をなしている。他の
トランジスタＴ３及びＴ４は相補的導電型のもの
であり、今の場合はPNP型である。トランジス
タＴ３及びＴ４は夫々負荷装置及びアクセス装置
を与えている。２つの語線WL１及びWLnが示さ
れているが、これ等は共にＸ選択を与える語線ス
イツチ・トランジスタTWS１及びTWSnによつ
て選択可能になつている。Ｙ選択は夫々トランジ
スタ・スイツチTYE及びTYOによつて与えられ
る。ここでＥは偶数番目のセルの選択及びＯは奇
数番目のセルの選択を与える。メモリ・セルの各
列はビツト線Ｂ０及びＢ１によつてＹ方向にアク
セス出来る。偶／奇セルを有するこの組織の場合
にはＢ１は所謂共用ビツト線を表わしている。本
発明の理解を容易にするために、メモリを動作さ
せる複雑な周辺回路のうち特定のものは意図的に
省略してある。例えば、選択スイツチは単にトラ
ンジスタとして示されているが、実際にはもつと
複雑な回路が含まれている。回路図、レイアウト
の概略図及びメモリ動作の説明は上述の1983年10
月刊のIEEEジヤーナル・オブ・ソリツド、ステ
ート・サーキツト第486頁以降の論文に与えられ
ている。

第２図では、語線WL１のための待機電流源が
Ｄ１（待機電流スイツチを示す）を介するWL１
と待機電流源I_STB間の接続の開放によつて示され
ている様に切断されているものとする。この場
合、Dnを介する他の語線WLnのための待機電流
源は影響を受けていない。この欠陥（以下WL開
放とも呼ぶ）はメモリの通常の読取り／書込み動
作に影響を与えない。すでに説明された様に、メ
モリ・セルはその記憶情報を100秒程度、さらに
は次のアドレツシング迄保持出来る。

本発明に従いすべてのメモリ・セルが待機電流
源に接続されているかどうかのテストは次の様な
手段で行われる。通常の動作と異なつて、メモ
リ・チツプをアドレスする時にすべての語線（少
なく共テストさるべき群の語線）は待機状態（ワ
ード線非選択）に保持されている。例えばこの動
作はテストの過程中に印加される特定の制御信号
によつて語解読器を脱勢する事によつて行われ
る。しかしながらビツト・スイツチ回路は書込み
動作中と同じ様に付勢され、これによつて１乃至
それ以上のビツト線の対を同時に選択する。この
様にしてビツト線対に沿うすべてのセルは同様に
“書込まれる”が、それは関連するセルが通常の
如く待機電源に接続されている場合に限る。この
事が本発明の理解にとつて重要な条件である。こ
れ迄に遂行された書込み動作は選択されたピツト
線対の単一のセルの通常の書込み動作と実質上同
じである。

WL１に供給される待機電流源が（第２図に示
されている様に）切断されると、例えば右上の奇
セルのための書込み電流I_W1′は０なる。即ちこの
セル状態は変化出来ず、その元の情報が保存され
たまゝとなる。適切な待機電流源を有する残りの
すべてのメモリ・セルでは書込み電流I_wはセルを
通つて語線に流れ、結果として或る時間後にその
メモリ状態を変化する。待機状態（非選択状態）
を保つているために、この種の（撹乱）書込み動
作は一般に選択状態の通常の書込み動作よりも時
間がかかる。それは待機状態のための書込み電流
が著しく少ないからである。それにも拘らずこの
撹乱書込みに要する時間はこの種のメモリ・セル
の長期の安定時間よりも数桁短かい。

上述の効果を云いかえると、本発明によつて選
択出来る型の欠陥を示すWL待機電位の増大はこ
の語線に沿うセルに、良好なWLに接続している
セルよりも小さな撹乱電流を与える。この事は欠
陥語線に沿うセルが良好なWLに沿うセルよりも
長時間、撹乱時間に記憶状態を保持出来る事を意
味している。本発明はこの効果を利用して待機電
流源の故障に関連した極めて複雑な欠陥現象の予
測を改善する。通常の手順と異なつて、この形の
テストはすべての機能しているセルの状態を変化
し、悪い語線に沿うセル（即ち通常の動作中故障
を生ずるセル）は不変に留まる（反転誤りパター
ンを生ずる）。

上述の故障の型（WL開放）の外に待機電源に
関係のある他の欠陥がある。この型の他の欠陥と
して、第２図の右側はWL１及び正の電圧源V1間
の短絡を破線の抵抗器RSH１によつて示してい
る。この短絡によつて夫々の語線WL１は公称値
よりもかなり高い待機電位を有し、関連するセル
の電流源を直接危くする。この様な短絡にも拘ら
ず、もし関連する語選択スイツチ（この場合
TWS１）が十分高い短絡回路電流をV1から
RSH１を介して流す事が出来るならば、通常の
書込み動作が遂行出来る。本発明の待機／撹乱書
込みテストによればこの型の欠陥も又容易に検出
出来る。

第３図は第２図と実質的に同じメモリ・セル装
置であるが、待機装置に生ずる他の欠陥の型を示
している。第３図に仮定されている型の欠陥はＹ
１及びＹ２で示された正のセル端子、即ち特定の
メモリ・セルの注入側の待機電流源の中断（開
放）である。第３図の様な装置では正のセル電流
はTYE及びTYOによつて示されたＹ選択スイツ
チによつては供給されず、概略的にSTBとして
示された夫々の電源端子への抵抗器RYの接続で
示された別個の電源によつて行われている。この
型の故障も又本発明の待機／撹乱書込みテストに
よつて検出出来る。

上述の本発明のテスト方法は、テストを受けて
いるメモリ・チツプを動作させるための外部の制
御信号によつてセルの待機電流もしくはビツト線
の撹乱電流或はその両方を増大させる事によつて
さらに最適化出来る（テスト時間の短絡）。上述
のテストを具体化するのには２、３の追加の制御
ゲート及び追加のテスト・パツドが必要になる。
以下さらに明らかになる様に、上述の方法を使用
するにはすでに通常のチツプ動作で使用されてい
た対応する制御信号を利用する事も出来る。さら
に上述の方法はすでに説明された様に広範囲のメ
モリ・セルのタイプに適用可能である。事実本発
明の方法は待機時の電力消費が著しく少ない状態
で固有の長期データ保存特性を有するすべての静
的バイボーラもしくはFET集積メモリに適用出
来る。この様なメモリ・マトリツクスの待機／撹
乱書込みテストのための回路のより一般的なブロ
ツク図は第１図に示されている。第１図のメモ
リ・セルを表わすブロツクは始めに説明したセル
構造体のうち任意のものに置換出来る。すべての
他の点に関しては第１図のブロツク図は第２図及
び第３図の装置を一般化したものを示していて、
同じ記号は同じものをさしている。

本発明の他の実施例として、第４図は上述の
1984年２月23日刊エレクトロニクス
（Electronics）の論文及びGB特許第1569800号に
示された注入感知セル装置の一部を示している。
セル構造、レイアウト及び通常の支持回路のみな
らず通常の読取り／書込み動作シーケンスについ
てはこれ等の論文を参照されたい。

第４図に概略的に示されたメモリ装置はＸ方向
に走る、WL１乃至WL１２８によつて示された
128本の語線を含む。各列のメモリ・セルは方向
に走るビツト線対Ｂ０，Ｂ１によつてアクセス可
能である。前の場合と同じ様に、本発明に従うテ
スト方法が適用出来る故障は待機中の語線電位の
増大を生ずる語線の待機電源系の欠陥である。本
発明の始めに説明された実施例においては特定の
DC撹乱書込み電流源（I_w）が支えられたが、第
４図で適切な撹乱電流I_DIを与えるのに本発明に
所謂逆注入効果を利用する逆注入効果は上述の文
献にわかりやすく説明されているが、この効果は
少数キヤリアがオンのNPNトランジスタのベー
スから関連するビツト線に再注入する現象をさ
す。注入感知セルではこの現象をセル記憶した情
報を読み出すのに使用する。

本発明のこの特定の実施例を説明するために、
第４図で後線WL１２８を検査するものとする。
この事はWL１２８は残りの語線WL１乃至WL
１２７と同じ様に、非選択状態に保持される事を
意味している。対応する選択モードと同じ様に、
特定のビツト線対のビツト・スイツチはその非導
通状態に保持されている。さらに、語線WL１乃
至WL１２７に接続されたすべてのメモリ・セル
は０状態にあり、他方WL１２８に沿うセルは反
対の記憶情報即ち１が書込まれているものとす
る。第４図の左上のセルに示されている様に、セ
ルの右のフリツプ・フロツプ・トランジスタはオ
ンで０状態を示している。従つてビツト線Ｂ１に
は電流I_BIが再注入されている。同じ事は語線WL
１２７（図示せず）迄のこのビツト線に沿う残り
のセルについても云える。累積逆注入効果はWL
１２８と上述のビツト線対Ｂ０／Ｂ１の交点にあ
う一番左下のセルが占めている反対の記憶状態に
より撹乱書込み電流I_DIを生ずる。このI_DIがこの
セルについて上述の撹乱書込みテストを行なうの
に用いられる。もしWL１２８の待機電位が増大
すると（WL１２８の待機電源系統の故障を示
す）、このセルは公称（低い）待機電位を有する
語線に接続されたセルよりも小さな撹乱電流にさ
らされる。従つてWL１２８上の上昇した待機電
位によつて、セルはその情報を良好な語線に接続
したセルよりも長く保持する。

ここで、通常のメモリ装置では、関連する語線
を非選択モードに保ちつつ書込み動作を行うため
の上述の特定の条件は動作装置のサイクルを変更
する事なしには通常得る事の出来ない事に注意さ
れたい。しかしながらこの場合は、しばしば先ず
ビツト線対及び語線の両方を選択する通常の選択
動作に進み、次にテストされるべき特定の語線の
強制脱選択段階を遂行する事が可能である。この
脱選択段階は内部的にトリガ出来、もしくは外部
部的に与えられる制御信号もしくはクロツク信号
によつてもトリガ出来る。

上述のテスト手順を要約すると、代表的なテス
ト手順は次の様になる。

(1) メモリ装置の各ビツト位置に“０”（もしく
は“１”）を書込む事によつて初期設定を行う。

(2) 第１の語線のすべてのビツト・アドレスに沿
つて“１”もしくは“０”）を書込む。

以上が通常の書込み動作であり、例えば
100nsサイクルかかる。

(3) 例えば500μsサイクル時間をかけて撹乱サイ
クル（WLは選択されない）として、第１の語
線のすべてのビツト・アドレスに“０”（もし
くは“１”）を書込む。

(4) 撹乱した第１の語線中の“１”（もしくは
“０”）を読取る。

(5) この手順を残りの語線の各々に組返す。

“０だけ及び１だけ”の電位を選択するのには
相補データを使用して上述のテストを繰返えす事
が望ましい。

逆注入現象を利用する事は、撹乱書込み段階で
動的電流もしくはAC電流を印加する望ましい形
式である。AC撹乱電流を与えるために、他の動
的効果、例えば容量性の放電現象等が同様に使用
される。与えられる撹乱電流が大きい程、より多
くの関連セル、従つて語線が同時にテスト出来る
事に注意されたい。撹乱電流の増大は、待機電位
もしくは電流が撹乱サイクルの直前のサイクル中
の公称値よりも高い値にもたらされる時に得られ
る。

テストの効果はビツト・パターンを適切に選択
する事によつても増大出来る。上述の如く、セル
は撹乱情報が最初に記憶した情報と相補的である
時にだけ撹乱効果を受ける。この条件は検査され
るビツト線対に沿うすべてのセルに適用され、こ
れが成立つのは又唯一つのセルである。後者の場
合には、撹乱効果は最大である。それは残りのセ
ルの累積逆注入電流が（第４図の場合のように）
結果の撹乱電流を増大に貢献するからである。

勿論、各ビツト線対に対して、第１図乃至第３
図の実施例で仮定された如く、上述のテスト条件
を特に満足する特定のDC撹乱電流源（例えば、
読取り／書込み電流源）が使用される（もしくは
既にこの特定のメモリ装置チツプの設計中に与え
られている）ならば簡単になる。これによつて本
発明の設計／テスト原理の一般的な応用の範囲が
さらに増大する。この場合は一定の値のはつきり
した撹乱電流が使用されるのでビツト線対に沿う
セルは次に遂行されるサイクル中でテストしなく
てもよく、適切なビツト線対の接続したすべての
セルは単一のサイクルで書込み撹乱テストを受け
る事が出来る。

テストに必要な時間はすべてのビツト線対の一
部だけを書込み撹乱テストする時は短かく出来
る。例えばメモリ装置が10チヤンネルに組織され
ていて、各チヤンネルがビツト線対の群を含む場
合には、各チヤンネルの左及び右端のセルだけを
テストすればよく、必要なテスト時間は約1/10に
減少する。理論的には２つの異なるチヤンネル中
の２つのビツト線対だけをテストすれば十分であ
る。

以上固有の高いデータ保持特性を有する静的メ
モリ装置の語線待機電源装置の未発見の故障の極
めて成功率の高い高速テストを与える待機／撹乱
書込みテストが説明された。この型のメモリ・セ
ルはVLSI技法化の過程で種々開発されており、
上述の型の故障は未発見のままの時は極めて複雑
な長期の安定性上の問題に導く。提案されたテス
ト／設計の概念はこれ等の欠陥を初期の段階で選
別する効果的な手段を与える。

Ｇ 発明の効果 本発明に従い、待機電流が極めて少なく、固有
のデータ保存特性が高い静的メモリ装置の長期安
定性テストを行うための効果的な設計／テスト方
法が与えられる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の待機／撹乱テスト方法が使用
される簡単にしたメモリ・マトリツクスの概略図
である。第２図は語線待機電位装置に欠陥がある
第１の型の注入結合セル・マトリツクスの一部の
概略図である。第３図は第２図に示されたものと
同じ型のメモリ・セルの正電位（インジエクタ）
の端における待機電流源の中断個所を示した概略
図である。第４図は注入感知セル装置に撹乱電流
を与えるのに逆注入効果を利用した場合の書込
み／撹乱テスト条件を示した概略図である。 WL₁，WL_o……語線、Ｔ１，Ｔ２……フリツ
プ・フロツプ・トランジスタ、Ｔ３，Ｔ４……負
荷、アクセス装置、TYE，TYO……Ｙ選択トラ
ンジスタ・スイツチ、Ｂ０，Ｂ１……ビツト線、
RSH……短絡抵抗器、I_STB……待機電流源、
TWS₁……ｎ、Ｘ選択語線スイツチ・トランジス
タ、Ｄ１，D_o……待機電流スイツチ。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 語線及びビツト線の交点にマトリツクス状に
   配列されたデータ保持特性の高い静的半導体メモ
   リをテストする方法であつて、 (a) 初期記憶パターンを設定したメモリ・セルを
   その非選択状態に保持した状態で、ビツト線を
   介してセルの撹乱書込み動作を行い、 (b) その後、上記撹乱書込み動作を受けたメモ
   リ・セルのセル状態の変化の検出を行う、 ことを含む、半導体メモリの安定性テスト方法。