JPH0352278A - Ncレーザ装置 - Google Patents
Ncレーザ装置Info
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- JPH0352278A JPH0352278A JP1188444A JP18844489A JPH0352278A JP H0352278 A JPH0352278 A JP H0352278A JP 1188444 A JP1188444 A JP 1188444A JP 18844489 A JP18844489 A JP 18844489A JP H0352278 A JPH0352278 A JP H0352278A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
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- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/10—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
- H01S3/102—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation
- H01S3/104—Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling the active medium, e.g. by controlling the processes or apparatus for excitation in gas lasers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は数値制御装置(CNC)とレーザ発振器が結合
したNCレーザ装置に関し、特に光学部品の汚染状態の
検知機能を有するNCレーザ装置に関する。
したNCレーザ装置に関し、特に光学部品の汚染状態の
検知機能を有するNCレーザ装置に関する。
数値制御装置(CNC)と炭酸ガスレーザ発振器を結合
したNCレーザ装置は金属加工等に広く使用されている
。この種のレーザ発振器では、般にレーザガスの循環、
冷却用にルーツブロワ等を使用しており、その軸受け部
分から潤滑油戊分がレーザガス中に混入して光学部品を
汚染することがある。
したNCレーザ装置は金属加工等に広く使用されている
。この種のレーザ発振器では、般にレーザガスの循環、
冷却用にルーツブロワ等を使用しており、その軸受け部
分から潤滑油戊分がレーザガス中に混入して光学部品を
汚染することがある。
光学部品が汚染されると発振効率が低下し、電力及びレ
ーザガスを無駄に消費する。したがって、従来はオペレ
ータが運転時間を計測する等して定期的に光学部品の清
掃を行っていた。
ーザガスを無駄に消費する。したがって、従来はオペレ
ータが運転時間を計測する等して定期的に光学部品の清
掃を行っていた。
しかし、実際には定期的な清掃時期以前に予想外に汚染
が進行してしまうこともあり、このような場合に汚れた
光学部品をそのまま使用しつづけると汚れがレーザ光を
吸収して加熱され、光学部品自体が損傷を受けて清掃作
業では復旧できなくなることもある。
が進行してしまうこともあり、このような場合に汚れた
光学部品をそのまま使用しつづけると汚れがレーザ光を
吸収して加熱され、光学部品自体が損傷を受けて清掃作
業では復旧できなくなることもある。
本発明はこのような点に鑑みてなされたものであり、光
学部品の汚染状態を検知可能なNCレーザ装置を提供す
ることを目的とする。
学部品の汚染状態を検知可能なNCレーザ装置を提供す
ることを目的とする。
本発明では上記課題を解決するために、数値制御装置(
CNC)とレーザ発振器が結合したNCレーザ装置にお
いて、前記レーザ発振器を構成する光学部品の温度を測
定する温度測定手段と、前記温度が規定値を越えたこと
を検出して前記光学部品の清掃を促すアラームを表示す
る異常検出手段と、を有することを特徴とするNCレー
ヂ装置が提供される。
CNC)とレーザ発振器が結合したNCレーザ装置にお
いて、前記レーザ発振器を構成する光学部品の温度を測
定する温度測定手段と、前記温度が規定値を越えたこと
を検出して前記光学部品の清掃を促すアラームを表示す
る異常検出手段と、を有することを特徴とするNCレー
ヂ装置が提供される。
運転中の光学部品の温度が規定値を越えたら清掃を促す
アラームを表示する。オペレータはこの表示に従って光
学部品の清掃を行えば良く、運転時間の計測作業等は不
要となる。
アラームを表示する。オペレータはこの表示に従って光
学部品の清掃を行えば良く、運転時間の計測作業等は不
要となる。
以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図は本発明の一実施例のNCレーザ装置の構成を示
したブロック図である。図において、プロセッサlは図
示されていない加工プログラムに基づいてNCレーザ装
置全体の動作を制御する。
したブロック図である。図において、プロセッサlは図
示されていない加工プログラムに基づいてNCレーザ装
置全体の動作を制御する。
出力制御回路2は内部にD/Aコンバータを内蔵してお
り、プロセッサ1から出力された出力指令値を電流指令
値に変換して出力する。励起用電源3は商用電源を整流
した後、スイッチング動作を行って高周波の電圧を発生
し、電流指令値に応じた高周波電流を放電管4に供給す
る。
り、プロセッサ1から出力された出力指令値を電流指令
値に変換して出力する。励起用電源3は商用電源を整流
した後、スイッチング動作を行って高周波の電圧を発生
し、電流指令値に応じた高周波電流を放電管4に供給す
る。
放電管4の内部にはレーザガス20が循環しており、励
起用電源3から高周波電圧が印加されると放電を生じて
レーザガス20が励起される。リア鏡5は反射率99.
5%のゲルマニウム(Ge)製の鏡、出力鏡6は反射率
65%のジンクセレン(ZnSe)製の鏡であり、これ
らはファブリペロー型共振器を構成し、励起されたレー
ザガス分子から放出される10.6μmの光を増幅して
一部を出力鏡6からレーザ光7として外部に出力する。
起用電源3から高周波電圧が印加されると放電を生じて
レーザガス20が励起される。リア鏡5は反射率99.
5%のゲルマニウム(Ge)製の鏡、出力鏡6は反射率
65%のジンクセレン(ZnSe)製の鏡であり、これ
らはファブリペロー型共振器を構成し、励起されたレー
ザガス分子から放出される10.6μmの光を増幅して
一部を出力鏡6からレーザ光7として外部に出力する。
出力されたレーザ光7は円偏向鏡8によって円偏向され
、ペンディングミラー9で方向を変えた後、集光レンズ
10によって0.2mm以下のスポットに集光されてワ
ーク18の表面に照射される。
、ペンディングミラー9で方向を変えた後、集光レンズ
10によって0.2mm以下のスポットに集光されてワ
ーク18の表面に照射される。
メモリ11は加工プログラム及び各種のパラメータ等を
格納する不揮発性メモリ、システムプログラムを格納す
るROM、一時的なデータを格納するRAM等から構成
されている。位置制御回路l2はプロセッサ10指令に
よってサーボアンプ13を介してサーボモータl4を回
転制御し、ボールスクリューl5及びナット16によっ
てテーブルl7の移動を制御し、ワーク18の位置を制
御する。なお、図ではl軸のみを表示してあるが、実際
には複数の制御軸がある。表示装i19にはCRT或い
は液晶表示装置等が使用される。
格納する不揮発性メモリ、システムプログラムを格納す
るROM、一時的なデータを格納するRAM等から構成
されている。位置制御回路l2はプロセッサ10指令に
よってサーボアンプ13を介してサーボモータl4を回
転制御し、ボールスクリューl5及びナット16によっ
てテーブルl7の移動を制御し、ワーク18の位置を制
御する。なお、図ではl軸のみを表示してあるが、実際
には複数の制御軸がある。表示装i19にはCRT或い
は液晶表示装置等が使用される。
送風機21にはルーツブロヮが使用され、レーザガス2
0を冷却器22a及び22bを通して循環する。冷却器
22aはレーザ発振を行って高温となったレーザガス2
0を冷却するための冷却器であり、冷却器22bは送風
器21による圧縮熱を除去するための冷却器である。
0を冷却器22a及び22bを通して循環する。冷却器
22aはレーザ発振を行って高温となったレーザガス2
0を冷却するための冷却器であり、冷却器22bは送風
器21による圧縮熱を除去するための冷却器である。
パワーセンサ23は熱電あるいは光電変換素子等で構成
され、リア鏡5から一部透過して出力されたレーザ光を
人力してレーデ光7の出力パワーを測定する。A/D変
換器24はパワーセンサ23の出力をディジタル値に変
換してプロセッサ1に入力する。
され、リア鏡5から一部透過して出力されたレーザ光を
人力してレーデ光7の出力パワーを測定する。A/D変
換器24はパワーセンサ23の出力をディジタル値に変
換してプロセッサ1に入力する。
また、熱電対25a〜25fがリア鏡5、出力鏡6、円
偏向鏡8、ペンディングミラー9及び集光レンズ10に
取りつけられており、それぞれの温度を電気信号Ta=
Tfに変換して出力する。
偏向鏡8、ペンディングミラー9及び集光レンズ10に
取りつけられており、それぞれの温度を電気信号Ta=
Tfに変換して出力する。
これらの信号はA/D変換器26によってディジタル値
に変換され、プロセッサlに入力される。
に変換され、プロセッサlに入力される。
第2図はペンディングミラー9の取りつけ部の詳細断面
図である。アライメントベース9lはステンレスで構成
され、図示されていない位置及び角度の調整機構が設け
られている。ホルダー92はアルミニウムで構成され、
ネジ93及び94でアライメントベース91に固定され
る。ペンディングミラー9は○リング95を介してホル
ダー92の凹邪に収納され、その上からミラーベース9
6を介してネジ97及び99が締めつけられて固定され
る。熱電対25eは○リング95によって生じる隙間を
利用してペンディングミラー9の裏面に接着あるいは圧
着されている。なお、図では熱電対25eは1個である
が、例えば円周上に複数個設けても良い。
図である。アライメントベース9lはステンレスで構成
され、図示されていない位置及び角度の調整機構が設け
られている。ホルダー92はアルミニウムで構成され、
ネジ93及び94でアライメントベース91に固定され
る。ペンディングミラー9は○リング95を介してホル
ダー92の凹邪に収納され、その上からミラーベース9
6を介してネジ97及び99が締めつけられて固定され
る。熱電対25eは○リング95によって生じる隙間を
利用してペンディングミラー9の裏面に接着あるいは圧
着されている。なお、図では熱電対25eは1個である
が、例えば円周上に複数個設けても良い。
円偏向鏡8も同様な構成で裏面に熱電対25c及び25
dが取りつけられている。また、リア鏡5、出力鏡6及
び集光レンズ10はそれぞれの端邪に1個または複数個
の熱電対が取りつけられている。
dが取りつけられている。また、リア鏡5、出力鏡6及
び集光レンズ10はそれぞれの端邪に1個または複数個
の熱電対が取りつけられている。
第3図はペンディングミラー9の温度変化を表したグラ
フである。図において、運転中のペンディングミラー9
の温度は清掃後しばらくの間はほぼ一定であるが、長期
間運転を行うと次第に送風機の軸受けの潤滑油戊分及び
その他の塵埃がペンディングミラー9の表面に付着し、
これらがレーザ光を吸収して加熱されることにより上昇
し、規定温度t1を越える。規定温度t1はベンディン
グミラー9の使用限界温度t2以下であるが、この時点
では既に汚染により発振効率が所定量低下している。
フである。図において、運転中のペンディングミラー9
の温度は清掃後しばらくの間はほぼ一定であるが、長期
間運転を行うと次第に送風機の軸受けの潤滑油戊分及び
その他の塵埃がペンディングミラー9の表面に付着し、
これらがレーザ光を吸収して加熱されることにより上昇
し、規定温度t1を越える。規定温度t1はベンディン
グミラー9の使用限界温度t2以下であるが、この時点
では既に汚染により発振効率が所定量低下している。
なお、リア鏡5、出力鏡6、円偏向鏡8及び集光レンズ
10の温度変化も本図と同様な特性を示し、汚染の進行
に伴って上昇する。
10の温度変化も本図と同様な特性を示し、汚染の進行
に伴って上昇する。
ここで、第l図に戻って説明すると、プロセッサlは運
転中は常に熱電対25a〜25fにより各光学部品の温
度をモニタしており、それらの何れかが規定温度を越え
たときに直ちにメモ’Jllから所定の表示データを読
み出して表示装置19に人力し、表示画面に清掃を促す
アラームと共に、その光学部品名を表示する。なお、前
述したように、規定温度はそれぞれの光学部品の使用限
界温度よりも低い温度で、光学部品毎に設定されている
。
転中は常に熱電対25a〜25fにより各光学部品の温
度をモニタしており、それらの何れかが規定温度を越え
たときに直ちにメモ’Jllから所定の表示データを読
み出して表示装置19に人力し、表示画面に清掃を促す
アラームと共に、その光学部品名を表示する。なお、前
述したように、規定温度はそれぞれの光学部品の使用限
界温度よりも低い温度で、光学部品毎に設定されている
。
上記の処理のフローチャートを第4図に示す。
図において、Sに続く数値はステップ番号を示す。
〔S1〕所定のサンプリング時間毎に各光学部品の温度
を読み込む。
を読み込む。
〔S2〕その値が規定値を越えているかどうかを判定し
、越えている場合はS3へ、越えていない場合はS4へ
いく。
、越えている場合はS3へ、越えていない場合はS4へ
いく。
〔S3〕表示装置に清掃を促すアラームを表示する。
〔S4〕加工プログラムあるいは外部から放電停止指令
が指令されたかどうかを判定し、指令された場合は終了
し、指令されていない場合はS1へ戻って温度の読み込
みを継続する。
が指令されたかどうかを判定し、指令された場合は終了
し、指令されていない場合はS1へ戻って温度の読み込
みを継続する。
このように、光学部品の温度に基づいて汚染状態を定量
的に判断して、オペレータに清掃時期を知らせる。
的に判断して、オペレータに清掃時期を知らせる。
以上説明したように本発明では、運転中の光学部品の温
度が規定値を越えた時点で一定の汚染状態に達したとみ
なして、直ちに表示画面に清掃を促すアラームを表示す
るので、オペレータは運転時間の計測作業等を行わずに
最適な清掃時期を知ることができる。そして、このアラ
ームに従って清掃を行うことにより、清掃時期の遅れに
よる光学部品の性能劣化が防止でき、また電力及びレー
ザガスの無駄な浪費も防止できる。
度が規定値を越えた時点で一定の汚染状態に達したとみ
なして、直ちに表示画面に清掃を促すアラームを表示す
るので、オペレータは運転時間の計測作業等を行わずに
最適な清掃時期を知ることができる。そして、このアラ
ームに従って清掃を行うことにより、清掃時期の遅れに
よる光学部品の性能劣化が防止でき、また電力及びレー
ザガスの無駄な浪費も防止できる。
第1図は本発明の一実施例のNCレーザ装置の構成を示
したブロック図、 第2図は本発明の一実施例のペンディングミラーの取り
つけ部の詳細断面図、 第3図は本発明の一実施例のペンディングミラーの温度
変化を表したグラフ、 第4図は本発明の一実施例のフローチャートである。 ー プロセッサ リア鏡 ゛出力鏡 円偏向鏡 ペンディングミラー 集光レンズ l9 表示装置 25a 〜25f 熱電対 tl ・ 規定温度
したブロック図、 第2図は本発明の一実施例のペンディングミラーの取り
つけ部の詳細断面図、 第3図は本発明の一実施例のペンディングミラーの温度
変化を表したグラフ、 第4図は本発明の一実施例のフローチャートである。 ー プロセッサ リア鏡 ゛出力鏡 円偏向鏡 ペンディングミラー 集光レンズ l9 表示装置 25a 〜25f 熱電対 tl ・ 規定温度
Claims (4)
- (1)数値制御装置(CNC)とレーザ発振器が結合し
たNCレーザ装置において、 前記レーザ発振器を構成する光学部品の温度を測定する
温度測定手段と、 前記温度が規定値を越えたことを検出して前記光学部品
の清掃を促すアラームを表示する異常検出手段と、 を有することを特徴とするNCレーザ装置。 - (2)前記温度測定手段は前記レーザ発振器を構成する
複数の光学部品の温度をそれぞれ独立に測定するように
構成したことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
NCレーザ装置。 - (3)前記規定値は前記複数の光学部品毎に設定され、
前記異常検出手段は前記測定された各温度の少なくとも
一つがそれぞれの規定値を越えた場合に、前記規定値を
越えた光学部品を特定して前記アラームを表示するよう
に構成したことを特徴とする特許請求の範囲第2項記載
のNCレーザ装置。 - (4)前記温度測定手段は熱電対で構成されることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のNCレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1188444A JPH0352278A (ja) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Ncレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1188444A JPH0352278A (ja) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Ncレーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0352278A true JPH0352278A (ja) | 1991-03-06 |
Family
ID=16223794
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1188444A Pending JPH0352278A (ja) | 1989-07-20 | 1989-07-20 | Ncレーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0352278A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0785686A2 (en) | 1996-01-26 | 1997-07-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for transmitting and receiving television signal |
EP0789431A3 (en) * | 1996-02-12 | 1998-05-20 | Cymer, Inc. | Maintenance strategy control system for gas discharge lasers |
JP2019047017A (ja) * | 2017-09-05 | 2019-03-22 | ファナック株式会社 | レーザ装置の水漏れ検知システム |
-
1989
- 1989-07-20 JP JP1188444A patent/JPH0352278A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0785686A2 (en) | 1996-01-26 | 1997-07-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for transmitting and receiving television signal |
US6345388B1 (en) | 1996-01-26 | 2002-02-05 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method and apparatus for transmitting and receiving television signal |
EP0789431A3 (en) * | 1996-02-12 | 1998-05-20 | Cymer, Inc. | Maintenance strategy control system for gas discharge lasers |
JP2019047017A (ja) * | 2017-09-05 | 2019-03-22 | ファナック株式会社 | レーザ装置の水漏れ検知システム |
US10670487B2 (en) | 2017-09-05 | 2020-06-02 | Fanuc Corporation | Water leakage detection system for laser device |
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