JPH0350833B2 - - Google Patents
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- JPH0350833B2 JPH0350833B2 JP58224977A JP22497783A JPH0350833B2 JP H0350833 B2 JPH0350833 B2 JP H0350833B2 JP 58224977 A JP58224977 A JP 58224977A JP 22497783 A JP22497783 A JP 22497783A JP H0350833 B2 JPH0350833 B2 JP H0350833B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gear
- planetary gears
- point
- fixed gear
- vapor deposition
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 4
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 4
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 3
- 241001442234 Cosa Species 0.000 description 2
- 244000089409 Erythrina poeppigiana Species 0.000 description 2
- 235000009776 Rathbunia alamosensis Nutrition 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
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- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/50—Substrate holders
- C23C14/505—Substrate holders for rotation of the substrates
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、蒸着処理装置に関し、特に光学式情
報記録媒体（以下単にデイスクと称する）の信号
面上に金属を真空蒸着して反射膜を形成するため
の蒸着処理装置に関するものである。
報記録媒体（以下単にデイスクと称する）の信号
面上に金属を真空蒸着して反射膜を形成するため
の蒸着処理装置に関するものである。
従来この種の装置として第１図に示すものがあ
つた。図において、基台１及びハウジング２によ
り、真空で金属蒸気雰囲気の蒸着室が画定され、
基台１の中央部には固定ギア３が配置されてい
る。固定ギア３の中心部には、蒸着されるべき金
属の蒸着源４が配置されている。蒸着源４には、
第２図に示す如く、支柱５により保持された電極
６によつて電位が与えられる。固定ギア３の下方
に設けられた駆動部材７は固定ギア３の中心軸の
周りに回転自在であり、この駆動部材７上でかつ
固定ギア３を中心とする所定円周上には、例えば
８個の遊星ギア８ａ〜８ｈが等間隔にて回転自在
に軸支されている。
つた。図において、基台１及びハウジング２によ
り、真空で金属蒸気雰囲気の蒸着室が画定され、
基台１の中央部には固定ギア３が配置されてい
る。固定ギア３の中心部には、蒸着されるべき金
属の蒸着源４が配置されている。蒸着源４には、
第２図に示す如く、支柱５により保持された電極
６によつて電位が与えられる。固定ギア３の下方
に設けられた駆動部材７は固定ギア３の中心軸の
周りに回転自在であり、この駆動部材７上でかつ
固定ギア３を中心とする所定円周上には、例えば
８個の遊星ギア８ａ〜８ｈが等間隔にて回転自在
に軸支されている。
これら遊星ギア８ａ〜８ｈは互いに同一径を有
して固定ギア３に噛合し、前記駆動部材７の回転
に伴つて固定ギア３の周りを自転しつつ公転す
る。例えば、固定ギア３のピツチ円を630mm、歯
数を315、モジユールを２とし、遊星ギア８ａ〜
８ｈのピツチ円を210mm、歯数を105、モジユール
を２とすると、公転直径が840mm、公転／自転＝
１／３となる。遊星ギア８ａ〜８ｈ上には、８枚
のデイスク９ａ〜９ｈがホルダ（図示せず）を介
して担持される。
して固定ギア３に噛合し、前記駆動部材７の回転
に伴つて固定ギア３の周りを自転しつつ公転す
る。例えば、固定ギア３のピツチ円を630mm、歯
数を315、モジユールを２とし、遊星ギア８ａ〜
８ｈのピツチ円を210mm、歯数を105、モジユール
を２とすると、公転直径が840mm、公転／自転＝
１／３となる。遊星ギア８ａ〜８ｈ上には、８枚
のデイスク９ａ〜９ｈがホルダ（図示せず）を介
して担持される。
８枚のデイスク９ａ〜９ｈは駆動部材７の回転
に伴つて各遊星ギア８ａ〜８ｈと一体に固定ギア
３の周りを自転しつつ公転する。そして各デイス
クの表面及び裏面が蒸着源４とほぼ対向する角度
範囲Ｘ、Ｘが蒸着有効範囲となり、他の角度範囲
Ｙ、Ｙが蒸着無効範囲となる。
に伴つて各遊星ギア８ａ〜８ｈと一体に固定ギア
３の周りを自転しつつ公転する。そして各デイス
クの表面及び裏面が蒸着源４とほぼ対向する角度
範囲Ｘ、Ｘが蒸着有効範囲となり、他の角度範囲
Ｙ、Ｙが蒸着無効範囲となる。
このように構成された従来装置では、隣り合う
デイスク同士が自転するときにぶつかり合わない
ようにするためには、隣り合う遊星ギアの軸間距
離をデイスクの自転直径より大に設定しなければ
ならないので、所定の公転直径に対し１バツチ当
りのデイスクの収容数量に限界が生じていた。例
えば、公転直径を840mmとした場合には、30cmデ
イスクで８枚／バツチ、20cmデイスクで12枚／バ
ツチが限界となつていた。
デイスク同士が自転するときにぶつかり合わない
ようにするためには、隣り合う遊星ギアの軸間距
離をデイスクの自転直径より大に設定しなければ
ならないので、所定の公転直径に対し１バツチ当
りのデイスクの収容数量に限界が生じていた。例
えば、公転直径を840mmとした場合には、30cmデ
イスクで８枚／バツチ、20cmデイスクで12枚／バ
ツチが限界となつていた。
但し、物理的には、隣り合うデイスクの取付け
位相を適当に設定することにより、前記軸間距離
をデイスクの自転直径以下にすることは可能であ
るが、この場合次の理由により現実的には非常に
好ましくない。すなわち、自公転方式の場合、蒸
着源４に電位を与える為の電極６や、この電極６
を保持する為の支柱５などが必要であり、これら
によつて遮蔽される角度範囲Ｙ、Ｙでは有効に蒸
着されず、また蒸気の様に位相をずらせた場合、
蒸着有効範囲Ｘ、Ｘ内では、蒸着源４に全面が対
向すべきデイスクが隣りのデイスクにより遮ぎら
れてしまうことになるからである。
位相を適当に設定することにより、前記軸間距離
をデイスクの自転直径以下にすることは可能であ
るが、この場合次の理由により現実的には非常に
好ましくない。すなわち、自公転方式の場合、蒸
着源４に電位を与える為の電極６や、この電極６
を保持する為の支柱５などが必要であり、これら
によつて遮蔽される角度範囲Ｙ、Ｙでは有効に蒸
着されず、また蒸気の様に位相をずらせた場合、
蒸着有効範囲Ｘ、Ｘ内では、蒸着源４に全面が対
向すべきデイスクが隣りのデイスクにより遮ぎら
れてしまうことになるからである。
本発明は、上記のような従来のものの欠点を除
去すべくなされたもので、１バツチ当りのデイス
ク収容量を増加さることにより、生産性を向上せ
しめた蒸着処理装置を提供することを目的とす
る。
去すべくなされたもので、１バツチ当りのデイス
ク収容量を増加さることにより、生産性を向上せ
しめた蒸着処理装置を提供することを目的とす
る。
本発明による蒸着処理装置においては、固定ギ
アに対して回転自在な駆動部材上に、該固定ギア
に噛合した複数の基本遊星ギヤを等間隔にて回転
自在に設けると共に、これら基本遊星ギアの隣り
合うもの同士間に複数の付加遊星ギアを等間隔に
て回転自在に設け、基本遊星ギアと付加遊星ギア
とを該駆動部材の回転に伴つて互いに同期させつ
つ反対方向に回転させる構成となつている。
アに対して回転自在な駆動部材上に、該固定ギア
に噛合した複数の基本遊星ギヤを等間隔にて回転
自在に設けると共に、これら基本遊星ギアの隣り
合うもの同士間に複数の付加遊星ギアを等間隔に
て回転自在に設け、基本遊星ギアと付加遊星ギア
とを該駆動部材の回転に伴つて互いに同期させつ
つ反対方向に回転させる構成となつている。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明す
る。
る。
第３図は、本発明の一実施例を示す平面図であ
る。第３図において、固定ギア３に対して回転自
在な駆動部材７（第１図参照）上でかつ固定ギア
３を中心とする所定円周上には、例えば６個の基
本遊星ギア１１ａ〜１１ｆが等間隔にて回転自在
に軸支され、これら基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆ
は互いに同一径を有して固定ギア３に噛合し、前
記駆動部材７の回転に伴つて固定ギア３の周りを
自転しつつ公転する。駆動部材７上の前記所定円
周上には更に、基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆの隣
り合うもの同士間に等間隔で位置するように、互
いに同一径の６個の付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆ
が回転自在に軸支されている。これら付加遊星ギ
ア１２ａ〜１２ｆと固定ギア３との間には、双方
に噛合した同軸の２段中間ギア１３ａ〜１３ｆ，
１４ａ〜１４ｆが介在しており、これらの中間ギ
ア１３ａ〜１３ｆ，１４ａ〜１４ｆをは前記駆動
部材７の回転に伴つて付加遊星ギア１２ａ〜１２
ｂを基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆに対して同期さ
せつつ反対方向に回転せしめる機械的連絡手段を
構成している。基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆ及び
付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆ上には、図示せぬホ
ルダを介して12枚のデイスク９ａ〜９ｌが担持さ
れ、これらデイスクの隣り合うもの同士は前記駆
動部材７の回転に伴つて固定ギア３の周りを互い
に同期しかつ逆方向に自転しつつ公転する。
る。第３図において、固定ギア３に対して回転自
在な駆動部材７（第１図参照）上でかつ固定ギア
３を中心とする所定円周上には、例えば６個の基
本遊星ギア１１ａ〜１１ｆが等間隔にて回転自在
に軸支され、これら基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆ
は互いに同一径を有して固定ギア３に噛合し、前
記駆動部材７の回転に伴つて固定ギア３の周りを
自転しつつ公転する。駆動部材７上の前記所定円
周上には更に、基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆの隣
り合うもの同士間に等間隔で位置するように、互
いに同一径の６個の付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆ
が回転自在に軸支されている。これら付加遊星ギ
ア１２ａ〜１２ｆと固定ギア３との間には、双方
に噛合した同軸の２段中間ギア１３ａ〜１３ｆ，
１４ａ〜１４ｆが介在しており、これらの中間ギ
ア１３ａ〜１３ｆ，１４ａ〜１４ｆをは前記駆動
部材７の回転に伴つて付加遊星ギア１２ａ〜１２
ｂを基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆに対して同期さ
せつつ反対方向に回転せしめる機械的連絡手段を
構成している。基本遊星ギア１１ａ〜１１ｆ及び
付加遊星ギア１２ａ〜１２ｆ上には、図示せぬホ
ルダを介して12枚のデイスク９ａ〜９ｌが担持さ
れ、これらデイスクの隣り合うもの同士は前記駆
動部材７の回転に伴つて固定ギア３の周りを互い
に同期しかつ逆方向に自転しつつ公転する。
ここで、隣り合うデイスク同士が互いに同期し
つつ逆方向に自転するためには、各ギア間で次の
条件を満足する必要がある。すなわち、基本遊星
ギア１１ａ〜１１ｆ(B)のピツチ円をφb、歯数を
Tb、中間ギア１３ａ〜１３ｆ(C)のピツチ円をφc、
歯数をTc、中間ギア１４ａ〜１４ｆ(D)のピツチ
円をφd、歯数をTd、付加遊星ギア(E)１２ａ〜１
２ｆのピツチ円をφe、歯数をTeとすると、 φb＝φc＋φd＋φe φb＞2φc Tb／Tc＝Te／Td 具体的数値の一例を示すと、固定ギア３Ａのピ
ツチ円をφa、歯数をTaとすると、 固定ギアＡ：φa＝630mm Ta＝313 遊星ギアＢ：φb＝210mm Tb＝105 中間ギアＣ：φc＝84mm Tc＝42 中間ギアＤ：φd＝36mm Td＝18 遊星ギアＥ：φe＝90mm Te＝45 となり、各ギアのモジユールＭは共に２となる。
このときの自公転比率は公転／自転＝１／３とな
る。なお、この数値に限定されるものではない。
つつ逆方向に自転するためには、各ギア間で次の
条件を満足する必要がある。すなわち、基本遊星
ギア１１ａ〜１１ｆ(B)のピツチ円をφb、歯数を
Tb、中間ギア１３ａ〜１３ｆ(C)のピツチ円をφc、
歯数をTc、中間ギア１４ａ〜１４ｆ(D)のピツチ
円をφd、歯数をTd、付加遊星ギア(E)１２ａ〜１
２ｆのピツチ円をφe、歯数をTeとすると、 φb＝φc＋φd＋φe φb＞2φc Tb／Tc＝Te／Td 具体的数値の一例を示すと、固定ギア３Ａのピ
ツチ円をφa、歯数をTaとすると、 固定ギアＡ：φa＝630mm Ta＝313 遊星ギアＢ：φb＝210mm Tb＝105 中間ギアＣ：φc＝84mm Tc＝42 中間ギアＤ：φd＝36mm Td＝18 遊星ギアＥ：φe＝90mm Te＝45 となり、各ギアのモジユールＭは共に２となる。
このときの自公転比率は公転／自転＝１／３とな
る。なお、この数値に限定されるものではない。
また、隣り合うデイスク（又はホルダ）同士が
自転するときぶつかり合わないようにするために
は、公転半径Ｒ、隣り合う遊星ギアの軸間角度
Ａ、デイスク（又はホルダ）の自転直径2L、隣
り合うデイスク（又はホルダ）の位相差Ｂを適当
に設定することが重要である。これについて、第
４図及び第５図ａ，ｂを参照して説明する。今、
回動面内におけるデイスク（又はホルダ）の外
方端の座標を（X1、Y1）、中心の座標を（X2、
Y2）、デイスク（又はホルダ）の外方端の座標
を（X3、Y3）、中心の座標を（X4、Y4）とする。
また、点（X1、Y1）、点（X2、Y2）を通る直線
と点（X3、Y3）、点（X4、Y4）を通る直線との
交点の座標を（ｕ、ｖ）とする。そして、デイス
ク、デイスクを共に角度Ｐ（0°→180°）回転
したときに、（ｕ、ｖ）と（X2、Y2）間の距離＜
Ｌかつ（ｕ、ｖ）と（X4、Y4）間の距離＜Ｌの
時、デイスク、がぶつかり、その他の時には
ぶつからないと判断する。
自転するときぶつかり合わないようにするために
は、公転半径Ｒ、隣り合う遊星ギアの軸間角度
Ａ、デイスク（又はホルダ）の自転直径2L、隣
り合うデイスク（又はホルダ）の位相差Ｂを適当
に設定することが重要である。これについて、第
４図及び第５図ａ，ｂを参照して説明する。今、
回動面内におけるデイスク（又はホルダ）の外
方端の座標を（X1、Y1）、中心の座標を（X2、
Y2）、デイスク（又はホルダ）の外方端の座標
を（X3、Y3）、中心の座標を（X4、Y4）とする。
また、点（X1、Y1）、点（X2、Y2）を通る直線
と点（X3、Y3）、点（X4、Y4）を通る直線との
交点の座標を（ｕ、ｖ）とする。そして、デイス
ク、デイスクを共に角度Ｐ（0°→180°）回転
したときに、（ｕ、ｖ）と（X2、Y2）間の距離＜
Ｌかつ（ｕ、ｖ）と（X4、Y4）間の距離＜Ｌの
時、デイスク、がぶつかり、その他の時には
ぶつからないと判断する。
X1＝Ｒ＋Ｌ・cosP ……(1)
Y1＝Ｌ・sinP ……(2)
X2＝Ｒ ……(3)
Y2＝０ ……(4)
X3＝Ｒ・cosA＋Ｌ・cos（−Ｐ＋Ｂ） ……(5)
Y3＝Ｒ・sinA＋Ｌ・sin（−Ｐ＋Ｂ） ……(6)
X4＝Ｒ・cosA ……(7)
Y4＝Ｒ・sinA ……(8)
点（X1、Y1）、点（X2、Y2）を通る直線の式
は、 （X2−X1）（ｙ−Y1） ＝（Y2−Y1）（ｘ−X1） ……(9) 点（X3、Y3）、点（X4、Y4）を通る直線の式
は、 （X4−X3）（ｙ−Y3） ＝（Y4−Y3）（ｘ−X3） ……(10) 交点の座標（ｕ、ｖ）は ｕ＝（X2−X1）（X4−X3）（Y3−Y1）＋（Y2−Y1）（X4
−X3）・X1−（Y4−Y3）（X2−X1） ・X3／（Y2−Y1）（X4−X3）−（Y4−Y3）（X2−X1） ｖ＝（Y2−Y1）（Y4−Y3）（X3−X1）＋（X4−X3）（Y2
−Y1）・Y3−（X2−X1）（Y4−Y3） ・Y1／（X2−X1）（Y4−Y3）−（X4−X3）（Y2−Y1） ただし ｜Y2−Y1 X2−X1 Y4−Y3 X4−X3｜≠０のとき ｜Y2−Y1 X2−X1 Y4−Y3 X4−X3｜＝０のとき (9)式より ｙ＝Y2−Y1／X2−X1ｘ−Y2−Y1／X2−X1・X1＋
Y1 (10)式より ｙ＝Y4−Y3／X4−X3ｘ−Y4−Y3／X4−X3・X3＋Y3−Y2−
Y1／X2−X1・X1＋Y1 ＝−Y4−Y3／X4−X3・X3＋Y3 Y2−Y1／X2−X1＝Y4−Y3／X4−X3＝Ａとする −Ａ・X1＋Y1＝−Ａ・X3＋Y3 Y1−Y3−Ａ（X1−X3）＝０ Y1−Y3−Ａ（X1−X3）＝０のとき ぶつかる Y1−Y3−Ａ（X1−X3）≠０のとき ぶつからない Ｒ、Ａ、Ｌ、Ｂを代入して、Ｐを→180°とした
とき √（−2）2＋（−2）2、 √（−4）2＋（−4）2 とＬとの大小を比較する。
は、 （X2−X1）（ｙ−Y1） ＝（Y2−Y1）（ｘ−X1） ……(9) 点（X3、Y3）、点（X4、Y4）を通る直線の式
は、 （X4−X3）（ｙ−Y3） ＝（Y4−Y3）（ｘ−X3） ……(10) 交点の座標（ｕ、ｖ）は ｕ＝（X2−X1）（X4−X3）（Y3−Y1）＋（Y2−Y1）（X4
−X3）・X1−（Y4−Y3）（X2−X1） ・X3／（Y2−Y1）（X4−X3）−（Y4−Y3）（X2−X1） ｖ＝（Y2−Y1）（Y4−Y3）（X3−X1）＋（X4−X3）（Y2
−Y1）・Y3−（X2−X1）（Y4−Y3） ・Y1／（X2−X1）（Y4−Y3）−（X4−X3）（Y2−Y1） ただし ｜Y2−Y1 X2−X1 Y4−Y3 X4−X3｜≠０のとき ｜Y2−Y1 X2−X1 Y4−Y3 X4−X3｜＝０のとき (9)式より ｙ＝Y2−Y1／X2−X1ｘ−Y2−Y1／X2−X1・X1＋
Y1 (10)式より ｙ＝Y4−Y3／X4−X3ｘ−Y4−Y3／X4−X3・X3＋Y3−Y2−
Y1／X2−X1・X1＋Y1 ＝−Y4−Y3／X4−X3・X3＋Y3 Y2−Y1／X2−X1＝Y4−Y3／X4−X3＝Ａとする −Ａ・X1＋Y1＝−Ａ・X3＋Y3 Y1−Y3−Ａ（X1−X3）＝０ Y1−Y3−Ａ（X1−X3）＝０のとき ぶつかる Y1−Y3−Ａ（X1−X3）≠０のとき ぶつからない Ｒ、Ａ、Ｌ、Ｂを代入して、Ｐを→180°とした
とき √（−2）2＋（−2）2、 √（−4）2＋（−4）2 とＬとの大小を比較する。
本願発明者の実験結果によれば、30cmデイスク
の場合、Ｒ＝420mm、Ａ＝30°、2L＝310mm、Ｂ＝
120°とすることにより、隣り合うデイスク同士が
ぶつかり合わないことが判明している。また、20
cmデイスクの場合、Ｒ＝420mm、Ａ＝22°、2L＝
215mm、Ｂ＝112°とすることにより、隣り合うデ
イスク同士がぶつかり合わないことが判明してい
る。
の場合、Ｒ＝420mm、Ａ＝30°、2L＝310mm、Ｂ＝
120°とすることにより、隣り合うデイスク同士が
ぶつかり合わないことが判明している。また、20
cmデイスクの場合、Ｒ＝420mm、Ａ＝22°、2L＝
215mm、Ｂ＝112°とすることにより、隣り合うデ
イスク同士がぶつかり合わないことが判明してい
る。
また、上記数値例においては、蒸着源４と対向
するデイスクを全面に亘つて有効に蒸着できると
いう実験結果も得られている。
するデイスクを全面に亘つて有効に蒸着できると
いう実験結果も得られている。
なお、上記実施例においては、30cmデイスク用
の蒸着処理装置に適用した場合について説明した
が、20cmデイスク用蒸着処理装置の場合には、各
ギアの組み合わせを、例えば 固定ギアＡ：φa＝672mm Ta＝336 遊星ギアＢ：φb＝168mm Tb＝84 中間ギアＣ：φc＝56mm Tc＝28 中間ギアＤ：φd＝28mm Td＝14 遊星ギアＥ：φe＝84mm Te＝42 とし、各ギアのモジユールＭを共に２とすること
により、公転／自転＝１／４となる自公転比率と
なる。なお、上記数値例に限定されるものではな
い。
の蒸着処理装置に適用した場合について説明した
が、20cmデイスク用蒸着処理装置の場合には、各
ギアの組み合わせを、例えば 固定ギアＡ：φa＝672mm Ta＝336 遊星ギアＢ：φb＝168mm Tb＝84 中間ギアＣ：φc＝56mm Tc＝28 中間ギアＤ：φd＝28mm Td＝14 遊星ギアＥ：φe＝84mm Te＝42 とし、各ギアのモジユールＭを共に２とすること
により、公転／自転＝１／４となる自公転比率と
なる。なお、上記数値例に限定されるものではな
い。
第６図は、本発明の他の実施例を示す一部分の
平面図であり、本実施例においては、基本遊星ギ
ア１１に中間ギア１５が同軸にかつ一体に設けら
れており、この中間ギア１５は付加遊星ギア１２
と噛合し、この付加遊星ギア１２を基本遊星ギア
１１に対して同期させつつ反対方向に回転せしめ
る機械的連絡手段を構成している。中間ギア１５
は基本遊星ギア１１とほぼ等しいピツチ円及び歯
数を有し、付加遊星ギア１２とは全く等しいピツ
チ円及び歯数を有しており、この構成により上記
実施例の同様の効果が得られる。
平面図であり、本実施例においては、基本遊星ギ
ア１１に中間ギア１５が同軸にかつ一体に設けら
れており、この中間ギア１５は付加遊星ギア１２
と噛合し、この付加遊星ギア１２を基本遊星ギア
１１に対して同期させつつ反対方向に回転せしめ
る機械的連絡手段を構成している。中間ギア１５
は基本遊星ギア１１とほぼ等しいピツチ円及び歯
数を有し、付加遊星ギア１２とは全く等しいピツ
チ円及び歯数を有しており、この構成により上記
実施例の同様の効果が得られる。
上記実施例においては各々の基本遊星ギア１１
に中間ギア１５がそれぞれ同軸にかつ一体に設け
る構成について説明したが、中間ギア１５は一つ
おきの基本遊星ギア１１に設けるようにしても同
様な作用効果が得られる。
に中間ギア１５がそれぞれ同軸にかつ一体に設け
る構成について説明したが、中間ギア１５は一つ
おきの基本遊星ギア１１に設けるようにしても同
様な作用効果が得られる。
以上説明したように、本発明によれば、固定ギ
アに対して回動自在な駆動部材上に、該固定ギア
に噛合した複数の基本遊星ギアを等間隔にて回転
自在に設けると共に、これら基本遊星ギアの隣り
合うもの同士間に複数の付加遊星ギアを等間隔に
て回転自在に設け、基本遊星ギアと付加遊星ギア
とを該駆動部材に回転に伴つて互いに同期させつ
つ反対方向に回転させる構成としたので、従来と
同じ公転直径であつてもデイスクの処理量を増加
でき、生産性を向上できることになる。具体的に
は、公転直径を例えば840mmとした場合、30cmデ
イスクで従来８枚／バツチであつたものを12枚／
バツチと50％増加でき、20cmデイスクでは従来12
枚／バツチであつたものを16枚／バツチと33.3％
増加できるという結果が得られている。
アに対して回動自在な駆動部材上に、該固定ギア
に噛合した複数の基本遊星ギアを等間隔にて回転
自在に設けると共に、これら基本遊星ギアの隣り
合うもの同士間に複数の付加遊星ギアを等間隔に
て回転自在に設け、基本遊星ギアと付加遊星ギア
とを該駆動部材に回転に伴つて互いに同期させつ
つ反対方向に回転させる構成としたので、従来と
同じ公転直径であつてもデイスクの処理量を増加
でき、生産性を向上できることになる。具体的に
は、公転直径を例えば840mmとした場合、30cmデ
イスクで従来８枚／バツチであつたものを12枚／
バツチと50％増加でき、20cmデイスクでは従来12
枚／バツチであつたものを16枚／バツチと33.3％
増加できるという結果が得られている。
第１図は従来装置を示す一部断面を含む斜視
図、第２図は第１図の要部の平面図、第３図は本
発明の一実施例を示す平面図、第４図及び第５図
ａ，ｂは第３図の動作原理を示す図、第６図は本
発明の他の実施例を示す平面図である。 主要部分の符号の説明、４……蒸着源、９，９
ａ〜９ｌ……デイスク、１１，１１ａ〜１１ｆ…
…基本遊星ギア、１２，１２ａ〜１２ｆ……付加
遊星ギア、１３ａ〜１３ｆ，１４ａ〜１４ｆ，１
５……中間ギア。
図、第２図は第１図の要部の平面図、第３図は本
発明の一実施例を示す平面図、第４図及び第５図
ａ，ｂは第３図の動作原理を示す図、第６図は本
発明の他の実施例を示す平面図である。 主要部分の符号の説明、４……蒸着源、９，９
ａ〜９ｌ……デイスク、１１，１１ａ〜１１ｆ…
…基本遊星ギア、１２，１２ａ〜１２ｆ……付加
遊星ギア、１３ａ〜１３ｆ，１４ａ〜１４ｆ，１
５……中間ギア。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ハウジング内に配置された固定ギアと、前記
固定ギアの中心部に配置された蒸着されるべき金
属の蒸着源と、前記固定ギアの中心軸の周りに回
転自在に設けられた駆動部材と、前記駆動部材上
においてかつ前記固定ギアを中心とする所定円周
上に等間隔にて回転自在に配置されかつ前記固定
ギアに噛合した同一径の複数の基本遊星ギアとを
有する蒸着処理装置であつて、前記基本遊星ギア
の隣り合うもの同士間に等間隔で位置するように
前記駆動部材上の前記所定円周上に回転自在に配
置された同一径で前記基本遊星ギアと同数の付加
遊星ギアと、前記付加遊星ギアと前記固定ギアと
の間を機械的に連絡し前記駆動部材の回転に伴つ
て前記付加遊星ギアを前記基本遊星ギアに対して
同期させつつ反対方向に回転せしめる機械的連絡
手段と、前記基本及び付加遊星ギアの中心軸上に
設けられかつその直径が前記固定ギアの中心軸と
平行に配置されるように被蒸着対象のデイスクを
保持する被蒸着対象物ホルダとからなり、前記所
定円周の公転半径をＲとし、隣り合う前記基本及
び付加遊星ギアにおける中心軸間角度をＡ並びに
配置された前記デイスクの自動直径を2Lとし、
隣り合う２つの前記デイスクにおいて一方の前記
デイスクにおける回動面内の回動角度をＰ、外方
端の座標を点（X1、Y1）及び中心の座標を点
（X2、Y2）とし、他方の前記デイスクにおける回
動面内の回転のＰからの位相差角度をＢ、外方端
の座標を点（X3、Y3）及び中心の座標を点
（X4、Y4）とし、点（X1、Y1）及び点（X2、
Y2）を通る直線と点（X3、Y3）及び点（X4、
Y4）を通る直線との交点の座標を点（ｕ、ｖ）
とし、Ｐを角度0°から180°の範囲で回転したとき
に、下記(1)式ないし(8)式を満し、 X1＝Ｒ＋Ｌ・cosP ……(1) Y1＝Ｌ・sinP ……(2) X2＝Ｒ ……(3) Y2＝０ ……(4) X3＝Ｒ・cosA＋Ｌ・cos（−Ｐ＋Ｂ） ……(5) Y3＝Ｒ・sinA＋Ｌ・sin（−Ｐ＋Ｂ） ……(6) X4＝Ｒ・cosA ……(7) Y4＝Ｒ・sinA ……(8) かつ点（ｕ、ｖ）と点（X2、Y2）間の距離が
Ｌより小さくならずかつ点（ｕ、ｖ）と点（X4、
Y4）間の距離がＬより小さくならない範囲に前
記Ｒ、Ａ、Ｌ及びＢを設定したことを特徴とする
蒸着処理装置。 ２ 前記機械的連絡手段は、前記付加遊星ギアと
前記固定ギアとの間に介在して双方に噛合した中
間ギアであることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載の蒸着処理装置。 ３ 前記機械的連絡手段は、前記基本遊星ギアと
同軸にかつ一体に設けられて前記付加遊星ギアに
噛合した中間ギアであることを特徴とする特許請
求の範囲第１項記載の蒸着処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22497783A JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22497783A JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60116775A JPS60116775A (ja) | 1985-06-24 |
| JPH0350833B2 true JPH0350833B2 (ja) | 1991-08-02 |
Family
ID=16822164
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22497783A Granted JPS60116775A (ja) | 1983-11-28 | 1983-11-28 | 蒸着処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60116775A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2014004704A1 (en) | 2012-06-26 | 2014-01-03 | California Institute Of Technology | Systems and methods for implementing bulk metallic glass-based macroscale gears |
| US9640359B2 (en) * | 2012-08-09 | 2017-05-02 | Vactronix Scientific, Inc. | Inverted cylindrical magnetron (ICM) system and methods of use |
| JP6000173B2 (ja) * | 2013-03-19 | 2016-09-28 | 株式会社神戸製鋼所 | Ｐｖｄ処理装置及びｐｖｄ処理方法 |
| US20140342179A1 (en) | 2013-04-12 | 2014-11-20 | California Institute Of Technology | Systems and methods for shaping sheet materials that include metallic glass-based materials |
| US10151377B2 (en) | 2015-03-05 | 2018-12-11 | California Institute Of Technology | Systems and methods for implementing tailored metallic glass-based strain wave gears and strain wave gear components |
| US10968527B2 (en) | 2015-11-12 | 2021-04-06 | California Institute Of Technology | Method for embedding inserts, fasteners and features into metal core truss panels |
| JP2020512482A (ja) | 2017-03-10 | 2020-04-23 | カリフォルニア インスティチュート オブ テクノロジー | 金属積層造形を用いた波動歯車フレクスプラインの製造方法 |
| US11185921B2 (en) | 2017-05-24 | 2021-11-30 | California Institute Of Technology | Hypoeutectic amorphous metal-based materials for additive manufacturing |
| KR102493233B1 (ko) | 2017-06-02 | 2023-01-27 | 캘리포니아 인스티튜트 오브 테크놀로지 | 적층 가공을 위한 고강인성 금속성 유리-기반 복합물 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207570A (en) * | 1981-06-12 | 1982-12-20 | Matsushita Electric Works Ltd | Article holding jig |
-
1983
- 1983-11-28 JP JP22497783A patent/JPS60116775A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57207570A (en) * | 1981-06-12 | 1982-12-20 | Matsushita Electric Works Ltd | Article holding jig |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60116775A (ja) | 1985-06-24 |
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