JPH03505740A - 3―デゾキシ―4―エン―ステロイドの製造方法 - Google Patents

3―デゾキシ―4―エン―ステロイドの製造方法

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JPH03505740A
JPH03505740A JP2504118A JP50411890A JPH03505740A JP H03505740 A JPH03505740 A JP H03505740A JP 2504118 A JP2504118 A JP 2504118A JP 50411890 A JP50411890 A JP 50411890A JP H03505740 A JPH03505740 A JP H03505740A
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ヴインターフエルト,エツケハルト
テイルシユタム,ウルフ
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シエーリング アクチエンゲゼルシヤフト
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 3−デシキシ−4−エン−ステロイドの製造方法本発明は、一般式I: R1、R2およびR3は水素原子またはメチル基を表わし、 R4は低級アルキル基、フェニル基または、遊離したまたはエステル化したまた はエーテル化したヒドロキシ基を表わし、 R5は水素原子、ビニル基または基−c=cR6を表わしくその際R6は水素原 子、最高で4個の炭素原子を有するアルキル基またはハロゲン原子を表わす)、 Xはメチレン基、フルオロメチレン基、エチリデン基またはビニリデン基を表わ し、 YおよびUはメチレン基またはエチリデン基を表わしZはメチレン基、エチリデ ン基、ビニリデン基、クロロメチレン基またはヒドロキシメチレン基を表わし、 および 二=で表わされる結合は3個の単結合または1個の二重結合および2個の単結合 または共役二重結合を表わす]で示される3−デシキシ−4−エン−ステロイド の製造方法において、一般式■: [式中、ニニニ=シ、R1、R2、R3、x1Y%ZおよびUは前記したものを 表わし、22番およびR’5はR4およびR5と同様かまたはオキソ基を表わす ]で示される3−オキソ−4−エン−ステロイドを、トリフルオロ酢酸またはト リクロロ酢酸、場合によりさらにもう1つのカルボン酸および水素化ホウ素ナト リウムからの反応混合物で還元することを特徴とする3−デシキシ−4−エン− ステロイドの製造方法に関する一般式Iの3−デシキシ−4−エン−ステロイド は薬学的に有効な公知の物質または薬学的に有効の化合物を製造するための価値 ある中間生成物である(西ドイツ国特許第2361120号、欧州特許第170 96号および同第34114号明細書)。
たとえば、一般式■a: R′3は水素原子またはメチル基を表わし、R“4はヒドロキシ基または4個ま での炭素原子を有するアルカノイルオキシ基を表わし、 R’5は水素原子、ビニル基、エチニル基、クロロエチニル基またはl−プロピ ニル基を表わし、Xはメチレン基またはビニリデン基を表わし、二重は1つの単 結合または1つの二重結合を表わす]で示される3−デシキシ−4−エン−ステ ロイドは著しいゲスターゲン作用により優れている。この種のゲスターゲン作用 ステロイドの例は、リネストレノール(17α−エチニル−4−ニストレン−1 7β−オール)およびデシゲストレル(17σ−エチニル−18−メチル−11 −メチレン−4−ニストレン−17β−オール)である。
公知の先行技術により、一般式Iの3−デシキシ−4−エン−ステロイドは、3 −オキシ−4−エン−ステロイドから、たとえばエタンジチオールを用いてチオ ケタールに変え、液体アンモニア中でナトリウムまたはリチウムを用いてチオケ タール基を分割することにより製造される。この方法は高いエネルギーコストを 費すために著しく費用がかかり、さらに著しい臭いのために著しく環境を害する という欠点がある。
これに対して本発明による方法は、容易に実施でき、あまり環境を害することが ないl工程反応であり、その際公知の2工程方法の場合と同様に理論値の約60 〜85%の収率が達成される。
本発明による方法は、最初に水素化ホウ素ナトリウムを−10”C〜+20℃の 温度でトリフルオロ酢酸またはトリクロロ酢酸、場合によりその他のカルボン酸 中で反応させるように実施される。この場合水素の発生の結果、著しく発泡する I;め、反応を開始する前にトリハロゲン酢酸、有利になおアセトニトリルを添 加し、それにより発泡は十分に抑えられる。トリフルオロ酢酸を使用する場合に これは必要であるが、トリクロロ酢酸を使用する場合には、トリハロゲン酢酸に さらに他のカルボン酸を添加することは必要ではない。
このようなカルボン酸はモノカルボン酸、ジカルボン酸、酪酸、ピバリン酸、コ ハク酸、クエン酸または特に著しく廉価な酢酸である。後述する実施例において 、水酸化ナトリウムとトリハロゲン酢酸と反応させるために、常に反応剤/溶剤 混合物の過剰量を使用し、その結果透明な溶液が形成される。工業的に実施する ためにそれぞれ必要な最低量の反応剤/溶剤混合物および最適なその組成は、個 々の場合で当業者が周知の予備実験により測定しなければならない。
こうして製造した水素化ホウ素ナトリウム/トリハロゲン酢酸反応混合物(場合 によりさらに他のカルボン酸を含有する)中に、不活性溶剤中に溶かしt;反応 すべきステロイドを投入することができる。しかし、この反応混合物をステロイ ド溶液中に投入するほうがしばしばより純粋な生成物を得る。反応温度は約−3 0℃〜+30℃である。一方の成分を他方に添加する最適速度は、当業者に周知 の予備実験で測定しなければならない。長すぎる添加速度は反応の進行それ自体 にとって、たいていは有利でない。反応時間は原則として5分〜120分までで ある。
反応すべきステロイドをどの不活性溶剤に溶かすかはあまり重要ではない。適当 な不活性溶剤はたとえばエーテル、たとえばジエチルエーテル、ジイソプロピル エーテル、ジオキサン、テトラヒドロフランまたは1.2−ジメトキシエタン、 塩素化炭化水素、!;とえばメチレンクロリド、クロロホルム、四塩化炭素また は液体芳香族炭化水素、ベンゼン、トルエンまたはキシレンである。
すでに前記したように、一般式■の反応すべき3−オキソ−4−エン−ステロイ ドは、単独のまたは共役の二重結合を15位、14位および/または16位に有 し、その際置換基R5のビニル基またはビニリデン基X8よび/またはZを有す るおよび/または置換基R5中に三重結合を有し、これらの原子団は反応の際に 攻撃されない。エーテル化しt:ヒドロキシ基R4(有利に1〜4個の炭素原子 を有するアルキルエーテル、t;とえばメチルエーテル、エチルエーテルまたは t−ブチルエーテル)を有する3−オキソ−4−エン−ステロイドは分割されな いが、エステル化したヒドロキシ基R4(有利に1〜6個の炭素原子を有するア ルカノイルエステル、たとえばアセテート、プロピオネート、ビバレートまt二 はベンゾイルエステルる3−オキソ−4−エン−ステロイドの場合、部分的にエ ステル交換するまたは還元して分割することができる。ハロゲン原子(有利にフ ッ素原子まI;は塩素原子を有する3−オキソ−4−エン−ステロイドの場合、 反応の間にハロゲン分割は行なわれない。17位にオキソ基を有する3−オキソ −4−エン−ステロイドを還元して相応する17β−ヒドロキシ−ステロイドに し、これは次の実施例に記載したように問題なく再度17−オキソ−ステロイド に酸化することができる次に本発明を実施例により詳説する。
例  l トリフルオロ酢酸2 mQ,酢酸2mQおよびアセトニトリル2mQに、氷/水 で冷却しなから水不含の水素化ホウ素ナトリウム220mgを少しずつ添加した 。引き続き乾燥メチレンクロリド5’m(+中の17β−ヒドロキシ−4−アン ドロステン−3−オン 288mgを滴加し、室温で撹拌し、30分後に飽和炭 酸水素ナトリウム溶液を注意深く添加した。メチレンクロリドで抽出し、水で中 性に洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。残分をメチレンクロリド/メタノー ル(99+1)を用いるシリカゲルカラムのクロマトグラフィーにかけると、融 点l゛46〜149℃の4−アンドロステン−17β−オール 240mgが得 られl;。
例  2 トリクロロ酢酸5mi2およびアセトニトリル5m4に、氷/水で冷却しながら 、水不含の水素化ホウ素ナトリウム 370mgを少しずつ添加した。引き続き 、メチレンクロリ)’9m(l中の17β−ヒドロキシ−4−アンドロステン− 3−オン 500mgを滴加した。室温で撹拌し、30分後に例1に記載したと 同様に後処理した。融点144−147℃の4−アンドロステン−17β−オー ル 400mgが得られた。
例  3 水不含の水素化ホウ素ナトリウム 570mgを、氷/水で冷却しながら、内部 温度が+10°Cを上廻らないようにトリフルオロ酢酸5.5m(1,酢酸5. 5mQおよびアセトニトリルlo+i(lに添加した。水素の発生が終了した後 に、この溶液を室温で、メチレンクロリド5m(A中の17β−ヒドロキシ−4 −ニストレン−3−オン 274■に滴加し、30分間撹拌し、飽和炭酸水素ナ トリウム溶液を注意深く添加した。引き続きメチレンクロリドで抽出し、水で洗 浄し、硫酸マグネシウムで乾燥した。粗製生成物を、メチレンクロリド/メタノ ール(99+1)を用いるシリカゲルのクロマトグラフィーによる精製により、 融点96〜99℃の4−ニストレン−17β−オiル 210119が得られた 例  4 水不含の水素化ホウ素ナトリウム 80011gを、氷/水で冷却しながら、内 部温度が+10℃を上廻らないように、トリクロロ酢酸7++IQ、ピバリン酸 7mQおよびアセトニトリルlQm(+に添加した。水素化ホウ素ナトリウム溶 液を、室温で、メチレンクロリド8+z(1中の17β−ヒドロキシ−4−ニス トレン−3−オン385■に滴加した。20分後に、飽和炭酸水素ナトリウム溶 液を注意深く添加し、例3に記載したと同様に後処理した。メチレンクロリド/ メタノールを用いて、ンリカゲルで、粗製生成物をクロマトグラフィーにかけた 後に、融点95〜98℃の4−ニストレン−17β−オール 290IRgが得 られj二。
例  5 例3と同様に、17β−ヒドロキシ−18−メチル−4−ニストレン−3−オン  300mgを水素化ホウ素ナトリウムから製造した反応混合物と反応させた。
粗製生成物を、ヘキサン/酢酸エステルを用いシリカゲルのクロマトグラフィー により精製した後に、融点116〜117℃の18−メチル−4−ニストレン− 17β−オール 230mgが得られた。
例  6 例3と同様に、17a−エチニル−17β−ヒドロキシ−4−ニストレン−3− オン 500mgを、水不含の水素化ホウ素ナトリウムから製造した反応混合物 と反応させた。この粗製生成物をアセトン中の活性炭で処理した後に、アセトン から再結晶させた。融点160〜162°Cの17σ−エチニル−4−ニストレ ン−17β−オール 320次gが得られた。
例  7 例3と同様に、17α−エチニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル−4−ニ ストレン−3−オン35011gを、水不含の水素化ホウ素ナトリウムから製造 しt;反応混合物と反応させた。ヘキサン/酢酸エステルを用いたシリカゲルの クロマトグラフィーにかけた後に、融点54℃の17α−エチニル−18−メチ ル−4−ニストレン−17β−オール 240119 カ%うれた。
例  8 例3と同様に、17σ−エチニル−18−メチル−17β−ヒドロキシ−4,1 5−エストラジェン−3−オン 280mgを、水素化ホウ素ナトリウムから製 造した反応混合物と反応させた。この粗製生成物をヘキサン/酢酸エステルを用 いるシリカゲルのクロマトグラフィーにかけると、融点82℃の17a−エチニ ル−18−メチル−4,15−エストラジェン−17β−オール 190+II gが得られた。
例  9 例3と同様に、17α−エチニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル−11− メチレン−4−ニストレン−3−オン 8301119を、水不含の水素化ホウ 素ナトリウムから製造した反応混合物と反応させた。粗製生成物を、ヘキサン/ 酢酸エステルを用いるシリカゲルのクロマトグラフィーにかけ、ヘキサンから再 結晶させた後に、融点110℃の17σ−エチニル−18−メチル−11−メチ レン−4−ニストレン−17β−オール 56011gが得られた。
例  10 例3と同様に、17−フェニル−4,14,16−アンドロスタトリエン−3− オン 680mgを、水不含の水素化ホウ素ナトリウムから製造した反応混合物 と反応させt;。ヘキサン/酢酸エステルを用いてシリカゲルのクロマトグラフ ィーにかけた後に、融点97℃のエアー7二二ルー4.14.16−アンドロス ドラトリエン 55(1+gが得られた。
例  11 例3と同様に、18−メチル−17−フェニル−4,14,16−エスドラトリ エンー3−オン(融点191’0117−フェニル−4,14,16−エスドラ トリエンー3−オン(文献: E、 Winterfeldt et al、。
Tetrahedron Letter、 27 + 5833 (1986)  ))930mgを、水不含の水素化ホウ素ナトリウムから製造した反応混合物 と反応させた。粗製生成物を、ヘキサン/酢酸エステルを用いるシリカゲルのク ロマトグラフィーにかけた後に、融点93.5℃の18−メチル−17−フェニ ル−4,14,16−エストラトリエン 730聰tが得られた。
例  12 例3と同様に、171t−クロロエチニル−17β−ヒドロキシ−18−メチル −11−メチレン−4−ニストレン−3−オン 360m+9を、水不含の水素 化ホウ素ナトリウムから製造した反応混合物と反応させた。粗製生成物を、ヘキ サン/酢酸エステルを用いるシリカゲルのクロマトグラフィーにかけた後に、融 点165℃の17.r−クロロエチニル−18−メチル−1l−メチレン−4− ニストレン−17β−オール230119が得られた。
例  13 例3と同様に、18−メチル−11−メチレン−4−ニストレン−3,17−ジ オン 680119を、水不含の水素化ホウ素ナトリウムから製造した反応混合 物と反応させた。こうして得られた粗製生成物(600m+9 )をアセトンl o+Q中で8Nミ酸化クロム/硫酸−溶液(ジジーンズ試薬)0.8+Qと反応 させた。この反応混合物を氷/水中に注いだ。沈殿した生成物を吸引濾過し、水 で洗浄し、乾燥した。ヘキサン/酢酸エステルを用いたシリカゲルのクロマトグ ラフィーにかけ、ジエチルエーテルから再結晶させた後に、融点98℃の18− メチル−11−メチレン−4−ニストレン−17−オン 340119が得られ た。
国際調査報告 国際調査報告 TN+″°”゛“°゛1°゛゛′”°゛°”°”−1“パ′。゛1哨゛°′″轡 °パ0°°“”1”−晰°−“′δ7ン♂ζン醪“0”−Tmmember@r eMlcae+ueeg+R1h@(vffi紳##すfeelOlllte[ DPl+1−++sτ−εura#se Pa+N+ 5lice II l#  as 豐mV 11861@ 161 自6會u+’++cw・an Mie ■@an 1Relllly g:vm 1w +hs #1jIl el 1 eLor+wallea。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一般式I: ▲数式、化学式、表等があります▼(I)[式中、 R1,R2およびR3は水素原子またはメチル基を表わし、 R4は低級アルキル基、フェニル基または、遊離したまたはエステル化したまた はエーテル化したヒドロキシ基を表わし、 R5は水素原子、ビニル基または基−C≡CR6を表わし(その際R6は水素原 子、最高で4個の炭素原子を有するアルキル基またはハロゲン原子を表わす)、 Xはメチレン基、アルオロメチレン基、エチリデン基またはビニリデン基を表わ し、 YおよびUはメチレン基またはエチリデン基を表わし、 Zはメチレン基、エチリデン基、ビニリデン基、クロロメチレン基またはヒドロ キシメチレン基を表わし、および ■で表わされる結合は3個の単結合または1個の二重結合および2個の単結合ま たは共役二重結合を表わす]で示される3−デゾキシ−4−エン−ステロイドの 製造方法において、一般式II:▲数式、化学式、表等があります▼(II)[ 式中、■、R1、R2、R3、X、Y、ZおよびUは前記したものを表わし、R ′4およびR′5はR4およびR5と同様かまたはオキソ基を表わす]で示され る3−オキソ−4−エン−ステロイドを、トリフルオロ酢酸またはトリクロロ酢 酸、場合によりさらにもう1つのカルボン酸および水素化ホウ素ナトリウムから の反応混合物で還元することを特徴とする3−デゾキシ−4−エン−ステロイド の製造方法。
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