JPH0349099B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0349099B2
JPH0349099B2 JP58074524A JP7452483A JPH0349099B2 JP H0349099 B2 JPH0349099 B2 JP H0349099B2 JP 58074524 A JP58074524 A JP 58074524A JP 7452483 A JP7452483 A JP 7452483A JP H0349099 B2 JPH0349099 B2 JP H0349099B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
surface treatment
metal surface
photosensitive
metal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP58074524A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS59198445A (ja
Inventor
Takeo Morya
Toshio Yamagata
Kentaro Oosawa
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kimoto Co Ltd
Original Assignee
Kimoto Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kimoto Co Ltd filed Critical Kimoto Co Ltd
Priority to JP58074524A priority Critical patent/JPS59198445A/ja
Publication of JPS59198445A publication Critical patent/JPS59198445A/ja
Publication of JPH0349099B2 publication Critical patent/JPH0349099B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/50Mask blanks not covered by G03F1/20 - G03F1/34; Preparation thereof

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は乾式画像形成材料に関するものであ
り、さらに詳しくは支持体、金属薄層、金属表面
処理層、感光層をこの順に有し、感光層は露光に
より、金属表面処理層との接着力が増大し、露光
後、感光層を剥離することにより、露光部の金属
層及び金属表面処理層を支持体より除去し、支持
体上に未露光部の金属層及び金属表面処理層を残
留させる。即ちポジ−ポジタイプの剥離による金
属画像形成材料に関するものである。
従来、剥離による金属画像を形成する材料、あ
るいは方法としては、特公昭56−13305号、特公
昭56−20533号、特開昭54−130120号などに記載
されている。
本発明者等は、特公昭56−13305号明細書で、
支持体上に金属または金属化合物薄層およびバイ
ンダー用高分子化合物とキノン系、ジアゾ系、ア
ジド系またはベンゾフエノン系感光剤よりなる感
光層を設けたネガ−ポジタイプの剥離による金属
画像形成材料について既に提案している。
さらに、本発明者等は特公昭56−20533号明細
書においては、支持体上に金属または金属化合物
薄層およびバインダー用高分子化合物、アクリル
アミド系単量体、光重合開始剤よりなる感光層を
設けたポジ−ポジタイプの剥離による金属画像形
成材料を提案している。この材料においては、金
属薄層上に直接感光層を設け、金属層と感光層と
の接着力を露光により高め、露光後剥離すること
により、露光部の金属層を支持体より除去し、未
露光部の金属層を支持体上に残留させて金属画像
を形成している。しかしながら、この材料の欠点
としては金属層との接着力を露光により、直接高
める感光層としては限られた組成のものしか使用
できず感度、あるいは未露光時における保存安定
性において必ずしも十分に満足しうる結果が得ら
れなかつた。
また、特開昭54−130120号明細書には、支持体
上に金属または金属化合物からなる画像形成層、
皮膜形成能を有する熱可塑性ポリマーからなる中
間層ならびに窒素原子含有光分解性化合物および
皮膜形成能を有する熱可塑性ポリマーからなるバ
インダーを含む感光性組成物からなる感光層を必
須の層として有する感光性材料において該感光層
が、活性光照射され、その後、加熱させることに
より、該画像形成層と該支持体との界面接着力が
小さくなるか、又は該画像形成層と該中間層との
界面接着力が小さくなる事を特徴とする感光性画
像形成材料、及び前記の材料を加熱し、剥離し
て、未露光部の画像形成層を該支持体上に残留さ
せて画像を形成させることからなる感光性画像形
成材料の使用方法が記載されている。しかしなが
ら、この材料及び方法においては、露光後、剥離
前に加熱処理が必要であり、さらに、加熱処理の
温度あるいは時間により画質が変化し、安定して
良好な画像を得るのは困難であるという欠点を有
している。
本発明者は、前記の問題点を解決すべく、鋭意
研究を進め、本発明を完成するに至つた。
本発明の目的は、露光後、加熱等の処理を一切
必要とせず単に感光膜を剥離するだけで、金属画
像を形成することができる画像形成材料を提供す
ることである。
さらに、本発明の目的は、感度が高く、画像が
シヤープで未使用時における金属層の腐食あるい
はカブリの出にくい保存安定性にすぐれた画像形
成材料を提供することである。
本発明の剥離による画像形成材料をさらに詳細
に説明する。
本発明の画像形成材料は支持体、金属層、金属
表面処理層、および露光により金属表面処理層と
の接着力が増大する感光層を、この順に有する構
成になつている。この画像形成材料を画像状に露
光すると、露光部の感光層と金属表面処理層との
接着力は増大するが、未露光部の感光層と金属表
面処理層との接着力は変化しない。そこで感光膜
を剥離すれば、露光部の金属表面処理層及び金属
層が、支持体より除去されるが、未露光部の金属
層は金属表面処理層とともに支持体上に残つて金
属画像が形成される。上記の本発明の画像形成を
機構の観点より支持体、及び各層の間の接着力の
関係を示すと、未露光時における感光層−金属表
面処理層間の接着力は金属表面処理層−金属層間
及び金属層−支持体間の接着力より低く、露光後
の感光層−金属表面処理層間及び金属表面処理層
−金属層間の接着力は金属層−支持体間の接着力
より高いことが必要である。
本発明で使用する支持体としては、その表面に
金属層を設け得る各種材料を用いることができ
る。一般に高分子化合物、ガラス、金属等が用い
られる。高分子化合物としては、ポリエステル例
えばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリオレフイン例えばポリプ
ロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリ
メチルメタクリレート、及びこれらの共重合体の
ような合成樹脂、ジアセチルセルロース、トリア
セチルセルロース、プロピルセルロース及び混合
セルロースエステルのようなセルロース誘導体が
あげられる。
これら支持体には、着色、不透明化、筆記性の
附与、等のための各種添加物、例えば顔料、染
料、充填剤等を添加することもできる。また、こ
れら支持体にコロナ放電処理、サンドブラスト処
理、ケミカルエツチング、高分子化合物のコーテ
イング等の表面処理を行うこともできる。
これら支持体の形状としてはフイルム、又はシ
ート状が一般的であるが、三次元的立体構造物で
もよい。
支持体上に設ける金属層に使用することができ
る金属の例としては、アルミニウム、亜鉛、銅、
銀、金、ニツケル、クロム、コバルト、チタン、
鉄、鉛、スズ、白金、銅−亜鉛合金、ニツケル−
クロム合金、ニツケル−鉄合金をあげることがで
きる。
これら金属層を支持体上に設ける方法としては
真空蒸着法、スパツタリング法、無電解メツキ
法、イオンプレーテイング法が採用される。
金属層の厚さは一般に10mμから1000mμの範
囲である。金属層の厚さは薄くなりすぎると遮光
効果が乏しくなり、形成した画像を明瞭に視別す
ることが困難になり、また厚くなりすぎると、画
像のシヤープさに欠け、解像力が低下する。以上
の理由から金属層の厚さは好ましくは、20mμか
ら500mμの範囲である。
金属表面処理層は本発明において最も著しい特
徴をなすものである。金属表面処理層は感光膜を
剥離して金属層を支持体から除去する場合も、又
金属層が支持体上に残留する場合も、常に金属層
と一体になつており、金属層−金属表面処理層の
間で剥離がおきてはならない。このため金属表面
処理層としては金属層との接着が良好であること
が、必須の条件であり、この条件を満たす樹脂、
あるいはシランカツプリング剤を用いることがで
きる。また、この樹脂とシランカツプリング剤と
の混合物も金属表面処理層として使用できる。
金属表面処理層に使用することができる金属層
と接着が良好な樹脂としては、塩化ビニル−酢酸
ビニル(無水マレイン酸、アクリロニトリルまた
はビニルアルコール)三元重合体、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ酢酸ビニル、ポリビニルホルマール、ポ
リビニルブチラール、ポリ塩化ビニリデン、メタ
クリル酸−メチルメタクリレート共重合体、ポリ
エステル樹脂例えば線状飽和ポリエステル樹脂、
熱硬化性不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン
樹脂あるいはアクリル系モノマー、オリゴマーを
含有した光硬化性樹脂等の熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂、あるいは光硬化性樹脂をあげることがで
きる。
シランカツプリング剤としてはビニルトリクロ
ルシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルト
リス(β−メトキシエトキシ)シラン、ビニルト
リアセトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロ
ピルトリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、
などをあげることができる。
これらの樹脂あるいはシランカツプリング剤の
中で好ましいものとしては、樹脂では塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸三元重合体、ポリ
ビニルホルマール、ポリエステル樹脂、ポリウレ
タン樹脂、シランカツプリング剤ではN−β(ア
ミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シ
ラン、N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピ
ルメチルジメトキシシランをあげることができ
る。
これらの樹脂あるいはシランカツプリング剤は
単独でも、二種以上を組合せて用いることもでき
る。
また、金属表面処理層に使用できる樹脂およ
び/またはシランカツプリング剤に着色剤を適宜
加えることができる。
これらの樹脂あるいはシランカツプリング剤か
ら金属層上に、金属表面処理層を形成する方法と
しては、溶剤に溶解して塗布液として金属層上に
塗布して、乾燥するのが一般的である。さらに硬
化のための熱処理あるいは光照射の必要があれば
それぞれの条件に応じて、これらの処理を行う。
金属表面処理層の厚さは、一般に1mμから
1000mμの範囲である。金属表面処理層の厚さ
は、薄くなりすぎると処理の効果が認められなく
なり、また厚くした場合は金属層表面の保護層と
しての効果は認められるが、解像力の低下につな
がる。以上の理由から金属表面処理層の好ましい
厚さは10mμから500mμの範囲である。
金属表面処理層上に設ける感光層は、バインダ
ー用高分子化合物、重合可能なエチレン性不飽和
化合物、および光重合開始剤を含有し、露光によ
り、金属表面処理層との接着力が増大する。
感光層に使用することができるバインダー用高
分子化合物の例としては、ポリ塩化ビニル、塩化
ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸
ビニル−(無水マレイン酸、アクリロニトリル、
またはビニルアルコール)三元重合体ポリ酢酸ビ
ニル、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラ
ール、アクリル酸エチル−アクリロニトリル−
(塩化ビニル、塩化ビニリデン、またはスチレン)
三元重合体、線状熱可塑性ポリエステルまたはコ
ポリエステル例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、またはポリエチレンテレフタレート、イソフ
タレート、アルコール可溶性ポリアミド、ポリウ
レタン、フエノキシ、アセチルセルロース、アセ
チル−ブチルセルロース、ニトロセルロース、エ
チルセルロース、エチレン−酢酸ビニル共重合体
塩化ゴム、環化ゴム、ポリビニルアルコールをあ
げることができる。これら高分子化合物は単独で
も2種以上を組合せて用いることもできる。
感光層に含有させることができる重合可能なエ
チレン性不飽和化合物としては、アクリレート
類、メタクリレート類、アクリルアミド類など多
数有るが、常温で液体かまたは固体で常圧で沸点
が100℃以上のものが好ましい。
アクリレート類としては、n−ブチルアクリレ
ート、シクロヘキシルアクリレート、2−ヒドロ
キシエチルアクリレート、2−ブトキシエチルア
クリレート、2−フエノキシエチルアクリレー
ト、エチレングリコールジアクリレート、ジエチ
レングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサ
ンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコ
ールジアクリレート、ソルビトールジアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、トリメチロ
ールエタントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート、ペンタエリスリトール
トリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレート、ジペンタエリスリトールペンタアク
リレートなどがあげられる。
メタクリレート類としてはn−ブチルメタクリ
レート、iso−ブチルメタクリレート、シクロヘ
キシルメタクリレート、フエニルメタクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、ジエチレング
リコールジメタクリレート、1,3−ブチレング
リコールジメタクリレート、1,4−ブチレング
リコールジメタクリレート、ジプロピレングリコ
ールジメタクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ
メタクリレート、ビスフエノールAジメタクリレ
ート、ソルビトールジメタクリレート、ソルビト
ールトリメタクリレート、トリメチロールエタン
トリメタクリレート、トリメチロールプロパント
リメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメ
タクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタ
クリレートなどがあげられる。
アクリルアミド類としては、アクリルアミド、
ジアセトンアクリルアミド、N,N−ジエチルア
クリルアミド、N,N′−メチレンビスアクリル
アミド、N−ヒドロキシメチルアクリルアミドな
どがあげられる。
また上記以外の重合可能なエチレン性不飽和化
合物としては、メタクリルアミド、N,N′−メ
チレンビスメタクリルアミド、d−メチルスチレ
ン、アリル酢酸、アリルアセトン、アリルアルコ
ール、アリルベンゼン、2−ビニルピリジン、N
−ビニル−2−ピロリドン、イタコン酸ジエチ
ル、イタコン酸ジアリル、イタコン酸モノブチ
ル、マレイン酸ジアリル、フマール酸ジアリル、
N−ラウリルマレイミド、アクリロキシエチルフ
オスフエート、ビス(アクリロキシエチル)フオ
スフエート、メタクリロキシエチルフオスフエー
ト、ビス(メタクリロキシエチル)フオスフエー
トなどがあげられる。
これら重合可能なエチレン性不飽和化合物は単
独でも2種以上を混合して使用することもでき
る。
これら重合可能なエチレン性不飽和化合物の前
記バインダー用高分子化合物に対する添加量は通
常5から100重量%であり、好ましくは10から60
重量%である。
本発明の感光層に使用することができる光重合
開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチル
エーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾイ
ンiso−プロピルエーテル、ベンゾフエノン、ミ
ヒラーケトン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ)
ベンゾフエノン、2−メチルアントラキノン、2
−エチルアントラキノン、2−クロルチオキサン
トン、ベンジル、9−フエニルアクリジン、2−
(0−クロロフエニル)−4,5−ジフエニルイミ
ダゾール二量体などが有り、単独あるいは2種以
上の混合物として使用できる。
これら光重合開始剤の添加量は前記バインダー
用高分子化合物に対して、通常0.1から40重量%
であり、好ましくは3から20重量%である。
以上のほか、ハイドロキノン、ハイドロキノン
モノメチルエーテル、p−ベンゾキノン、p−ニ
トロフエノール等の熱重合防止剤、染料、顔料な
どを適宜加えることもできる。
金属表面処理層と感光層の好ましい組合わせの
例としては、金属表面処理層として、塩化ビニル
−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体を用いた
場合、感光層のバインダー用高分子化合物として
は、ポリビニルブチラール、エチルセルロース、
アルコール可溶性ポリアミドが好ましく、感光層
のバインダー用高分子化合物が、ポリビニルブチ
ラールの場合、重合可能な、エチレン性不飽和化
合物としては、ネオペンチルグリコールジアクリ
レート、トリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、フ
オトマ−4061(サン・ノプコ社製・放射線硬化型
モノマー)、フオトマー4072(サン・ノプコ社製・
放射線硬化型モノマー)、SA−7600(三菱油化社
製、2管能脂環式エステル系アクリレート)、ア
ロニツクスM−6100(東亜合成社製・オリゴエス
テルアクリレート)が好ましく、バインダー用高
分子化合物がエチルセルロースの場合、重合可能
なエチレン性不飽和化合物としては、トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリ
トールトリアクリレート、アロニツクスM−8030
(東亜合成社製・オリゴエステルアクリレート)
が好ましく、バインダー用高分子化合物が、アル
コール可溶性ポリアミドの場合、重合可能なエチ
レン性不飽和化合物としてはペンタエリスリトー
ルトリアクリレートが好ましい。
金属表面処理層としてポリエステル樹脂を用い
た場合、感光層のバインダー用高分子化合物とし
ては、ポリビニルブチラール、エチルセルロース
が好ましく、バインダー用高分子化合物がポリビ
ニルブチラールの場合、重合可能なエチレン性不
飽和化合物としては、ネオペンチルグリコールジ
アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レートが好ましく、バインダー用高分子化合物
が、エチルセルロースの場合、エチレン性不飽和
化合物としては、トリメチロールプロパントリア
クリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ート、アロニツクスM−8030が好ましい。
金属表面処理層として、n−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルトリエトキシシランを用いた
場合、感光層のバインダー用高分子化合物として
は、ポリビニルブチラール、フエノキシ樹脂、ア
ルコール可溶性ポリアミド、塩化ゴムが好まし
く、バインダー用高分子化合物が、ポリビニルブ
チラールの場合、エチレン性不飽和化合物として
は、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールペンタアクリレート、フオ
トマー4028(サン・ノプコ社製・放射線硬化型モ
ノマー)、フオトマ−4072、SA−4100(三菱油化
社製・三官能複素環エステル系アクリレート)が
好ましく、バインダー用高分子化合物が、フエノ
キシ樹脂、または、アルコール可溶性ポリアミド
の場合、エチレン性不飽和化合物としては、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、フオトマー
4072が好ましく、バインダー用高分子化合物が、
塩化ゴムの場合、エチレン性不飽和化合物として
はペンタエリスリトールトリアクリレートが好ま
しい。
金属表面処理層としてn−β(アミノエチル)
γ−アミノプロピルメチルジメトキシランを用い
た場合、感光層のバインダー用高分子化合物とし
ては、ポリビニルブチラール、エチルセルロー
ス、アルコール可溶性ポリアミドが好ましく、バ
インダー用高分子化合物がポリビニルブチラール
またはアルコール可溶性ポリアミドの場合、エチ
レン性不飽和化合物としてはペンタエリスリトー
ルトリアクリレートが好ましく、バインダー用高
分子化合物が、エチルセルロースの場合、エチレ
ン性不飽和化合物としては、アロニツクスM−
8030が、好ましい。
感光層に使用する、光重合開始剤としては、単
独では、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、2−クロルチオキサントン、が
2種類の組合わせでは、4,4′−ビス(ジエチル
アミノ)ベンゾフエノン、とベンゾフエノン、あ
るいはベンゾインエチルエーテルとの組合わせが
好ましい。
感光層を金属表面処理層上に形成する方法とし
ては、バインダー用高分子化合物、重合可能なエ
チレン性不飽和化合物、光重合開始剤、必要に応
じて熱重合防止剤、染料、顔料などを適当な溶剤
に溶解あるいは分散して感光液とし、これを金属
表面処理層上に直接塗布し、乾燥するか、あるい
は、感光液を別の支持体上に塗布し、乾燥して感
光層を形成した後、金属表面処理層上にこの感光
層をラミネートする方法が一般的である。
溶剤としてはメチルエチルケトン、アセトン、
トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、メチル
アルコール、エチルアルコール、イソプロピルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、酢酸エチル、などが用いられる。
溶剤の選択に際しては、感光液を直接、金属表
面処理層上に塗布する場合は金属表面処理層を溶
解するような溶剤を使用するのは、さける方が望
ましい。
感光膜の厚さは0.5から100μが一般的であるが、
好ましくは2から20μである。
本発明の画像形成材料は必要に応じて感光層上
に、さらに上部支持体層を設けることもできる。
その主な目的は感光層剥離の時の感光層の強度の
増加である。しかし、感光膜の光感受性を阻害し
ないように透明性の優れたものが好ましく、この
点よりポリエステル、ポリプロピレン、ポリアミ
ド、ポリ塩化ビニル、セルロースエステル等のフ
イルムが適当で、例えば、接着剤により、感光層
と接着する。
以上のように構成した画像形成材料に画像露光
を行うことにより、露光部の感光層と金属表面処
理層との接着力が増大する。そこで感光層を剥離
すれば、露光部に相当する金属層および金属表面
処理層が支持体より感光層とともに除去され、未
露光部に相当する金属層および金属表面処理層が
支持体上に残留して画像を形成する。
この場合に用いる光源としては、太陽光を含め
て紫外線ないし、短波長側可視光線を放射するも
のが好適で、例えば、高圧水銀灯、カーボンアー
ク灯、キセノン灯、メタルハライド灯等が用いら
れる。
次に本発明を実施例によつて更に詳細に説明す
る。なお本発明は以下の実施例によつて制限を受
けるものではない。
実施例 1 厚さ100μの透明ポリエチレンテレフタレート
フイルム(支持体)の片面に真空蒸着により、
100mμのアルミニウム膜を設けた。このフイル
ムのアルミニウム面上に下記の組成の金属表面処
理層塗布液を乾燥後の膜厚が75mμになるように
塗布し、120℃で2分間乾燥し、金属表面処理層
を形成した。
金属表面処理層塗布液 n−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルメ
チルジメトキシシラン 0.5重量部 メタ変性アルコール 99.5 〃 次に上記金属表面処理層上に下記組成の感光液
を乾燥後の膜厚が8μになるように塗布し、90℃
で2分間乾燥して感光性フイルムを得た。
感光液 アルコール可溶性ポリアミド・ウルトラミド
IC(BASF社製) 10重量部 メタ変性アルコール 60 〃 トルエン 20 〃 水 5 〃 ペンタエリスリトールトリアクリレート
4 〃 ベンゾインエチルエーテル 1 〃 この感光性フイルムの感光層を、ポジ原稿と密
着させ、超高圧水銀灯2KWで1mの距離より、
10秒間露光した。感光膜を剥離すると鮮明なアル
ミニウムのポジ画像が支持体上に、ネガ画像が感
光膜上に得られた。
実施例 2 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエチレンテレフタレートフイルムの、アルミニ
ウム面上に下記の組成の金属表面処理層塗布液を
乾燥後の膜厚が75mμになるように塗布し、120
℃で2分間乾燥し、金属表面処理層を形成した。
金属表面処理層塗布液 ビニルトリス(β−メトキシエトキシ)シラン
0.5重量部 メタ変性アルコール 99.5 〃 次に上記金属表面処理層上に下記組成の感光液
を乾燥後の膜厚が12μになるように塗布し、90℃
で2分乾燥して、感光性フイルムを得た。
感光液 フエノキシ樹脂PKHH(UCC社製) 20重量部 メチルエチルケトン 30 〃 トルエン 30 〃 メタ変性アルコール 10重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート
8 〃 ベンゾインエチルエーテル 2 〃 この感光性フイルムを実施例1と同様に1分30
秒間露光した。感光膜を剥離すると実施例1と同
様に支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また
感光膜上にはネガ画像が鮮明に得られた。
実施例 3 実施例1で使用した、アルミニウムを蒸着した
ポリエチレンテレフタレートフイルムのアルミニ
ウム面上に下記の組成の金属表面処理層塗布液を
乾燥後の膜厚が75mμになるように塗布し、100
℃で1分間乾燥し、金属表面処理層を形成した。
金属表面処理層塗布液 n−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルト
リメトキシシラン 0.5重量部 メタ変性アルコール 99.5 〃 次に上記金属表面処理層上に下記組成の感光液
を乾燥後の膜厚が8μになるように塗布し、90℃
で2分乾燥して、感光性フイルムを得た。
感光液 ポリビニルブチラールXYHL(UCC社製)
10重量部 メタ変性アルコール 90 〃 ネオペンチルグリコールジアクリレート
40 〃 ベンゾインイソプロピルエーテル 10 〃 この感光性フイルムを実施例1と同様に2分間
露光した。感光膜を剥離すると、実施例1と同様
に支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また感
光膜上にはネガ画像が鮮明に得られた。
実施例 4 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエチレンテレフタレートフイルムのアルミニウ
ム面上に下記の組成の金属表面処理層塗布液を乾
燥後の膜厚が23mμになるように塗布し、90℃で
1分間乾燥し、金属表面処理層を形成した。
金属表面処理層塗布液 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体VMCH(UCC社製) 0.3重量部 メチルエチルケトン 24.7 〃 トルエン 25.0 〃 シクロヘキサノン 50.0 〃 次に上記金属表面処理層上に下記組成の感光液
を乾燥後の膜厚が12μになるように塗布し、90℃
で2分間乾燥して、感光性フイルムを得た。
感光液 エチルセルロースエトセルS−50(ダウケミカ
ル社製) 10重量部 メタ変性アルコール 90 〃 トリメチロールプロパントリアクリレート
4 〃 ベンゾインエチルエーテル 1 〃 この感光性フイルムを実施例1と同様に2分間
露光した。感光膜を剥離すると、実施例1と同様
に、支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また
感光膜上にはネガ画像が得られた。
実施例 5 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエチレンテレフタレートフイルムのアルミニウ
ム面上に下記の組成の金属表面処理層塗布液を乾
燥後の膜厚が23mμになるように塗布し、90℃で
1分間乾燥し、金属表面処理層を形成した。
金属表面処理層塗布液 線状飽和ポリエステル樹脂バイロン200(東洋紡
績社製) 0.3重量部 メチルエチルケトン 24.7 〃 トルエン 25.0 〃 シクロヘキサノン 50.0 〃 次に上記金属表面処理層上に実施例3で使用し
た感光液を乾燥後の膜厚が8μになるように塗
布・乾燥して感光性フイルムを得た。
この感光性フイルムを実施例1と同様に、40秒
間露光した。感光膜を剥離すると実施例1と同様
に、支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また
感光膜上にはネガ画像が鮮明に得られた。
実施例 6 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエステルフイルムのアルミニウム面上に下記の
組成の金属表面処理層塗布液を乾燥後の膜厚が23
mμになるように塗布し、90℃で1分間乾燥して
金属表面処理層を形成した。
金属表面処理層塗布液 ポリビニルホルマールビニレツクK(チツソ社
製) 0.3重量部 トルエン 49.7 〃 メチルアルコール 25.0 〃 メチルセロソルブ 25.0 〃 次に上記金属表面処理層上に下記組成の感光液
を乾燥後の膜厚が12μになるように塗布し、90℃
で2分間乾燥して感光性フイルムを得た。
感光液 エチルセルロース、エトセルS−20 10重量部 メチルエチルケトン 45 〃 トルエン 45 〃 オリゴエステルアクリレートアロニツクスM−
8030(東亜合成社製) 4 〃 ベンゾインエチルエーテル 1 〃 この感光性フイルムを実施例1と同様に2分間
露光した。感光膜を剥離すると、実施例1と同様
に支持体上にアルミニウムのポジ画像が、また感
光膜上にはネガ画像が鮮明に得られた。
実施例 7 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエチレンテレフタレートフイルムのアルミニウ
ム面上に下記の組成の金属表面処理層塗布液を乾
燥後の膜厚が23mμになるように塗布し、120℃
で5分間乾燥・硬化を行い、金属表面処理層を形
成した。
金属表面処理層塗布液 二液タイプウレタンポリボンドAY−651A(主
剤)(三洋化成工業社製) 4重量部 二液タイプウレタンポリボンドAY−651C(硬
化剤)(三洋化成工業社製) 0.6 〃 トルエン 300 〃 酢酸エチル 300 〃 シクロヘキサノン 400 〃 次に上記金属表面処理層上に、実施例6で使用
した感光液を乾燥後の膜厚が12μになるように塗
布し、90℃で2分間乾燥して、感光性フイルムを
得た。
この感光性フイルムを実施例1と同様に3分間
露光した。感光膜を剥離すると実施例1と同様
に、支持体上にアルミニウムのポジ画像がまた感
光膜上にはネガ画像が鮮明に得られた。
実施例 8 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエチレンテレフタレートフイルムのアルミ面上
に、実施例2で使用した金属表面処理層塗布液を
乾燥後の、膜厚が75mμになるように塗布、乾燥
し、金属表面処理層を形成した。
次にこの金属表面処理層上に、下記組成の感光
液を乾燥後の膜厚が、10μになるように塗布し、
90℃で2分間乾燥して、感光性フイルムを得た。
感光液 塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重
合体VMCH 20重量部 メチルエチルケトン 40 〃 トルエン 40 〃 放射線硬化型モノマー・フオトマー4072(サ
ン・ノプコ社製) 8 〃 ベンゾインエチルエーテル 2 〃 この感光性フイルムを実施例1と同様に2分間
露光した。感光膜を剥離すると、実施例1と同様
に、支持体上にアルミニウムのポジ画像が、ま
た、感光膜上にはネガ画像が鮮明に得られた。
実施例 9 厚さ100μの透明ポリエチレンテレフタレート
フイルムの片面に、スパツタリングにより、70m
μの銅の薄層を設けた。このフイルムの銅上に実
施例3で使用した金属表面処理層塗布液を乾燥後
の膜厚が75mμになるように、塗布、乾燥し、金
属表面処理層を形成した。
次に、この金属表面処理層上に、下記組成の感
光液を乾燥後の膜厚が8μになるように塗布し、
90℃で2分間乾燥して、感光性フイルムを得た。
感光液 ポリビニルブチラールXYHL 10重量部 メタ変性アルコール 80 〃 トルエン 50 〃 ペンタエリスリトールトリアクリレート
6 〃 ベンゾインイソプロピルエーテル 1 〃 この感光性フイルムを、実施例1と同様に2分
間露光した。感光膜を剥離すると、鮮明な銅のポ
ジ画像が支持体上にネガ画像が、感光膜上に得ら
れた。
実施例 10 厚さ50μの透明ポリエチレンテレフタレートフ
イルムの片面にスパツタリングにより60mμの黄
銅(亜鉛/銅=33/67)の薄膜を設けた。このフ
イルムの黄銅上に実施例3で使用した金属表面処
理層塗布液を乾燥後の膜厚が75mμになるように
塗布、乾燥し、金属表面処理層を形成した。
次にこの金属表面処理層上に、実施例9で使用
した感光液を乾燥後の膜厚が8μになるように塗
布、乾燥して、感光性フイルムを得た。
この感光性フイルムを実施例1と同様に2分間
露光した。感光膜を剥離すると鮮明な黄銅のポジ
画像が支持体上に、ネガ画像が感光膜上に得られ
た。
実施例 11 コロナ放電処理により表面処理した厚さ120μ
のポリプロピレンフイルム上に真空蒸着により、
50mμのアルミニウム薄膜を設けた。このフイル
ムのアルミニウム面上に実施例3で使用した、金
属表面処理層塗布液を乾燥後の膜厚が75mμにな
るように塗布、乾燥し、金属表面処理層を形成し
た。
次に、この金属表面処理層上に、実施例9で使
用した感光液を乾燥後の膜厚が、8μになるよう
に塗布、乾燥して、感光性フイルムを得た。
この感光性フイルムを、実施例1と同様に1分
30秒間露光した。感光膜を剥離すると、鮮明なア
ルミニウムのポジ画像が支持体上に、ネガ画像が
感光膜上に得られた。
実施例 12 実施例1で使用したアルミニウムを蒸着したポ
リエチレンテレフタレートフイルムのアルミニウ
ム面上に、実施例7で使用した金属表面処理層塗
布液を乾燥後の膜厚が23mμになるように塗布、
乾燥し、金属表面処理層を形成した。
次に、この金属表面処理層上に、実施例3で使
用した感光液を乾燥後の膜厚が4μになるように
塗布し、90℃で1分間乾燥した。この感光膜上
に、アクリル系粘着接着剤(日本カーバイド工業
社製、ニツセツPE115A)を25μの厚さで設けた
12μの厚さのポリエチレンテレフタレートフイル
ムをラミネートして、カバーフイルムを有する感
光性フイルムを得た。
この感光性フイルムを実施例1と同様に40秒間
露光した。感光膜を接着剤層、カバーフイルムと
ともに剥離すると、実施例1と同様に、支持体上
にアルミニウムのポジ画像が、また接着剤層とカ
バーフイルムとをともなつた感光膜上にネガ画像
が鮮明に得られた。また実施例1〜11と比較し
て、カバーフイルムを有するために、感光膜の膜
厚を薄くしても、剥離が容易であつた。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の画像形成材料の断面図であ
る。第2図は、本発明の画像形成材料を原稿を通
して活性光で露光している断面図である。第3図
は露光後、感光層を剥離した状態を示す。 1…支持体、2…金属層、3…金属表面処理
層、4…感光層、5…原稿(マスク)、6…活性
光。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 支持体、金属層、金属表面処理層および感光
    層の順に有し、未露光時には感光層−金属表面処
    理層の接着力は金属表面処理層−金属層間および
    金属層−支持体間の接着力より低く、かつ、露光
    により、感光層−金属表面処理層間および金属表
    面処理層−金属層の接着力は金属層−支持体間の
    接着力より高くなるように前記感光層と金属表面
    処理層とを選択し、これにより、露光後、感光層
    を剥離することにより露光部の金属層および金属
    表面処理層を感光層とともに支持体より除去し、
    かつ、支持体上に未露光部の金属層および金属表
    面処理層を残留させることを特徴とする剥離によ
    る画像形成材料。 2 感光層がバインダー用高分子化合物、重合可
    能なエチレン性不飽和化合物、および光重合開始
    剤を必須の成分とする特許請求の範囲第1項に記
    載の画像形成材料。 3 金属表面処理層が樹脂またはシランカツプリ
    ング剤の中より選ばれた1種以上である特許請求
    の範囲第1項に記載の画像形成材料。
JP58074524A 1983-04-27 1983-04-27 剥離による画像形成材料 Granted JPS59198445A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58074524A JPS59198445A (ja) 1983-04-27 1983-04-27 剥離による画像形成材料

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP58074524A JPS59198445A (ja) 1983-04-27 1983-04-27 剥離による画像形成材料

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS59198445A JPS59198445A (ja) 1984-11-10
JPH0349099B2 true JPH0349099B2 (ja) 1991-07-26

Family

ID=13549787

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP58074524A Granted JPS59198445A (ja) 1983-04-27 1983-04-27 剥離による画像形成材料

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS59198445A (ja)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6270835A (ja) * 1985-09-24 1987-04-01 Kimoto & Co Ltd 剥離による画像形成材料
EP0762214A1 (en) * 1995-09-05 1997-03-12 Agfa-Gevaert N.V. Photosensitive element comprising an image forming layer and a photopolymerisable layer

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51135641A (en) * 1975-05-20 1976-11-24 Kimoto & Co Ltd Photosensitive film
JPS52126220A (en) * 1976-04-14 1977-10-22 Kimoto Kk Dry image forming material and method of forming image
JPS53123130A (en) * 1977-04-01 1978-10-27 Kimoto Kk Method of promoting formation of dried picture
JPS5479027A (en) * 1977-12-05 1979-06-23 Kimoto Kk Dry picture forming material

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51135641A (en) * 1975-05-20 1976-11-24 Kimoto & Co Ltd Photosensitive film
JPS52126220A (en) * 1976-04-14 1977-10-22 Kimoto Kk Dry image forming material and method of forming image
JPS53123130A (en) * 1977-04-01 1978-10-27 Kimoto Kk Method of promoting formation of dried picture
JPS5479027A (en) * 1977-12-05 1979-06-23 Kimoto Kk Dry picture forming material

Also Published As

Publication number Publication date
JPS59198445A (ja) 1984-11-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3115745B2 (ja) 感光材料
JPH04191856A (ja) 感光材料および画像形成方法
JPH0349099B2 (ja)
US4751167A (en) Image producing material
US4740450A (en) Method of making image reproducing material having scratch improvment
JPS60191238A (ja) 画像複製材料およびその製造法
JP3522923B2 (ja) ハロゲン化銀感光材料
US6132925A (en) Silver halide light-sensitive material comprising support, hardening layer and light-sensitive layer
JPS60175044A (ja) リスフィルム用感光性組成物
JPS60238826A (ja) 画像形成材料
JPH0327107B2 (ja)
JPS5948752A (ja) 感光性樹脂組成物
JP3493240B2 (ja) 感光材料およびその製造方法
JPH0339299B2 (ja)
JPS61174541A (ja) 画像複製材料用感光性組成物
JPS59193446A (ja) 感光性積層物
JPS61176921A (ja) 画像複製材料用感光性組成物
JPS5945973B2 (ja) 感光性平版印刷版材料
JPH05181285A (ja) 画像形成方法
JPH09274321A (ja) 感光材料
JPH0728249A (ja) 画像形成方法
JPH07219233A (ja) 感光材料
JP2003034885A (ja) 金属箔メッシュの製造方法
JPH0772629A (ja) 感光材料および画像形成方法
JPH0756327A (ja) 画像形成方法