JPH0347263B2 - - Google Patents
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Description
本発明はインドール類の改良された製造方法に
関する。さらに詳しくは、本発明はアニリン類
と、1,2−グリコール類とを新規な、改良され
た触媒の存在下に気相反応させてインドール類を
製造する方法に関する。 インドール類は化学工業原料として知られ、特
にインドールは近年香料やアミノ酸合成原料とし
て重要な物質となつてきている。 従来から、インドール類を合成しようとする試
みは数多くあつたがいずれも副生物が多い、原料
が高価である、工程が複雑であるなどの問題点を
有していた。 最近になつて、安価な原料であるアニリン類と
1,2−グリコール類を用い、かつ短い工程でイ
ンドール類を合成する反応に有効な触媒系が見い
出されてきた。例えば、Cu−Cr,Cu−Co,
Pd/SiO2,Pt/SiO2などが挙げられるが、いず
れの触媒系も反応による活性低下が激しく、実用
触媒としての使用に耐えない。 本発明者らはこの反応について種々の検討を加
え、Cd,Agなどを触媒として使用すること、お
よび反応系に水を添加することなどにより、反応
のパフオーマンスを向上させうることを明らかに
してきた。更に鋭意検討を加えた結果、周期表Ib
族の元素であるCu,AgおよびAuの内、選ばれた
2種以上の元素を複合させることにより、各元素
単独の場合に比べ触媒の活性が著しく向上するこ
とを見い出し、本発明の方法に到達したものであ
る。 本発明のインドール類の製造方法は、アニリン
類と1,2−グリコール類を原料とし、気相接触
反応させてインドール類を製造するに当り、Cu
とAgの原子比が20:1から1:20の範囲にある
CuおよびAgを含有する触媒、CuとAuの原子比
が40:1から2:1の範囲にあるCuおよびAuを
含有する触媒、AgとAuの原子比が40:1から
5:1の範囲にあるAgおよびAuを含有する触
媒、またはCuとAgの原子比が20:1から1:20
の範囲にあり、かつCuとAgの合量とAuの原子比
が20:1から5:1の範囲にあるCu、Agおよび
Auを含有する触媒の存在下に反応を行なうこと
を特徴とするものである。 本方法において使用されるアニリン類は次の一
般式 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、水酸
基、アルキル基またはアルコキシ基を示す) で表わされる化合物で、例えば、アニリン、o
−・m−もしくはp−トルイジン、o−・m−・
もしくはp−ハロアニリン、o−・m−・もしく
はp−ヒドロキシアニリン、o−・m−・もしく
はp−アニシジン等があげられる。また1,2−
グリコール類は、例えばエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、
1,2,4−ブタントリオール、グリセロール、
2,3−ブタンジオール、ジエチレングリコール
等である。 本発明により製造されるインドール類の特殊な
例を示すとアニリンとエチレングリコールとの反
応によるインドール、トルイジンとエチレングリ
コールとの反応によるメチルインドール、アニシ
ジンとエチレングリコールとの反応によるメトキ
シインドール、アニリンとプロピレングリコール
にの反応によるスカトール、アニリンと1,2,
4−ブタントリオールとの反応によるトリプトフ
オールなどである。 本発明の方法で使用される触媒は、Cu−Ag,
Cu−Au,Ag−Au,Cu−Ag−Au系の各触媒で
ある。これらの触媒の組成比は、前記のとおり
Cu−Ag系触媒の場合、CuとAgの原子比で20:
1から1:20の範囲、Cu−Au系触媒の場合、Cu
とAuの原子比で40:1から2:1の範囲、Ag−
Au系触媒の場合、AgとAuの原子比で40:1か
ら5:1の範囲、Cu−Ag−Au系触媒の場合は、
CuとAgの原子比で20:1から1:20の範囲であ
つて、かつ(Cu+Ag)とAuの原子比で20:1か
ら5:1の範囲である。これらの触媒は単独ある
いはケイソウ土、活性白土、ゼオライト、シリ
カ、アルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ク
ロミア、トリア、マグネシア、カルシア、活性炭
などの担体に担持して使用される。 触媒金属の原料としては、Cu及びAgの場合
は、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、ハロゲ
ン化物、有機酸塩等が、Auの場合は、塩化金酸、
塩化金酸アルカリ金属類、シアン化金、シアン化
金アルカリ金属類等が一般的に使用できる。 触媒の調製法としては、通常の混練法、共沈
法、含浸性及び前述の各法を組み合せた方法など
が適用できる。例えば、各種の原料を混合し、少
量の水を添加してニーダー等で混練させる方法、 各種原料を水溶液とし、これに沈殿剤を加え、
不溶性の沈殿として共沈させる方法、各種担体に
対し各種の原料を含浸させる方法、あるいは共沈
法でCu、AgおよびAuの一種もしくは二種の金属
と担体の共沈殿物を作つた後に、Cu、Agおよび
Auから選ばれた他の1種または2種を含浸させ
る方法などにより調製できる。得られた触媒組成
物は通常180℃以下で乾燥し、適当な造粒添加剤、
成形助剤などを添加し、成形したり、あるいは触
媒組成物をそのまま破砕して使用してもよい。こ
の様にして調製された触媒は、通常反応前に還元
され反応に供される。 本発明の方法において、アニリン類と1,2−
グリコール類との反応は前記触媒の存在下、気相
で実施されるが、固定床、流動床または移動床の
いずれの反応様式でも可能である。 反応装置に導入するアニリン類と1,2−グリ
コール類は、アニリン類1モルに対して1,2−
グリコール類0.01〜5モルの範囲、好ましくは
0.05〜1モルの範囲である。 原料であるアニリン類とエチレングリコール類
の導入量は液空間速度(LHSV)で0.01〜10hr-1
の範囲であり、あらかじめ蒸発器にて気化させた
後、反応装置に導入する。また、その際に、水蒸
気、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒
素、ネオン、アルゴンなどをキヤリアガスとして
同伴させてもよい。中でも水蒸気、水素、一酸化
炭素は触媒寿命を増大させる効果を有するので好
ましい。 反応温度は200゜〜600℃の範囲、好ましくは
250゜〜500℃の範囲である。反応圧力は、減圧、
常圧、加圧のいずれでも実施しうるが、加圧状態
の方が好ましい。 本発明の方法で使用される1b族金属類を複合
した触媒は、各金属単独の場合に比べて触媒活性
が著しく向上するが、これは合金比によるアンサ
ンプル効果ではないかと本発明者らは考えてい
る。 以下、実施例により本発明を説明する。 実施例 1 Cu(NO3)2・3H2O24.2gとAgNO317.0gを水
に溶解させ、Cu及びAgを等原子数含む100ml含
浸液を調製した。次いで市販のシリカ担体(比表
面積290m2/g)20gに対し、前述の含浸液30ml
を加えて1時間放置した。過後、120℃で乾燥
し、Cu−Ag/SiO2触媒22重量%Cuおよび3.7重
量%Ag含有とした。同触媒を内径20mmのパイレ
ツクス製反応管に10ml入れ、水素にて還元を行つ
た後、350℃に内温を保つた反応管にアニリンと
エチレングリコールのモル比10:1の原料を
LHSV0.35hr-1で水((1.59/hr)及び水素
(1.5Nl/hr)と共に送り、反応を実施した。結果
(インドール収率=エチレングリコール基準のイ
ンドール収率)を第1表に示した。 比較例 1 Cu(NO3)2・3H2O48.4gを水に溶解させ100ml
の含浸液とした。実施例1と同様の方法で触媒
(4.4重量%Cu含有)を調製し、反応を実施した。
結果を第1表に示した。 比較例 2 Ag NO3・34.0gを水に溶解させ100mlの含浸
液とした。実施例1と同様の方法で触媒(7.6重
量%Ag含有)を調製して反応を実施した。結果
を第1表に示した。
関する。さらに詳しくは、本発明はアニリン類
と、1,2−グリコール類とを新規な、改良され
た触媒の存在下に気相反応させてインドール類を
製造する方法に関する。 インドール類は化学工業原料として知られ、特
にインドールは近年香料やアミノ酸合成原料とし
て重要な物質となつてきている。 従来から、インドール類を合成しようとする試
みは数多くあつたがいずれも副生物が多い、原料
が高価である、工程が複雑であるなどの問題点を
有していた。 最近になつて、安価な原料であるアニリン類と
1,2−グリコール類を用い、かつ短い工程でイ
ンドール類を合成する反応に有効な触媒系が見い
出されてきた。例えば、Cu−Cr,Cu−Co,
Pd/SiO2,Pt/SiO2などが挙げられるが、いず
れの触媒系も反応による活性低下が激しく、実用
触媒としての使用に耐えない。 本発明者らはこの反応について種々の検討を加
え、Cd,Agなどを触媒として使用すること、お
よび反応系に水を添加することなどにより、反応
のパフオーマンスを向上させうることを明らかに
してきた。更に鋭意検討を加えた結果、周期表Ib
族の元素であるCu,AgおよびAuの内、選ばれた
2種以上の元素を複合させることにより、各元素
単独の場合に比べ触媒の活性が著しく向上するこ
とを見い出し、本発明の方法に到達したものであ
る。 本発明のインドール類の製造方法は、アニリン
類と1,2−グリコール類を原料とし、気相接触
反応させてインドール類を製造するに当り、Cu
とAgの原子比が20:1から1:20の範囲にある
CuおよびAgを含有する触媒、CuとAuの原子比
が40:1から2:1の範囲にあるCuおよびAuを
含有する触媒、AgとAuの原子比が40:1から
5:1の範囲にあるAgおよびAuを含有する触
媒、またはCuとAgの原子比が20:1から1:20
の範囲にあり、かつCuとAgの合量とAuの原子比
が20:1から5:1の範囲にあるCu、Agおよび
Auを含有する触媒の存在下に反応を行なうこと
を特徴とするものである。 本方法において使用されるアニリン類は次の一
般式 (式中、Rは水素原子、ハロゲン原子、水酸
基、アルキル基またはアルコキシ基を示す) で表わされる化合物で、例えば、アニリン、o
−・m−もしくはp−トルイジン、o−・m−・
もしくはp−ハロアニリン、o−・m−・もしく
はp−ヒドロキシアニリン、o−・m−・もしく
はp−アニシジン等があげられる。また1,2−
グリコール類は、例えばエチレングリコール、プ
ロピレングリコール、1,2−ブタンジオール、
1,2,4−ブタントリオール、グリセロール、
2,3−ブタンジオール、ジエチレングリコール
等である。 本発明により製造されるインドール類の特殊な
例を示すとアニリンとエチレングリコールとの反
応によるインドール、トルイジンとエチレングリ
コールとの反応によるメチルインドール、アニシ
ジンとエチレングリコールとの反応によるメトキ
シインドール、アニリンとプロピレングリコール
にの反応によるスカトール、アニリンと1,2,
4−ブタントリオールとの反応によるトリプトフ
オールなどである。 本発明の方法で使用される触媒は、Cu−Ag,
Cu−Au,Ag−Au,Cu−Ag−Au系の各触媒で
ある。これらの触媒の組成比は、前記のとおり
Cu−Ag系触媒の場合、CuとAgの原子比で20:
1から1:20の範囲、Cu−Au系触媒の場合、Cu
とAuの原子比で40:1から2:1の範囲、Ag−
Au系触媒の場合、AgとAuの原子比で40:1か
ら5:1の範囲、Cu−Ag−Au系触媒の場合は、
CuとAgの原子比で20:1から1:20の範囲であ
つて、かつ(Cu+Ag)とAuの原子比で20:1か
ら5:1の範囲である。これらの触媒は単独ある
いはケイソウ土、活性白土、ゼオライト、シリ
カ、アルミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、ク
ロミア、トリア、マグネシア、カルシア、活性炭
などの担体に担持して使用される。 触媒金属の原料としては、Cu及びAgの場合
は、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、ハロゲ
ン化物、有機酸塩等が、Auの場合は、塩化金酸、
塩化金酸アルカリ金属類、シアン化金、シアン化
金アルカリ金属類等が一般的に使用できる。 触媒の調製法としては、通常の混練法、共沈
法、含浸性及び前述の各法を組み合せた方法など
が適用できる。例えば、各種の原料を混合し、少
量の水を添加してニーダー等で混練させる方法、 各種原料を水溶液とし、これに沈殿剤を加え、
不溶性の沈殿として共沈させる方法、各種担体に
対し各種の原料を含浸させる方法、あるいは共沈
法でCu、AgおよびAuの一種もしくは二種の金属
と担体の共沈殿物を作つた後に、Cu、Agおよび
Auから選ばれた他の1種または2種を含浸させ
る方法などにより調製できる。得られた触媒組成
物は通常180℃以下で乾燥し、適当な造粒添加剤、
成形助剤などを添加し、成形したり、あるいは触
媒組成物をそのまま破砕して使用してもよい。こ
の様にして調製された触媒は、通常反応前に還元
され反応に供される。 本発明の方法において、アニリン類と1,2−
グリコール類との反応は前記触媒の存在下、気相
で実施されるが、固定床、流動床または移動床の
いずれの反応様式でも可能である。 反応装置に導入するアニリン類と1,2−グリ
コール類は、アニリン類1モルに対して1,2−
グリコール類0.01〜5モルの範囲、好ましくは
0.05〜1モルの範囲である。 原料であるアニリン類とエチレングリコール類
の導入量は液空間速度(LHSV)で0.01〜10hr-1
の範囲であり、あらかじめ蒸発器にて気化させた
後、反応装置に導入する。また、その際に、水蒸
気、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒
素、ネオン、アルゴンなどをキヤリアガスとして
同伴させてもよい。中でも水蒸気、水素、一酸化
炭素は触媒寿命を増大させる効果を有するので好
ましい。 反応温度は200゜〜600℃の範囲、好ましくは
250゜〜500℃の範囲である。反応圧力は、減圧、
常圧、加圧のいずれでも実施しうるが、加圧状態
の方が好ましい。 本発明の方法で使用される1b族金属類を複合
した触媒は、各金属単独の場合に比べて触媒活性
が著しく向上するが、これは合金比によるアンサ
ンプル効果ではないかと本発明者らは考えてい
る。 以下、実施例により本発明を説明する。 実施例 1 Cu(NO3)2・3H2O24.2gとAgNO317.0gを水
に溶解させ、Cu及びAgを等原子数含む100ml含
浸液を調製した。次いで市販のシリカ担体(比表
面積290m2/g)20gに対し、前述の含浸液30ml
を加えて1時間放置した。過後、120℃で乾燥
し、Cu−Ag/SiO2触媒22重量%Cuおよび3.7重
量%Ag含有とした。同触媒を内径20mmのパイレ
ツクス製反応管に10ml入れ、水素にて還元を行つ
た後、350℃に内温を保つた反応管にアニリンと
エチレングリコールのモル比10:1の原料を
LHSV0.35hr-1で水((1.59/hr)及び水素
(1.5Nl/hr)と共に送り、反応を実施した。結果
(インドール収率=エチレングリコール基準のイ
ンドール収率)を第1表に示した。 比較例 1 Cu(NO3)2・3H2O48.4gを水に溶解させ100ml
の含浸液とした。実施例1と同様の方法で触媒
(4.4重量%Cu含有)を調製し、反応を実施した。
結果を第1表に示した。 比較例 2 Ag NO3・34.0gを水に溶解させ100mlの含浸
液とした。実施例1と同様の方法で触媒(7.6重
量%Ag含有)を調製して反応を実施した。結果
を第1表に示した。
【表】
実施例 2
比較例1と同様の方法で、Cuのみを含有する
触媒を調製し、120℃で乾燥させた後、300℃で水
素による還元を行つた。次いで、各種の濃度の塩
化金酸水溶液に含浸して10分間放置した。過
後、120℃で乾燥して第2表に示した組成のCu−
Au/SiO2系触媒とした。これらの触媒を用いて
実施例1と同様にしてインドール合成反応を実施
した。結果を第2表に示した。
触媒を調製し、120℃で乾燥させた後、300℃で水
素による還元を行つた。次いで、各種の濃度の塩
化金酸水溶液に含浸して10分間放置した。過
後、120℃で乾燥して第2表に示した組成のCu−
Au/SiO2系触媒とした。これらの触媒を用いて
実施例1と同様にしてインドール合成反応を実施
した。結果を第2表に示した。
【表】
実施例 3
市販の塩基性炭酸マグネシウム80gに、Cu
(NO3)2・3H2O11.5gとAgNO33.9gを加え、少
量の水とともに十分混練した。次いで120℃で乾
燥、300℃で水素還元を行い、Cu−Ag/MgO系
触媒とした。この触媒を用いて実施例1と同様に
してインドール合成反応を実施した。結果を第3
表に示した。 実施例 4 実施例3と同様の方法によりCu(NO3)2・
3H2OとAgNO3以外にHAuCl4・4H2O1.6gを添
加してCu−Ag−Au/MgO系触媒を調製した。
この触媒を用いて実施例1と同様にインドール合
成を実施した。結果を第3表に示した。 比較例 3 実施例3と同様の方法により、AgNO3のみを
添加せずCu/MgO系触媒を調製した。実施例1
と同様にしてインドール合成反応を実施した。結
果を第3表に示した。
(NO3)2・3H2O11.5gとAgNO33.9gを加え、少
量の水とともに十分混練した。次いで120℃で乾
燥、300℃で水素還元を行い、Cu−Ag/MgO系
触媒とした。この触媒を用いて実施例1と同様に
してインドール合成反応を実施した。結果を第3
表に示した。 実施例 4 実施例3と同様の方法によりCu(NO3)2・
3H2OとAgNO3以外にHAuCl4・4H2O1.6gを添
加してCu−Ag−Au/MgO系触媒を調製した。
この触媒を用いて実施例1と同様にインドール合
成を実施した。結果を第3表に示した。 比較例 3 実施例3と同様の方法により、AgNO3のみを
添加せずCu/MgO系触媒を調製した。実施例1
と同様にしてインドール合成反応を実施した。結
果を第3表に示した。
【表】
実施例 5
内径15mmのステンレス製反応管に、実施例1で
調製したCu−Ag/SiO2触媒を20ml入れ、水素に
て還元を行つた。次いで、360℃に内温を保つた
反応管にアニリンとエチレングリコールのモル比
8:1の原料をLHSV0.40hr-1で水(3.5g/hr)
及び水素(4.0Nl/hr)と共に送つた。反応圧力
は8.0×105Paとした。結果を第4表に示した。
調製したCu−Ag/SiO2触媒を20ml入れ、水素に
て還元を行つた。次いで、360℃に内温を保つた
反応管にアニリンとエチレングリコールのモル比
8:1の原料をLHSV0.40hr-1で水(3.5g/hr)
及び水素(4.0Nl/hr)と共に送つた。反応圧力
は8.0×105Paとした。結果を第4表に示した。
Claims (1)
- 1 アニリン類と1,2−グリコール類とを気相
接触反応させてインドール類を製造するに当り、
CuとAgの原子比が20:1から1:20の範囲にあ
るCuおよびAgを含有する触媒、CuとAuの原子
比が40:1から2:1の範囲にあるCuおよびAu
を含有する触媒、AgとAuの原子比が40:1から
5:1の範囲にあるAgおよびAuを含有する触
媒、またはCuとAgの原子比が20:1から1:20
の範囲にあり、かつCuとAgの合量とAuの原子比
が20:1から5:1の範囲にあるCu、Agおよび
Auを含有する触媒の存在下に反応を行なうこと
を特徴とするインドール類の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57164070A JPS5955869A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | インド−ル類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57164070A JPS5955869A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | インド−ル類の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5955869A JPS5955869A (ja) | 1984-03-31 |
JPH0347263B2 true JPH0347263B2 (ja) | 1991-07-18 |
Family
ID=15786206
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57164070A Granted JPS5955869A (ja) | 1982-09-22 | 1982-09-22 | インド−ル類の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5955869A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63196561A (ja) * | 1987-02-07 | 1988-08-15 | Idemitsu Kosan Co Ltd | インド−ル類の製造方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5655366A (en) * | 1979-10-15 | 1981-05-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indoles |
JPS5686154A (en) * | 1979-12-14 | 1981-07-13 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indole or its derivative |
-
1982
- 1982-09-22 JP JP57164070A patent/JPS5955869A/ja active Granted
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5655366A (en) * | 1979-10-15 | 1981-05-15 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indoles |
JPS5686154A (en) * | 1979-12-14 | 1981-07-13 | Mitsui Toatsu Chem Inc | Preparation of indole or its derivative |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5955869A (ja) | 1984-03-31 |
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