JP3229655B2 - インドール類の製造方法 - Google Patents
インドール類の製造方法Info
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- JP3229655B2 JP3229655B2 JP17978292A JP17978292A JP3229655B2 JP 3229655 B2 JP3229655 B2 JP 3229655B2 JP 17978292 A JP17978292 A JP 17978292A JP 17978292 A JP17978292 A JP 17978292A JP 3229655 B2 JP3229655 B2 JP 3229655B2
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/584—Recycling of catalysts
Landscapes
- Indole Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アニリン類とエチレン
グリコール類よりインドール類を製造する方法に関す
る。インドール類は化学工業原料として知られ、特にイ
ンドールは近年香料やアミノ酸合成原料として重要な物
質となってきている。
グリコール類よりインドール類を製造する方法に関す
る。インドール類は化学工業原料として知られ、特にイ
ンドールは近年香料やアミノ酸合成原料として重要な物
質となってきている。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、安価な原料であるアニリン類とエチレングリコール
類を用い、且つ短い工程でインドール類を合成する反応
に有効な触媒系が知られている。例えば、Ｃｕ−Ｃｒ、
Ｃｕ−Ｃｏ、Ｐｄ／ＳｉＯ2、Ｐｔ／ＳｉＯ2、ＣｄＳな
どが挙げられるが、いずれの触媒系も反応活性低下が激
しい、反応活性が低いなどの欠点を有しており、実用触
媒としての使用に耐えなかった。最近に至り、周期律表
第１ｂ族の元素であるＣｕ、Ａｇ、およびＡｕのうちい
ずれかを有効成分として含む触媒系がインドール類の製
造に対して有効であり、長時間にわたり反応を実施しう
ることが特開昭５９−４８４５９号公報、特開昭５９−
５５８６９号公報、特公昭６１−３０６５９号公報など
によって開示された。また特公平３−１４３０６号公
報、特公平３−４７２６４号公報には、反応に使用した
周期律表第１ｂ族金属含有触媒を再生、還元活性化し繰
り返し使用する技術が開示されている。
り、安価な原料であるアニリン類とエチレングリコール
類を用い、且つ短い工程でインドール類を合成する反応
に有効な触媒系が知られている。例えば、Ｃｕ−Ｃｒ、
Ｃｕ−Ｃｏ、Ｐｄ／ＳｉＯ2、Ｐｔ／ＳｉＯ2、ＣｄＳな
どが挙げられるが、いずれの触媒系も反応活性低下が激
しい、反応活性が低いなどの欠点を有しており、実用触
媒としての使用に耐えなかった。最近に至り、周期律表
第１ｂ族の元素であるＣｕ、Ａｇ、およびＡｕのうちい
ずれかを有効成分として含む触媒系がインドール類の製
造に対して有効であり、長時間にわたり反応を実施しう
ることが特開昭５９−４８４５９号公報、特開昭５９−
５５８６９号公報、特公昭６１−３０６５９号公報など
によって開示された。また特公平３−１４３０６号公
報、特公平３−４７２６４号公報には、反応に使用した
周期律表第１ｂ族金属含有触媒を再生、還元活性化し繰
り返し使用する技術が開示されている。
【０００３】しかしながら、従来技術にしたがってイン
ドール類を製造しても、反応時間とともに触媒が劣化
し、触媒活性及びインドール類への選択率が低下して、
インドール類の収率が悪くなることは避けられない。ま
た、反応に使用して劣化した触媒を再生し繰り返し使用
する場合にも再生による触媒劣化のため、触媒を繰り返
し使用するとますます触媒劣化速度が速くなり、触媒の
長期連続使用が困難になるという欠点があり、工業的製
造法を確立するためには、これらの欠点を克服すること
が重要であることが判った。
ドール類を製造しても、反応時間とともに触媒が劣化
し、触媒活性及びインドール類への選択率が低下して、
インドール類の収率が悪くなることは避けられない。ま
た、反応に使用して劣化した触媒を再生し繰り返し使用
する場合にも再生による触媒劣化のため、触媒を繰り返
し使用するとますます触媒劣化速度が速くなり、触媒の
長期連続使用が困難になるという欠点があり、工業的製
造法を確立するためには、これらの欠点を克服すること
が重要であることが判った。
【０００４】本発明の課題は、このようなインドール類
の製造法において、反応による触媒活性低下を抑制し、
また反応に使用して劣化した触媒を再生し、繰り返し使
用する場合の再生時の触媒劣化による活性低下を抑制す
ることである。
の製造法において、反応による触媒活性低下を抑制し、
また反応に使用して劣化した触媒を再生し、繰り返し使
用する場合の再生時の触媒劣化による活性低下を抑制す
ることである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決する方法について鋭意検討した結果、反応開始前
又は反応後に触媒の水蒸気洗浄を行っても効果が無い
が、反応の途中に触媒の水蒸気洗浄工程を入れることに
よって、反応による触媒活性低下を抑制し、また一度以
上反応に使用した触媒を適切な方法で再生し、インドー
ル類の製造に繰り返し使用する時の、再生時の触媒劣化
を抑制できることを見出し、本発明に至った。
を解決する方法について鋭意検討した結果、反応開始前
又は反応後に触媒の水蒸気洗浄を行っても効果が無い
が、反応の途中に触媒の水蒸気洗浄工程を入れることに
よって、反応による触媒活性低下を抑制し、また一度以
上反応に使用した触媒を適切な方法で再生し、インドー
ル類の製造に繰り返し使用する時の、再生時の触媒劣化
を抑制できることを見出し、本発明に至った。
【０００６】すなわち、本発明の方法は、アニリン類と
エチレングリコール類を原料とし、元素周期律表第１ｂ
族金属触媒の存在下、気相接触反応させインドール類を
製造するにあたり、反応途中で水蒸気洗浄処理を入れる
ことを特徴とするインドール類の製造方法である。本発
明の方法で使用されるアニリン類は、一般式（１）（化
１）
エチレングリコール類を原料とし、元素周期律表第１ｂ
族金属触媒の存在下、気相接触反応させインドール類を
製造するにあたり、反応途中で水蒸気洗浄処理を入れる
ことを特徴とするインドール類の製造方法である。本発
明の方法で使用されるアニリン類は、一般式（１）（化
１）
【０００７】
【化１】
【０００８】〔式中、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、水
酸基、アルキル基または、アルコキシ基を示す。〕で表
される化合物である。例えば、アニリン、ｏ−・ｍ−・
もしくはｐ−トルイジン、ｏ−・ｍ−・もしくはｐ−ハ
ロアニリン、ｏ−・ｍ−・もしくはｐ−ヒドロキシアニ
リン、ｏ−・ｍ−・もしくはｐ−アニシジン等が挙げら
れる。またエチレングリコール類とは、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，２−ブタンジオー
ル、１，２，４−ブタントリオール、グリセロール、
２，３−ブタンジオール、ジエチレングリコール等であ
る。
酸基、アルキル基または、アルコキシ基を示す。〕で表
される化合物である。例えば、アニリン、ｏ−・ｍ−・
もしくはｐ−トルイジン、ｏ−・ｍ−・もしくはｐ−ハ
ロアニリン、ｏ−・ｍ−・もしくはｐ−ヒドロキシアニ
リン、ｏ−・ｍ−・もしくはｐ−アニシジン等が挙げら
れる。またエチレングリコール類とは、エチレングリコ
ール、プロピレングリコール、１，２−ブタンジオー
ル、１，２，４−ブタントリオール、グリセロール、
２，３−ブタンジオール、ジエチレングリコール等であ
る。
【０００９】本発明の方法に使用される触媒は、１ｂ族
元素であるＣｕ、Ａｇ及びＡｕのうち、選ばれた一種以
上を有効成分として含有する触媒系であり、これらと複
合可能な元素として、Ｂ、Ｃ、Ｏ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｐ、Ｓ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｓｒ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等
を挙げることができる。前述の触媒は単独、あるいは通
常の単体であるケイソウ土、ゼオライト、シリカ、アル
ミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、クロミア、トリ
ア、マグネシア、カルシア、酸化亜鉛などに担持し使用
される。
元素であるＣｕ、Ａｇ及びＡｕのうち、選ばれた一種以
上を有効成分として含有する触媒系であり、これらと複
合可能な元素として、Ｂ、Ｃ、Ｏ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、
Ｐ、Ｓ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、
Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｓｒ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ｒｕ、Ｒ
ｈ、Ｐｄ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｌ
ａ、Ｃｅ、Ｗ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｔｈ等
を挙げることができる。前述の触媒は単独、あるいは通
常の単体であるケイソウ土、ゼオライト、シリカ、アル
ミナ、シリカ−アルミナ、チタニア、クロミア、トリ
ア、マグネシア、カルシア、酸化亜鉛などに担持し使用
される。
【００１０】１ｂ族元素の原料としては、Ｃｕ及びＡｇ
の場合、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、ハロゲン
化物、有機酸塩等、Ａｕの場合は、塩化金酸、塩化金酸
アルカリ金属類、シアン化金、シアン化金アルカリ金属
類等が一般的に使用できる。触媒の調製法としては、通
常の混練法、共沈法、含浸法及び前述の各法を組み合わ
せた方法等が適用可能である。例えば、各種の原料を混
合し、少量の水を添加し、ニーダー等で混練する方法、
各種原料を水溶液とし、これに沈殿剤を加え、不溶性の
沈殿として共沈させる方法、各種担体に対し各種の原料
を含浸させる方法、などで調製できる。得られた触媒組
成物は、通常１８０℃以下で乾燥し、適当な造粒添加
剤、成形助剤などを添加し成形したり、あるいは触媒組
成物をそのまま破砕して使用する。
の場合、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、炭酸塩、ハロゲン
化物、有機酸塩等、Ａｕの場合は、塩化金酸、塩化金酸
アルカリ金属類、シアン化金、シアン化金アルカリ金属
類等が一般的に使用できる。触媒の調製法としては、通
常の混練法、共沈法、含浸法及び前述の各法を組み合わ
せた方法等が適用可能である。例えば、各種の原料を混
合し、少量の水を添加し、ニーダー等で混練する方法、
各種原料を水溶液とし、これに沈殿剤を加え、不溶性の
沈殿として共沈させる方法、各種担体に対し各種の原料
を含浸させる方法、などで調製できる。得られた触媒組
成物は、通常１８０℃以下で乾燥し、適当な造粒添加
剤、成形助剤などを添加し成形したり、あるいは触媒組
成物をそのまま破砕して使用する。
【００１１】本発明の方法で、アニリン類とエチレング
リコール類との反応は、触媒の存在下、気相で実施され
るが、固定床、流動床または移動床のいずれの反応様式
でも可能である。
リコール類との反応は、触媒の存在下、気相で実施され
るが、固定床、流動床または移動床のいずれの反応様式
でも可能である。
【００１２】反応装置に導入するアニリン類とエチレン
グリコール類は、アニリン類１モルに対してエチレング
リコール類０．０１〜５モルの範囲、好ましくは０．０
５〜１モルの範囲である。原料であるアニリン類とエチ
レングリコール類の導入量は、液空間速度（ＬＨＳＶ）
で０．０１〜１０ｈｒ-1の範囲であり、あらかじめ蒸発
器にて気化後、反応装置に導入する。またその際に、水
蒸気、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒素、
ネオン、アルゴンなどをキャリアガスとして同伴させて
も良い。中でも、水蒸気、水素、一酸化炭素は触媒のサ
ービスライフを増大させる効果を有する為、好ましい。
グリコール類は、アニリン類１モルに対してエチレング
リコール類０．０１〜５モルの範囲、好ましくは０．０
５〜１モルの範囲である。原料であるアニリン類とエチ
レングリコール類の導入量は、液空間速度（ＬＨＳＶ）
で０．０１〜１０ｈｒ-1の範囲であり、あらかじめ蒸発
器にて気化後、反応装置に導入する。またその際に、水
蒸気、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒素、
ネオン、アルゴンなどをキャリアガスとして同伴させて
も良い。中でも、水蒸気、水素、一酸化炭素は触媒のサ
ービスライフを増大させる効果を有する為、好ましい。
【００１３】反応温度は２００〜６００℃の範囲、好ま
しくは２５０〜５００℃の範囲である。反応圧力は減
圧、常圧、加圧のいずれでも実施可能であるが常圧及び
加圧状態のほうが好ましい。
しくは２５０〜５００℃の範囲である。反応圧力は減
圧、常圧、加圧のいずれでも実施可能であるが常圧及び
加圧状態のほうが好ましい。
【００１４】本発明の方法で水蒸気洗浄は、反応開始か
ら反応を停止して触媒の再生に入るまでの間に、アニリ
ン類とエチレングリコール類の供給を一時停止し、反応
装置に水蒸気を供給して行う。水蒸気洗浄の時間は１分
以上好ましくは３０分以上行うことによって効果が表れ
る。洗浄時間の上限は特にないが１００時間以内で行う
ことが望ましい。上記洗浄は１回にまとめて行っても、
２回以上に分けて行っても差し支えない。水蒸気洗浄温
度は１００〜６００℃の範囲、好ましくは１５０〜５０
０℃の範囲である。
ら反応を停止して触媒の再生に入るまでの間に、アニリ
ン類とエチレングリコール類の供給を一時停止し、反応
装置に水蒸気を供給して行う。水蒸気洗浄の時間は１分
以上好ましくは３０分以上行うことによって効果が表れ
る。洗浄時間の上限は特にないが１００時間以内で行う
ことが望ましい。上記洗浄は１回にまとめて行っても、
２回以上に分けて行っても差し支えない。水蒸気洗浄温
度は１００〜６００℃の範囲、好ましくは１５０〜５０
０℃の範囲である。
【００１５】洗浄圧力は減圧、常圧、加圧のいずれでも
実施可能であるが常圧及び加圧状態のほうが好ましい。
洗浄に使用する水の導入量は液空間速度（ＬＨＳＶ）で
０．０１〜１０ｈｒ-1１の範囲であり、あらかじめ蒸発
器にて気化するか、あるいは適当な圧力のスチーム（加
熱スチームでもよい）として反応装置に導入する。また
その際に、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒
素、ネオン、アルゴンなどをキャリアガスとして同伴さ
せてもよい。中でも、水素、一酸化炭素、二酸化炭素は
触媒のサービスライフを増大させる効果を有する為、好
ましい。水の供給量が上記範囲より少ないと効果が認め
られず、上記範囲より多くても更なる効果はない。以上
の条件によりインドール類の製造に一度以上使用した触
媒は、次のように再生処理、ついで還元活性化処理され
る。
実施可能であるが常圧及び加圧状態のほうが好ましい。
洗浄に使用する水の導入量は液空間速度（ＬＨＳＶ）で
０．０１〜１０ｈｒ-1１の範囲であり、あらかじめ蒸発
器にて気化するか、あるいは適当な圧力のスチーム（加
熱スチームでもよい）として反応装置に導入する。また
その際に、水素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒
素、ネオン、アルゴンなどをキャリアガスとして同伴さ
せてもよい。中でも、水素、一酸化炭素、二酸化炭素は
触媒のサービスライフを増大させる効果を有する為、好
ましい。水の供給量が上記範囲より少ないと効果が認め
られず、上記範囲より多くても更なる効果はない。以上
の条件によりインドール類の製造に一度以上使用した触
媒は、次のように再生処理、ついで還元活性化処理され
る。
【００１６】すなわち、再生処理は、劣化した触媒が、
触媒上に炭素が析出しているので、これを燃焼除去する
ことによって再生される。再生方法としては、例えば、
劣化した触媒を２００〜４５０℃の温度範囲で酸素を５
ｖｏｌ％以下含有する不活性ガスと接触させる方法が挙
げられる。この再生方法において、酸素濃度は好ましく
は２％以下であり、不活性ガスとしては窒素、アルゴ
ン、ヘリウム、一酸化炭素、水蒸気等が使用される。必
要に応じ、続いて熱処理を行うこともある。しかし、上
記再生法に限定されるものではない。
触媒上に炭素が析出しているので、これを燃焼除去する
ことによって再生される。再生方法としては、例えば、
劣化した触媒を２００〜４５０℃の温度範囲で酸素を５
ｖｏｌ％以下含有する不活性ガスと接触させる方法が挙
げられる。この再生方法において、酸素濃度は好ましく
は２％以下であり、不活性ガスとしては窒素、アルゴ
ン、ヘリウム、一酸化炭素、水蒸気等が使用される。必
要に応じ、続いて熱処理を行うこともある。しかし、上
記再生法に限定されるものではない。
【００１７】ついで、再生処理をした触媒は繰り返し使
用するに際し、反応開始前に次のように還元活性化処理
を行う。この還元活性化処理において、還元剤として水
素、一酸化炭素、メタノール、アンモニア、ヒドラジン
等が用いられる。通常、インドール類を製造する際には
水素含有ガスをキャリヤとして使用する場合が多いの
で、水素を還元剤として使用するのが便利である。還元
活性化温度は１００〜５００℃、好ましくは２００〜４
５０℃、さらに好ましくは３００〜４００℃である。処
理圧力は加圧、減圧、常圧下のいずれでも良い。還元処
理時間は、いくら長くても良いが、２時間以上で触媒性
能は一定となる。通常、加圧ないし常圧においては、少
なくとも１分以上、好ましくは３０分以上である。上記
還元剤は単独で使用しても、また不活性ガスで希釈して
用いてもよい。
用するに際し、反応開始前に次のように還元活性化処理
を行う。この還元活性化処理において、還元剤として水
素、一酸化炭素、メタノール、アンモニア、ヒドラジン
等が用いられる。通常、インドール類を製造する際には
水素含有ガスをキャリヤとして使用する場合が多いの
で、水素を還元剤として使用するのが便利である。還元
活性化温度は１００〜５００℃、好ましくは２００〜４
５０℃、さらに好ましくは３００〜４００℃である。処
理圧力は加圧、減圧、常圧下のいずれでも良い。還元処
理時間は、いくら長くても良いが、２時間以上で触媒性
能は一定となる。通常、加圧ないし常圧においては、少
なくとも１分以上、好ましくは３０分以上である。上記
還元剤は単独で使用しても、また不活性ガスで希釈して
用いてもよい。
【００１８】
【実施例】以下、実施例および比較例により本発明を詳
しく説明する。 実施例１ 内径２０ｍｍのステンレス製反応管に市販の打状成形し
た直径３ｍｍ、高さ２．５ｍｍのＳｉＯ2に銀を４％担
持したペレット状触媒４００ｃｃを充填した。反応管を
３７５℃に保ち、あらかじめ気化させたアニリン、エチ
レングリコール、及び水のモル比で１０：１：３０の原
料を２００ｇ／ｈｒで、また同時に水素ガスを６０ｌ／
ｈｒで反応管に供給し、反応圧力６．９×１０５ Ｐａ
でインドール合成反応を行い、反応開始後２４時間、１
５０時間、３００時間目にアニリンとエチレングリコー
ルの供給だけを２時間停止する方法で、温度３７５℃に
保ったまま水蒸気洗浄を行った。反応時間の経過ととも
に触媒が劣化しエチレングリコールの転化率が８０％ま
で低下したところで反応を停止した。触媒の再生条件を
酸素含有ガスの入口温度を３００℃、酸素濃度を１．０
ｖｏｌ％，空筒線速度１５Ｎｃｍ／ｓｅｃ，常圧下で再
生を行った。再生時には触媒に付着した有機物の燃焼に
より触媒充填層の温度上昇が観測される。この有機物の
燃焼による温度上昇が無くなったところで再生を終了し
た。さらに再生後４５０℃、空気雰囲気下１５時間、触
媒を熱処理した。その後、窒素雰囲気下で３２０℃とし
水素を２ｌ／ｍｉｎで１時間送り還元処理し、再生前と
同じ条件で再び反応を行った。反応を３回繰り返したと
きのインドール平均収率、反応を始めてからエチレング
リコールの転化率が１００％から８０％にまで低下して
反応を停止するまでの反応時間（水蒸気洗浄時間は含ま
ない）を第１表（表１）に示した。なお、エチレングリ
コール類の転化率及びインドール平均収率は以下の定義
に従う。
しく説明する。 実施例１ 内径２０ｍｍのステンレス製反応管に市販の打状成形し
た直径３ｍｍ、高さ２．５ｍｍのＳｉＯ2に銀を４％担
持したペレット状触媒４００ｃｃを充填した。反応管を
３７５℃に保ち、あらかじめ気化させたアニリン、エチ
レングリコール、及び水のモル比で１０：１：３０の原
料を２００ｇ／ｈｒで、また同時に水素ガスを６０ｌ／
ｈｒで反応管に供給し、反応圧力６．９×１０５ Ｐａ
でインドール合成反応を行い、反応開始後２４時間、１
５０時間、３００時間目にアニリンとエチレングリコー
ルの供給だけを２時間停止する方法で、温度３７５℃に
保ったまま水蒸気洗浄を行った。反応時間の経過ととも
に触媒が劣化しエチレングリコールの転化率が８０％ま
で低下したところで反応を停止した。触媒の再生条件を
酸素含有ガスの入口温度を３００℃、酸素濃度を１．０
ｖｏｌ％，空筒線速度１５Ｎｃｍ／ｓｅｃ，常圧下で再
生を行った。再生時には触媒に付着した有機物の燃焼に
より触媒充填層の温度上昇が観測される。この有機物の
燃焼による温度上昇が無くなったところで再生を終了し
た。さらに再生後４５０℃、空気雰囲気下１５時間、触
媒を熱処理した。その後、窒素雰囲気下で３２０℃とし
水素を２ｌ／ｍｉｎで１時間送り還元処理し、再生前と
同じ条件で再び反応を行った。反応を３回繰り返したと
きのインドール平均収率、反応を始めてからエチレング
リコールの転化率が１００％から８０％にまで低下して
反応を停止するまでの反応時間（水蒸気洗浄時間は含ま
ない）を第１表（表１）に示した。なお、エチレングリ
コール類の転化率及びインドール平均収率は以下の定義
に従う。
【００１９】
【数１】
【００２０】
【数２】
【００２１】実施例２ 反応開始後１５０時間目にアニリンとエチレングリコー
ルの供給だけを２時間停止する方法で水蒸気洗浄を行う
以外は実施例１と同様に反応を繰り返した。インドール
平均収率、反応時間を第１表（表１）に示した。
ルの供給だけを２時間停止する方法で水蒸気洗浄を行う
以外は実施例１と同様に反応を繰り返した。インドール
平均収率、反応時間を第１表（表１）に示した。
【００２２】
【表１】
【００２３】比較例１ 水蒸気洗浄を行わない他は実施例１と同様に反応を繰り
返した。インドール平均収率、反応時間を第２表（表
２）に示した。
返した。インドール平均収率、反応時間を第２表（表
２）に示した。
【００２４】比較例２ 水蒸気洗浄を反応開始前に３７５℃で２時間行い、反応
途中では水蒸気洗浄を行わない他は実施例１と同様に反
応を繰り返した。なお、水蒸気洗浄時の条件は実施例１
と同じにした。インドール平均収率、反応時間を第２表
（表２）に示した。
途中では水蒸気洗浄を行わない他は実施例１と同様に反
応を繰り返した。なお、水蒸気洗浄時の条件は実施例１
と同じにした。インドール平均収率、反応時間を第２表
（表２）に示した。
【００２５】比較例３ 水蒸気洗浄を反応停止後、触媒再生前に３７５℃で２時
間行い、反応途中では水蒸気洗浄を行わない他は実施例
１と同様に反応を繰り返した。なお、水蒸気洗浄時の条
件は実施例１と同じにした。インドール平均収率、反応
時間を第２表（表２）に示した。
間行い、反応途中では水蒸気洗浄を行わない他は実施例
１と同様に反応を繰り返した。なお、水蒸気洗浄時の条
件は実施例１と同じにした。インドール平均収率、反応
時間を第２表（表２）に示した。
【００２６】
【表２】
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、従来技術では達成され
なかった反応による触媒活性低下を抑制でき、また一度
以上反応に使用した触媒を再生し繰り返し反応に使用す
る時の、再生時の触媒劣化を抑制できる。このためイン
ドール類の製造において、長時間の連続反応と触媒の長
期使用が可能となり、本発明の意義は大きい。
なかった反応による触媒活性低下を抑制でき、また一度
以上反応に使用した触媒を再生し繰り返し反応に使用す
る時の、再生時の触媒劣化を抑制できる。このためイン
ドール類の製造において、長時間の連続反応と触媒の長
期使用が可能となり、本発明の意義は大きい。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−115066（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−115065（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C07D 209/08 ＣＡ（ＳＴＮ) ＲＥＧＩＳＴＲＹ（ＳＴＮ)
Claims (1)
- 【請求項１】 アニリン類とエチレングリコール類を原
料とし、元素の周期律表第１ｂ族金属含有触媒の存在
下、気相接触反応させインドール類を製造する方法にお
いて、反応途中に触媒の水蒸気洗浄処理を行った上で、
触媒再生処理、再生された触媒を還元活性処理すること
を特徴とするインドール類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17978292A JP3229655B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | インドール類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| JP17978292A JP3229655B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | インドール類の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0625161A JPH0625161A (ja) | 1994-02-01 |
| JP3229655B2 true JP3229655B2 (ja) | 2001-11-19 |
Family
ID=16071801
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP17978292A Expired - Fee Related JP3229655B2 (ja) | 1992-07-07 | 1992-07-07 | インドール類の製造方法 |
Country Status (1)
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|---|---|
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-
1992
- 1992-07-07 JP JP17978292A patent/JP3229655B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0625161A (ja) | 1994-02-01 |
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