JPH0344604A - １．５５μｍ分散シフトファイバ - Google Patents
１．５５μｍ分散シフトファイバInfo
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- JPH0344604A JPH0344604A JP1179044A JP17904489A JPH0344604A JP H0344604 A JPH0344604 A JP H0344604A JP 1179044 A JP1179044 A JP 1179044A JP 17904489 A JP17904489 A JP 17904489A JP H0344604 A JPH0344604 A JP H0344604A
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- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
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- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
この発明は、長距離通信用１．５５ μｍ帯零分散シ
フトファイバに関するもので、低損失化およびファイバ
諸特性の制御性の向上を図ったものである。
フトファイバに関するもので、低損失化およびファイバ
諸特性の制御性の向上を図ったものである。
（従来の技術）
現在、長距離大容量通信用媒体として１．５５ μｍ
帯で低分散を示す光ファイバの導入が始まっている。こ
の種のファイバの屈折率分布についてはれる。これらは
いずれも階段型の屈折率分布を有するものであり、５ｉ
ｎ２を主成分とする材料で構成されているが、屈折率分
布調整のための微量のドーパントの添加法を用い、かつ
材料組成を異ならしめるようにしている。この構造を具
体的に説明すると、第４図に示す構造は、中心部の第１
のコアとその回りの階段部の第２のコアとがＧｅＯ，−
５ｉＯａ 、第２のコアの回りのクラッド部がＳｉＯ
□からなるものである。また第５図に示す構造は、中心
部の第・ｌのコアがＧｅ０ｇ−５ｉＯ□、その回りの階
段部の第２のコアが５１０ｇ、第２のコアの回りのクラ
ッド部がＦドープＳｉＯ□からなるものである。これら
の屈折率分布は、いずれも単なるステップ型もしくはグ
レーデッド型の６のと比べると、曲げ特性、接続損失特
性、分散制御性に優れた構造になっている。
帯で低分散を示す光ファイバの導入が始まっている。こ
の種のファイバの屈折率分布についてはれる。これらは
いずれも階段型の屈折率分布を有するものであり、５ｉ
ｎ２を主成分とする材料で構成されているが、屈折率分
布調整のための微量のドーパントの添加法を用い、かつ
材料組成を異ならしめるようにしている。この構造を具
体的に説明すると、第４図に示す構造は、中心部の第１
のコアとその回りの階段部の第２のコアとがＧｅＯ，−
５ｉＯａ 、第２のコアの回りのクラッド部がＳｉＯ
□からなるものである。また第５図に示す構造は、中心
部の第・ｌのコアがＧｅ０ｇ−５ｉＯ□、その回りの階
段部の第２のコアが５１０ｇ、第２のコアの回りのクラ
ッド部がＦドープＳｉＯ□からなるものである。これら
の屈折率分布は、いずれも単なるステップ型もしくはグ
レーデッド型の６のと比べると、曲げ特性、接続損失特
性、分散制御性に優れた構造になっている。
（発明が解決しようとする課題）
これら第４．＃ＩＰ５図の屈折率分布を持つ両ファイバ
を比較してみると、後者の方が材料特性上、理論損失を
低くなしつると考えられている。しかしながら、後者の
構造は前者のそれに比較して製造プロセスがやや複雑で
あること、線引き条件の各パラメータ（モードフィール
ド径、分散特性、カットオ）波長など）に与えるえる影
響が大きいことなど製造上解決すべき問題が残されてい
るのが現状である。一方、前者の構造は理論損失におい
て後者に劣るが、製造プロセスが単純であり生産性でも
有利な面がある。また、製造条件により発生する構造不
整損失を極力小さくすることにより、長距離伝送には実
用上十分な損失を得ることが可能である。しかしながら
実際に製造されたファイバの損失特性には構造不整に似
た波長依存性の小さい損失が見られる。
を比較してみると、後者の方が材料特性上、理論損失を
低くなしつると考えられている。しかしながら、後者の
構造は前者のそれに比較して製造プロセスがやや複雑で
あること、線引き条件の各パラメータ（モードフィール
ド径、分散特性、カットオ）波長など）に与えるえる影
響が大きいことなど製造上解決すべき問題が残されてい
るのが現状である。一方、前者の構造は理論損失におい
て後者に劣るが、製造プロセスが単純であり生産性でも
有利な面がある。また、製造条件により発生する構造不
整損失を極力小さくすることにより、長距離伝送には実
用上十分な損失を得ることが可能である。しかしながら
実際に製造されたファイバの損失特性には構造不整に似
た波長依存性の小さい損失が見られる。
この発明者等がその原因を検討したところ、この波長依
存性のない損失は、線引き時に発生するものであること
が判明した。実験によると、綿引き可能な範囲において
張力を変えていくと損失が変化していく、そして、その
損失原因としてレーリー散乱による損失よりも波長依存
性の小さい損失の影響が大きいことがわかった。この損
失増はコアとクラッドの境界で発生する残留応力の集中
によるものが原因と考えられる。
存性のない損失は、線引き時に発生するものであること
が判明した。実験によると、綿引き可能な範囲において
張力を変えていくと損失が変化していく、そして、その
損失原因としてレーリー散乱による損失よりも波長依存
性の小さい損失の影響が大きいことがわかった。この損
失増はコアとクラッドの境界で発生する残留応力の集中
によるものが原因と考えられる。
（課題が解決するための手段）
この発明は、以上の観点から波長依存性の小さい損失を
極力抑えたファイバ構造を提供するもので、その特徴と
するところは中心に位置する高屈折率の第１の部分と、
その回りに位置し第１の部分よりも低屈折率の第２の部
分とを有するコアと、このコアの回りに位置しコアより
も低屈折率のクラッドとからなる１、５５ μｍ分散
シフトファイバにおいて前記コアを構成する第２の部分
とクラッドとの間に、該クラッドよりも低屈折率で軟化
温度の低い中間部を設けたことにある。
極力抑えたファイバ構造を提供するもので、その特徴と
するところは中心に位置する高屈折率の第１の部分と、
その回りに位置し第１の部分よりも低屈折率の第２の部
分とを有するコアと、このコアの回りに位置しコアより
も低屈折率のクラッドとからなる１、５５ μｍ分散
シフトファイバにおいて前記コアを構成する第２の部分
とクラッドとの間に、該クラッドよりも低屈折率で軟化
温度の低い中間部を設けたことにある。
なお、この中間部としては溝型もしくはデイプレスト型
が考えられるが、屈折率をクラッドのそれよりも低くす
るのは第２のコアとクラッドとの間に発生する残留応力
を緩和させる構造にするためである。また溝型の場合、
その幅は３〜５ｕＩ１１程度、深さ（屈折率）はクラッ
ドのそれよりも０．０２〜０．０５％程度低くされる。
が考えられるが、屈折率をクラッドのそれよりも低くす
るのは第２のコアとクラッドとの間に発生する残留応力
を緩和させる構造にするためである。また溝型の場合、
その幅は３〜５ｕＩ１１程度、深さ（屈折率）はクラッ
ドのそれよりも０．０２〜０．０５％程度低くされる。
デイプレスト型の場合、その幅はｌＯ〜３０μ曙程度、
深さ（屈折率）はクラッドのそれよりも０．０２〜０，
０５％程度低くされる。この中間部の材料としてはクラ
ッドがＳｉＯ□の場合、ＦドープＳｉＯ□とすることで
クラッドよりも軟化温度の低いものとすることができ、
その程度はクラッドの５ＬＯｚよりもｌＯ〜２０℃程度
低ければ十分である。
深さ（屈折率）はクラッドのそれよりも０．０２〜０，
０５％程度低くされる。この中間部の材料としてはクラ
ッドがＳｉＯ□の場合、ＦドープＳｉＯ□とすることで
クラッドよりも軟化温度の低いものとすることができ、
その程度はクラッドの５ＬＯｚよりもｌＯ〜２０℃程度
低ければ十分である。
（作用）
線引き時には軟化温度の高いクラッド部に引張り応力が
集中することから、中間部をクラッドよりも屈折率が低
く、軟化温度も低いガラス層とすることで、綿引き時に
は軟化温度の低い部分はクラッドよりもゆっくり固まる
ため引張り応力を抑えることができる。
集中することから、中間部をクラッドよりも屈折率が低
く、軟化温度も低いガラス層とすることで、綿引き時に
は軟化温度の低い部分はクラッドよりもゆっくり固まる
ため引張り応力を抑えることができる。
（実施例）
第１図および第２図はこの発明によるｔ、ｓｓ μｍ
分散シフトファイバの屈折率分布を示したちのである０
図において、中心はＧｅ０ｉ−３ｊＯａからなる第１の
コアで、その回りにＧｅＯ□−３ｉＯ□であってＧｅＯ
ａのドープ量が第１のコアより６少量で低屈折率になさ
れた第２のコアが設けられており、最外部には５ｉｎ２
からなるクラッドが設けられている。
分散シフトファイバの屈折率分布を示したちのである０
図において、中心はＧｅ０ｉ−３ｊＯａからなる第１の
コアで、その回りにＧｅＯ□−３ｉＯ□であってＧｅＯ
ａのドープ量が第１のコアより６少量で低屈折率になさ
れた第２のコアが設けられており、最外部には５ｉｎ２
からなるクラッドが設けられている。
そして第１図の場合、第２のコアとクラッドとの間にＳ
ｉＯ□−Ｆからなるクラッドよりも低屈折率の溝型の中
間部が形成されており、第２図の場合、第２のコアとク
ラッドとの間にＳｉＯ，Ｊからなるクラッドよりも低屈
折率のデイプレスト型の中間部が形成されている。前記
溝型中間部はその幅は３〜５〜μ腸程度、その深さ（屈
折率）は５ｉｆ２のそれに比べて０．１０％ぽ下が適当
である。またデイプレスト型中間部はその幅は１０〜３
０μｍ程度、その深さ（屈折率）はＳｉｎｇのそれに比
べて０．０５％以下が適当である。
ｉＯ□−Ｆからなるクラッドよりも低屈折率の溝型の中
間部が形成されており、第２図の場合、第２のコアとク
ラッドとの間にＳｉＯ，Ｊからなるクラッドよりも低屈
折率のデイプレスト型の中間部が形成されている。前記
溝型中間部はその幅は３〜５〜μ腸程度、その深さ（屈
折率）は５ｉｆ２のそれに比べて０．１０％ぽ下が適当
である。またデイプレスト型中間部はその幅は１０〜３
０μｍ程度、その深さ（屈折率）はＳｉｎｇのそれに比
べて０．０５％以下が適当である。
第３図はＶＡＤ法を用いて第１図に示すこの発明のファ
イバ構造を得る様子を示したもので、ｌはターゲット５
の下端に斜め下方向から対峙させた第１のコア用バーナ
、２はターゲット５の側端に横方向から対峙させた第２
のコア用バーナ、３はターゲット５の側端に横方向から
対峙させた溝部形成用バーナ、４はクラッド形成用バー
ナである。そして第１のバーナｌ内にはＧｅＣｌ４およ
び５ｉＣ１４が供給される。第２のバーナ２内にも第１
のバーナ同様ＧｅＣｌ４および５ｉＣ１４が供給される
。
イバ構造を得る様子を示したもので、ｌはターゲット５
の下端に斜め下方向から対峙させた第１のコア用バーナ
、２はターゲット５の側端に横方向から対峙させた第２
のコア用バーナ、３はターゲット５の側端に横方向から
対峙させた溝部形成用バーナ、４はクラッド形成用バー
ナである。そして第１のバーナｌ内にはＧｅＣｌ４およ
び５ｉＣ１４が供給される。第２のバーナ２内にも第１
のバーナ同様ＧｅＣｌ４および５ｉＣ１４が供給される
。
バーナ３内には５ｉＣ１＋とフッ素化合物（例えばＣＦ
４、ＳＦ、、ＳｉＦ４等）とが供給される。バーナ４内
にはＳ Ｉ Ｃ％ｈ’供給される。なお、溝型の中間部
形成のためにフッ素をドープする手段としてはバーナ３
に供給するだけでなく、バーナ４に供給しても可能であ
る。この場合、フッ素が所定の場所にドープされるよう
にするためにバーナ３のデイポジション温度を低めにす
るという手段をとる。また溝型の中間部の形成に変えて
デイプレスト型の中間部を形成するにはバーナ３および
バーナ４のデイポジション温度を調整すればよい、具体
的にはデイポジション温度を低くすれば溝部が形成され
デイポジション温度を等しくすればデイプレスト部が形
成される。こうして得られた多孔質ガラスプリフォーム
６を脱水、透明ガラス化処理し。
４、ＳＦ、、ＳｉＦ４等）とが供給される。バーナ４内
にはＳ Ｉ Ｃ％ｈ’供給される。なお、溝型の中間部
形成のためにフッ素をドープする手段としてはバーナ３
に供給するだけでなく、バーナ４に供給しても可能であ
る。この場合、フッ素が所定の場所にドープされるよう
にするためにバーナ３のデイポジション温度を低めにす
るという手段をとる。また溝型の中間部の形成に変えて
デイプレスト型の中間部を形成するにはバーナ３および
バーナ４のデイポジション温度を調整すればよい、具体
的にはデイポジション温度を低くすれば溝部が形成され
デイポジション温度を等しくすればデイプレスト部が形
成される。こうして得られた多孔質ガラスプリフォーム
６を脱水、透明ガラス化処理し。
得られたロッドを必要に応じて延伸し、その上に再度ク
ラッド層を付加して所定の径比にしてファイバ化する。
ラッド層を付加して所定の径比にしてファイバ化する。
ところで溝型の中間部またはデイプレスト型の中間部の
形成のためにフッ素をドープする手段としてＳｉＯ□か
らなる多孔質ガラス層を得これを透明ガラス化する際に
フッ素化合物をドープする方法を試みたが、この方法で
は屈折率が下がりすぎたり、伝送特性もさほど良くなく
、好ましい結果が得られなかった。
形成のためにフッ素をドープする手段としてＳｉＯ□か
らなる多孔質ガラス層を得これを透明ガラス化する際に
フッ素化合物をドープする方法を試みたが、この方法で
は屈折率が下がりすぎたり、伝送特性もさほど良くなく
、好ましい結果が得られなかった。
（実施例）
第３図に示すＶＡＤ法により、各バーナに供給する原料
ガス量を次表に設定して多孔質ガラスプリフォームを得
た。
ガス量を次表に設定して多孔質ガラスプリフォームを得
た。
かくして得られた多孔質プリフォームを７００１１Ｉ１
１加熱炉内に入れて塩素含有化合物とＨｅ雰囲気で１０
００℃下に４時間維持して脱水処理し、引続いてＨｅ雰
囲気で１６００℃下に３時間処理して透明ガラス化を図
った０次にこのプリフォームを延伸して直径２２１ＩＩ
＋になし、その上に再度外付は法で５ｚＯａ層を形成し
て透明ガラス化して直径５５ＩＩＩｍのロッドを得た。
１加熱炉内に入れて塩素含有化合物とＨｅ雰囲気で１０
００℃下に４時間維持して脱水処理し、引続いてＨｅ雰
囲気で１６００℃下に３時間処理して透明ガラス化を図
った０次にこのプリフォームを延伸して直径２２１ＩＩ
＋になし、その上に再度外付は法で５ｚＯａ層を形成し
て透明ガラス化して直径５５ＩＩＩｍのロッドを得た。
最後にこのロッド下端を２２００℃に加熱して線引張力
１３０ｇの下にファイバ化して直径１２５μｍのファイ
バとした。
１３０ｇの下にファイバ化して直径１２５μｍのファイ
バとした。
得られたファイバは平均損失が０．２０５ｄＢ ／ ｋ
ｍ 。
ｍ 。
標準偏差が０．００４であった。比較のために従来のフ
ァイバのそれを示すと平均損失が０．２２０ｄＢ／ｋｍ
、標準偏差がｏ、 ｏ ｉ ｏ であり、この発明に
よるファイバが損失で平均０．０１５ ｄＢ／ｋｍ
はど低くなっており、損失のばらつきも小さいものであ
った。
ァイバのそれを示すと平均損失が０．２２０ｄＢ／ｋｍ
、標準偏差がｏ、 ｏ ｉ ｏ であり、この発明に
よるファイバが損失で平均０．０１５ ｄＢ／ｋｍ
はど低くなっており、損失のばらつきも小さいものであ
った。
（発明の効果）
この発明は、以上のように第２のコアとクラッドとの間
に、クラッドより６低い屈折率で、軟化温度も低いガラ
ス層を設けたので、線引時に残留するコアとクラッドと
の境界に生じる応力を緩和し、ちって波長依存性のない
損失増加を抑制しつるという効果を奏する。
に、クラッドより６低い屈折率で、軟化温度も低いガラ
ス層を設けたので、線引時に残留するコアとクラッドと
の境界に生じる応力を緩和し、ちって波長依存性のない
損失増加を抑制しつるという効果を奏する。
第１．２図はこの発明による１、５５μｍ分散シフトフ
ァイバの屈折率分布図、第３図はこの発明方法の一製造
工程を示す概略図、第４．５図は従来の１．５５μｍ分
散シフトファイバの屈折率分布図。
ァイバの屈折率分布図、第３図はこの発明方法の一製造
工程を示す概略図、第４．５図は従来の１．５５μｍ分
散シフトファイバの屈折率分布図。
Claims (1)
- （１）中心に位置する高屈折率の第１の部分と、その回
りに位置する、それよりも低屈折率の第２の部分とを有
するコアと、このコアの回りに位置する、コアよりも低
屈折率のクラッドとを具備する１．５５μｍ分散シフト
ファイバにおいて、前記コアを構成する第２の部分とク
ラッドとの間にクラッドよりも低屈折率で軟化温度の低
い中間部を設けたことを特徴とする１．５５μｍ分散シ
フトファイバ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179044A JPH0344604A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | １．５５μｍ分散シフトファイバ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1179044A JPH0344604A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | １．５５μｍ分散シフトファイバ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0344604A true JPH0344604A (ja) | 1991-02-26 |
Family
ID=16059142
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1179044A Pending JPH0344604A (ja) | 1989-07-13 | 1989-07-13 | １．５５μｍ分散シフトファイバ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0344604A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999022258A1 (fr) * | 1997-10-29 | 1999-05-06 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Fibre optique a dephasage dispersif |
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| EP0851247A3 (en) * | 1996-12-27 | 2000-06-14 | Sumitomo Electric Industries, Ltd | Dispersion-shifted optical fibre and method of manufacturing the same |
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| JP2007299596A (ja) * | 2006-04-28 | 2007-11-15 | Denso Corp | 補強タブ、補強タブの製造方法、及びコネクタの実装構造 |
Citations (1)
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-
1989
- 1989-07-13 JP JP1179044A patent/JPH0344604A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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