JPH0341081B2 - - Google Patents

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JPH0341081B2
JPH0341081B2 JP60122528A JP12252885A JPH0341081B2 JP H0341081 B2 JPH0341081 B2 JP H0341081B2 JP 60122528 A JP60122528 A JP 60122528A JP 12252885 A JP12252885 A JP 12252885A JP H0341081 B2 JPH0341081 B2 JP H0341081B2
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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Polymerization Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 この発明は、高純度の液状重合体であるカルボ
キシル末端重合体の製造法に関するものである。 〔従来の技術〕 カルボキシル末端重合体は、エポキシ樹脂など
の耐衝撃性改質剤として近年注目されており、そ
の使用量も大巾に増加している。特に、1,3−
ブタジエンとアクリロニトリルとを共重合して得
られるカルボキシル末端1,3−ブタジエン−ア
クリロニトリル共重合体はエポキシ樹脂との相溶
性がよいため、高い性能が要求される分野の用途
に多量使用されている。 特にエレクトロニクスの半導体産業分野では、
LSIの集積度が上がり、チツプサイズの大型化と
配線の微細化が進むことによつて半導体封止に使
用されるエポキシ樹脂とシリコン素子の熱膨張係
数の差より生ずる応力による損傷が問題となつて
おり、この低応力化剤としてカルボキシル末端重
合体が極めて有効であることがわかつている。
又、半導体封止樹脂の大切な要求性能としての
Na,Clなどのイオン性不純物の低減も増々、重
要になつてきている。従つて、エポキシ樹脂の高
純度化は必須であり、添加剤としてのカルボキシ
ル末端重合体の高純度化の要求も大きいものがあ
る。 ポリマー中のNa,Clの含量は5ppm以下、
10ppm以下が望まれている。 〔発明が解決しようとする問題点〕 両末端にカルボキシル基をもつたブタジエンあ
るいはブタジエン−アクリロニトリル(共)重合
体は、通常4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草
酸)(以下、ADVAと略することもある。)の様
なジアゾシアノ酸をラジカル開始剤として用いて
製造される。このADVAの合成の際にADVA1モ
ルあたり2モル以上の塩化ナトリウムが副生す
る。この塩化ナトリウムの除去を十分行なわずに
重合開始剤として用いると、重合体の中にNa,
Clなどのイオン性不純物が混入し、この重合体か
らの不純物の除去は容易ではない。従来からの文
献によるとADVAの合成収率は65%程度と低い。
これから副生のNaClを除くために精製を行うと、
更にロスが増加し、ADVA合成の原料のレブリ
ン酸などの原単位が著しく大きくなるなど工業的
に不利益をもたらす。又、逆に工業的な不利益を
低減するために、ADVA合成時あるいは合成後
に、重合に使用する溶媒を用いてADVAを溶解
し、副生NaClは沈殿あるいは水溶液として
ADVA溶液と分離しただけで、更に精製せずに
重合に供した場合、NaClがポリマー中に残り、
ポリマー中のNa含量として100ppm以上、水洗を
繰り返し行つても30ppm程度にしか減ずることが
できない。 〔問題点を解決するための手段〕 この発明者らは、前述の欠点を有さない、イオ
ン性不純物の極めて少い高純度カルボキシル末端
重合体の製造法を提供することを目的として鋭意
研究した結果、この発明を完成した。 本発明は、 水中で、シアン化合物とヒドラジン類とレブ
リン酸又はそのナトリウム塩とを反応させてヒ
ドラゾ化合物の濃厚水溶液とし、 (a) 次いで、このヒドラゾ化合物の濃厚水溶液
に塩素ガスを加える前及び/又は後にアセト
ンを加え、アセトンと水の割合を85:15〜
98:2として、反応混合物中の食塩を沈澱さ
せ、アセトン−水溶液を分離取得するか、又
は、 (b) このヒドラゾ化合物の濃厚水溶液に塩素を
ガスを加える前及び/又は後にアセトンを加
え、アセトンと水の割合を80:20〜33:67と
して、反応混合物を二液層に分離させ、上層
のアセトン−水溶液を分離取得し このアセトン−水溶液からアセトンを蒸発さ
せ水スラリー状とし、 この水スラリーの残部を水洗浄して高純度の
4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)を回収
し、 この4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)
を重合開始剤として、不活性溶媒中で1,3−
ブタジエン単独あるいは1,3−ブタジエンと
アクリロニトリルとを(共)重合する、 高純度カルボキシル末端重合体の製造法に関す
るものである。 この発明によればポリマー中のイオン性化合物
であるNa,Clがいずれも5ppm以下、10ppm以下
の高純度カルボキシル末端重合体を製造すること
ができ、半導体封止樹脂として用いられるエポキ
シ樹脂の可撓性付与剤としての要求性能を十分に
満たしている。 この発明の方法においては、少量の水中で塩酸
等の鉱酸または水酸化ナトリウム等のアルカリの
存在下または不存在下に、ケト酸またはケト酸の
ナトリウム塩(1モル当り)とシアン化合物(1
モル)とヒドラジン類(0.5モル)とを反応させ
るのが好ましく、次のいずれの方法でヒドラゾ化
合物の濃厚水溶液を得てもよい。 すなわち、(a)シアン化ナトリウムやシアン化水
素などシアン化合物とヒドラジン類との混合物と
レブリン酸または、そのナトリウム塩を反応させ
てヒドラゾ化合物を生成させる際に、レブリン酸
または、そのナトリウム塩100重量部に対して25
〜200重量部の水の存在下に行う方法および(b)シ
アン化ナトリウムやシアン化水素などのシアン化
合物とレブリン酸または、そのナトリウム塩とを
好ましくは20℃以下の温度で接触させ、その後ヒ
ドラジン類を接触させてヒドラゾ化合物を生成さ
せる際にレブリン酸または、そのナトリウム塩
100重量部に対し25〜200重量部の水の存在下に行
う方法、および(c)レブリン酸またはそのナトリウ
ム塩とヒドラジン類との反応をレブリン酸100重
量部に対し50〜500重量部の水の中で反応させて
ケタジンを生成させた後、シアン化水素やシアン
化ナトリウムなどのシアン化合物を反応させヒド
ラゾ化合物の濃厚水溶液を得る方法のいずれでも
よい。 また、この発明の方法において、比較的多量の
水中で前記各成分を反応させた後、この水溶液か
ら水を蒸発除去して反応生成物の濃厚水溶液を得
ても良い。 また、前記のヒドラジン類としてはヒドラジン
水化物、ヒドラジン硫酸塩などが挙げられる。 この発明の方法においては、前記の方法によつ
て反応生成物である下記の式で示されるヒドラゾ
化合物の濃厚水溶液を得ることができる。 この発明の方法においては、1つの方法とし
て、前記濃厚水溶液にアセトンおよび/または
水、好適には前記の濃厚水溶液100容量部に対し
て100容量部以上の量、好ましくはアセトンと水
との割合が容量比で85:15〜98:2、特に好まし
くは90:10〜95:5となる量のアセトンを加え
て、ヒドラゾ化合物の水溶液、好適にはアセトン
−水溶液とする。 アセトンと水との割合が98:2より大きくなる
とACVAの溶解度が著しく低下して大量のアセ
トン−水混合溶剤が必要になり、85:15より小さ
くなると副生物の塩化ナトリウムの溶解度が高く
なつて、ACVAを含むアセトン−水溶液に含ま
れる塩化ナトリウムの含量が高くなつてしまう。 この発明の方法において、濃厚水溶液へのアセ
トン、水の追加は次の方法で行なつても良い。す
なわち濃厚水溶液にアセトン、またはアセトン−
水混合溶剤を加えてアセトンと水の割合を容量比
で80:20〜33:67、好ましくは75:25〜50:50に
調節したヒドラゾ化合物のアセトン−水溶液とす
る。 アセトンと水の割合が前記範囲外であると酸化
後の混合物が二液層に分離しない。あるいは、こ
の発明において濃厚水溶液に1〜2倍の水を加え
てもよい。 この発明の方法においては、前記いづれかの溶
液に、好ましくは使用したレブリン酸またはその
ナトリウム塩1モルに対して0.4モル以上、特に
0.45〜0.65モル、特に0.5〜0.6モルの塩素ガスを
加えてヒドラゾ化合物を酸化してACVAを生成
させる。前記の酸化反応は30℃以下の温度、特に
10℃以下の温度で行なうのが好ましい。塩素ガス
を加える方法はそれ自体公知の方法が採用され
る。 副生物として生成した塩化ナトリウムを結晶と
して折出させる場合には前記のようにして得られ
たACVAを含む反応混合物に必要であればアセ
トンを加えて混合物中のアセトンと水との割合を
容量比で85:15〜98:2、好ましくは90:10〜
95:5に調節して、好ましくは混合物の温度を15
〜60℃にして、混合物から上澄液であるACVA
を含むアセトン−水溶液を分離取得する。 酸化後の混合物を二液層に分離させ、塩化ナト
リウムを水溶液として除去する場合には、前記の
ようにして得られたACVAを含む反応混合物に、
必要であれば水を加えて混合物中のアセトンと水
との割合を容量比で好ましくは80:20〜33:67、
特に好ましくは75:25〜50:50に調節し、更に必
要であれば塩化ナトリウムを加えて、反応混合物
を少なくとも上層は透明な二液層にして、好まし
くは混合物の温度を15〜50℃にして、混合物の上
層のACVAを含むアセトン−水溶液を分離取得
する。 この発明の方法においては、アセトン−水溶液
の場合には前記のACVAを含むアセトン−水溶
液からアセトンを蒸発させ、水スラリー状にす
る。 アセトンの蒸発はそれ自体公知の方法が使用さ
れる。 この発明の方法においては、前記の水スラリー
残部100重量部に加える水の量は100〜1500重量部
が好ましい。これより少ないと、水洗による
NaClの除去効果が少い。又、多すぎるとADVA
のロスが多くなる。好ましくは300〜1000重量部
の水を分割して加え、洗浄−ろかを繰り返すのが
よい。加える水の温度は、ADVAの水に対する
溶解度が低温ほど小さいため、30℃以下、好まし
くは10℃以下、更に好ましくは3゜〜5℃である。 この発明においては、水洗後のADVAの回収
は通常、過で行われる。この精製ADVAは更
に通常の方法で、乾燥させたのち、アセトン−水
溶媒に再びとかして重合開始剤溶液としてもよい
し、乾燥工程をいれずにろかしたままのウエツト
なものにアセトン、水を加えて溶解し開始剤溶液
としてもよい。 この段階でのNaClはADVAあたり500ppm以
下である。開始剤溶液のADVAの濃度は10〜20
重量%が好ましい。アセトンと水の容量比は95/
5〜75/25が好ましい。 この発明の方法においては、前記の精製
ADVAのアセトン水溶液を開始剤溶液として重
合槽へ供給し、ブタジエンあるいはブタジエン−
アクリロニトリルを(共)重合する。 前記の重合において、重合温度は70〜130℃が
好ましく、重合時間は1〜20時間が好ましい。ま
た、ジアゾシアノ酸の量は、モノマー成分(1,
3−ブタジエンまたは1,3−ブタジエンとアク
リロニトリルとの合計)100重量部に対して5〜
20重量部が好ましい。ジアゾシアノ酸を含むアセ
トン−水溶液の添加方法には特に制限はなく、一
度に添加してもよく分割して添加してもよい。前
記の重合条件を適宜選択して、アクリロニトリル
含量が45重量%以下、特に5〜35重量%、数平均
分子量が1000〜5000、官能基数(/mol)が1.8
〜2.5のカルボキシル末端液状ポリマーを生成さ
せるのが好ましい。 この発明の方法においては、前記の方法によつ
て得られた重合反応混合物から場合により未反応
の1,3−ブタジエンを除去し、水を加えて液状
ポリマーを分散せしめた後、液状ポリマーを分離
取得し、好ましくは前記液状ポリマーを蒸発器中
において恒量になるまで乾燥して、カルボキシル
末端重合体を得る。 前記の方法において、加える水の量はカルボキ
シル末端液状ポリマー100重量部に対して0〜400
重量部が好ましい。 水を加えて好ましくは混合し、液状ポリマーを
分散せしめた後、好ましくは2分間〜10時間静止
すると液状ポリマーとアセトン−水溶液の2相に
分離するので、液状ポリマーを分離取得する。好
ましくは、遠心分離によつて液状ポリマー中に少
量含有される水分を除去してもよい。 前記のようにして分離された液状ポリマーは、
必要であればそれ自体公知の方法によつて酸化防
止剤を含有せしめた後、蒸発器中において恒量に
なるまで乾燥する。 前記の蒸発器としては、横形遠心薄膜蒸発器、
たて形遠心薄膜蒸発器、VL形遠心薄膜蒸発器な
どの遠心薄膜蒸発器を使用することができる。 この発明の方法によれば、アクリロニトリル含
量が45重量%以下、特に5〜35重量%、数平均分
子量が1000〜5000、官能基数(/mol)が1.8〜
2.5、Na含量が5ppm以下Cl含量10ppm以下であ
るカルボキシル末端液状ポリマーを製造すること
ができる。 〔実施例〕 実施例 1 撹拌機、ガス導入管、ガスベント、滴下管の付
いた10四つ口フラスコ中にNaCN299.8g
(6.117mol)、H2O174ml、NH2NH2・H2O144.5
g(2.885mol)を取り25℃で撹拌した。NaCN
は半分以上、不溶の粒のまま残存した。ここへ、
レブリン酸670.1Kg(5.772mol)にconc HCl57.7
gを加えた液を反応温度を20〜22℃に保ちながら
滴下した。系は、ごくわずかに黄色がかつた白色
のやや粘性のスラリー状を呈し、NaCNの不溶の
粒は滴下中に消失した。ここへconc HCl57.7g
を加え、加温して35℃にし、この温度で1時間、
撹拌を続け、次いで氷水により冷却して5℃で2
時間、静置した。系は白色の粘性スラリー状であ
つた。ここへ3℃に冷却した水520mlを加えて撹
拌を再び開始し、4℃に冷却したアセトン6707ml
を加えた後、反応温度が10℃を越えない様に冷却
しながら、Cl2ガス245g(3.46mol)を吹き込ん
だ。反応後20℃に戻し撹拌を止めると微黄色透明
部と白色沈殿部にクリヤーに分離した。液部は塩
酸酸性を示すのでNaHCO3を加えてPH3.5にした
後、沈殿部をろ別し、微黄色透明液体を得た。こ
の液7825ml中にはACVAが745.3g(2.659mol)
含まれ、合成収率は92.16%であつた。この液の
Na含量は原子吸光分析により500ppmであつた。
この液から減圧下アセトンを40℃以下で留去する
と徐々にACVAが水中に析出した。アセトンを
完全留去後、ACVA析出溶液に4.5の蒸留水を
加え、1〜3℃で30分間撹拌して、G−4−ガラ
スフイルターで吸引ろ別し、1.2の蒸留水で2
回洗浄した。湿つたACVA1180gが得られた。
これを水0.35、アセトン7.1の混合溶剤に溶
解した。得られたACVAのアセトン−水溶液に
はACVAが708g含まれ、水洗精製によるACVA
のロスは5.0%であつた。またこの溶液のNa含量
は溶液あたり4.5ppmであつた。この液を開始剤
溶液として重合に用いた。 撹拌棒、温度計、開始剤およびモノマー圧入
管、蛇管、ベントの付いた35ステンレス製電磁
撹拌式オートクレーブにブタジエン5275g、アク
リロニトリル1136g、アセトン755gを取り、85
℃まで加熱した。85℃になつた時点で、
ACVA60gを含む光の開始剤溶液を圧入した。
30分毎に次の追添加のプログラムにより、
ACVA、アクリロニトリルを添加した。
【表】
【表】
【表】 重合時間は18時間で、重合温度は、追添加時2
分程度の2℃以内の温度低下を除いて、85℃±
0.2℃にコントロールした。 18時間重合後、蛇管に氷水を流し、オートクレ
ーブを氷水中につけ急冷して反応を停止した。ブ
ローダウンした重合液14200gに20000gの水を加
えて混合後静置すると、すみやかに相分離がおこ
つた。下層の水−アセトン層を除きポリマー層に
5000gのアセトンを加え、ポリマー層を溶解後
8500gの水を加えて混合後静置した。相分離後下
層を除きポリマー層を遠心薄膜蒸発器中において
恒量になるまで乾燥してカルボキシル末端液状ポ
リマーを6300g得た。モノマー転化率は82%であ
つた。アクリロニトリル含量は24.8モル%、酸価
は1850g/eqであつた。原子吸光によるNa含量
は0.7ppmであつた。また、三菱化成工業(株)の
MC1塩素分析装置(TSX10型)によるCl含量は
1.5ppmであつた。分子量分布指数Mw/Mnの比
は1.96であつた。 実施例 2 ACVAの合成におけるCl2の吹き込みまでは実
施例1と同様に行つた。その後、反応液に蒸留水
2.3を加え、20℃で撹拌した後、撹拌を止める
と、2液にクリヤーに分離した。分液ロートを用
い、上層部7.58を得た。この液にはACVA734
g、Naは5900ppm含まれていた。この一液から
減圧下アセトンを40℃以下で留去すると徐々に
ACVAが水中に析出した。アセトンを完全留去
後、ACVA析出溶液に4.5の蒸留水を加え、1
〜3℃で30分間撹拌冷却して、G−4ガラスフイ
ルターで吸引ろ別し、1.2の蒸留水(1〜3℃)
で2回洗浄した。湿つたACVAが1162g得られ
た。これを水0.35、アセトン7.1の混合溶媒
に溶解した。得られたACVAのアセトン−水溶
液にはADVAが697g含まれ、水洗精製によるロ
スは5.0%であつた。また、この溶液のNa含量は
48ppmであつた。この液を開始剤溶液として重合
に用いた。 撹拌棒、温度計、開始剤およびモノマー圧入
管、蛇管、ベントの付いた35ステンレス製電磁
撹拌式オートクレーブにブタジエン5275g、アク
リロニトリル1136g、アセトン755gを取り85℃
まで加熱した。85℃になつた時点でACVA60g
を含む先の開始剤溶液を圧入した。 30分毎に次の追添加のプログラムにより、
ACVA、アクリロニトリルを添加した。
【表】
【表】
〔発明の効果〕
前述のように、本発明によれば高純度のカルボ
キシル末端重合体を高収率で製造することができ
る。
【特許請求の範囲】
1 A) Si−O結合を有する有機ケイ素化合物
および細孔半径75〜20000Åにおける細孔容量
が0.65ml/g以上のシリカゲルの共存下、一般
式Ti(OR1oX4-o(R1は炭素数が1〜20の炭化
水素基、Xはハロゲン原子、nは0<n≦4の
数字を表わす。)で表わされるチタン化合物を
有機マグネシウム化合物で還元して得られる固
体生成物を、エステル化合物で処理した後、エ
ーテル化合物と四塩化チタンとの混合物で処理
して得られる三価のチタン化合物含有固体触媒
成分、 B) 有機アルミニウム化合物、 C) Si−OR2結合(R2は炭素数が1〜20の炭化
水素基である。)を有するケイ素化合物よりな
る触媒系を用いてα−オレフインを単独重合ま
たは共重合することを特徴とするα−オレフイ
ン重合体の製造法。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 水中で、シアン化合物とヒドラジン類と
    レブリン酸又はそのナトリウム塩とを反応させ
    てヒドラゾ化合物の濃厚水溶液とし、 次いで、このヒドラゾ化合物の濃厚水溶液に
    塩素ガスを加える段階において、塩素ガスを加
    える前及び/又は後にアセトンを加え、アセト
    ンと水の割合が85:15〜98:2として、反応混
    合物中の食塩を沈澱させ、 上記反応混合物からアセトン−水溶液を分離
    取得し、 このアセトン−水溶液からアセトンを蒸発さ
    せ水スラリー状とし、 この水スラリー残部を水洗浄して高純度の
    4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)を回収
    し、 この4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)
    を重合開始剤として、不活性溶媒中で1,3−
    ブタジエン単独あるいは1,3−ブタジエンと
    アクリロニトリルとを(共)重合する、 高純度カルボキシル末端重合体の製造方法。 2 上記アセトン水溶液からアセトンを蒸発さ
    せた水スラリー残部100重量部に対して水100〜
    1500重量部と接触させ、10℃以下の温度で水洗
    して高純度の4,4′−アゾビス(4−シアノ吉
    草酸)を分離取得し、 この4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)
    を重合開始剤として、不活性溶媒中で1,3−
    ブタジエン単独あるいは1,3−ブタジエンと
    アクリロニトリルとを(共)重合する、 特許請求の範囲第1項に記載の高純度カルボキシ
    ル末端重合体の製造法。 3 水中で、シアン化合物とヒドラジン類との混
    合物とレブリン酸またはそのナトリウム塩とを反
    応させてヒドラゾ化合物の濃厚水溶液とすること
    を特徴とする、特許請求の範囲第1項又は第2項
    に記載の高純度カルボキシル末端重合体の製造
    法。 4 水中でシアン化合物とレブリン酸またはその
    ナトリウム塩を反応させてシアンヒドリンを生成
    させた後、ヒドラジン類を反応させてヒドラゾ化
    合物の濃厚水溶液とすることを特徴とする特許請
    求の範囲第1項又は第2項に記載の高純度カルボ
    キシル末端重合体の製造法。 5 水中でレブリン酸またはそのナトリウム塩と
    ヒドラジン類とを反応させてケタジンを生成させ
    た後、シアン化合物を反応させてヒドラゾ化合物
    の濃厚水溶液とすることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項又は第2項に記載の高純度カルボキシ
    ル末端重合体の製造法。 6 水中で、シアン化合物とヒドラジン類と
    レブリン酸又はそのナトリウム塩とを反応させ
    てヒドラゾ化合物の濃厚水溶液とし、 次いで、このヒドラゾ化合物の濃厚水溶液に
    塩素ガスを加える段階において、塩素ガスを加
    える前及び/又は後にアセトンを加え、アセト
    ンと水の割合が80:20〜33:67とし、反応混合
    物を二液層に分離させ、 上記反応混合物の上層のアセトン−水溶液を
    分離取得し、 このアセトン−水溶液からアセトンを蒸発さ
    せ水スラリー状とし、 この水スラリー残部を水洗浄して高純度の
    4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)を回収
    し、 この4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)
    を重合開始剤として、不活性溶媒中で1,3−
    ブタジエン単独あるいは1,3−ブタジエンと
    アクリロニトリルとを(共)重合する、 高純度カルボキシル末端重合体の製造方法。 7 上記アセトン水溶液からアセトンを蒸発
    させた水スラリー残部100重量部に対して水100
    〜1500重量部と接触させ、10℃以下の温度で水
    洗して高純度の4,4′−アゾビス(4−シアノ
    吉草酸)を分離取得し、 この4,4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸)
    を重合開始剤として、不活性溶媒中で1,3−
    ブタジエン単独あるいは1,3−ブタジエンと
    アクリロニトリルとを(共)重合する、 特許請求の範囲第6項に記載の高純度カルボキシ
    ル末端重合体の製造法。 8 水中で、シアン化合物とヒドラジン類との混
    合物とレブリン酸またはそのナトリウム塩とを反
    応させてヒドラゾ化合物の濃厚水溶液とすること
    を特徴とする、特許請求の範囲第6項又は第7項
    に記載の高純度カルボキシル末端重合体の製造
    法。 9 水中でシアン化合物とレブリン酸またはその
    ナトリウム塩を反応させてシアンヒドリンを生成
    させた後、ヒドラジン類を反応させてヒドラゾ化
    合物の濃厚水溶液とすることを特徴とする特許請
    求の範囲第6項又は第7項に記載の高純度カルボ
    キシル末端重合体の製造法。 10 水中でレブリン酸またはそのナトリウム塩
    とホドラジン類とを反応させてケタジンを生成さ
    せた後、シアン化合物を反応させてヒドラゾ化合
    物の濃厚水溶液とすることを特徴とする特許請求
    の範囲第6項又は第7項に記載の高純度カルボキ
    シル末端重合体の製造法。
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