JPH0340356A - 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡 - Google Patents
位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡Info
- Publication number
- JPH0340356A JPH0340356A JP1174793A JP17479389A JPH0340356A JP H0340356 A JPH0340356 A JP H0340356A JP 1174793 A JP1174793 A JP 1174793A JP 17479389 A JP17479389 A JP 17479389A JP H0340356 A JPH0340356 A JP H0340356A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stm
- microscope
- probe
- image
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000000523 sample Substances 0.000 claims abstract description 71
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 20
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 claims description 11
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 5
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 4
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 7
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 1
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000003909 pattern recognition Methods 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q40/00—Calibration, e.g. of probes
- G01Q40/02—Calibration standards and methods of fabrication thereof
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q60/00—Particular types of SPM [Scanning Probe Microscopy] or microscopes; Essential components thereof
- G01Q60/10—STM [Scanning Tunnelling Microscopy] or apparatus therefor, e.g. STM probes
- G01Q60/16—Probes, their manufacture, or their related instrumentation, e.g. holders
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/84—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure
- Y10S977/849—Manufacture, treatment, or detection of nanostructure with scanning probe
- Y10S977/86—Scanning probe structure
- Y10S977/868—Scanning probe structure with optical means
- Y10S977/869—Optical microscope
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
- Radiology & Medical Imaging (AREA)
- Measurement Of Length, Angles, Or The Like Using Electric Or Magnetic Means (AREA)
- Microscoopes, Condenser (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、高倍率で測定領域の狭い測定機器で希望する
任意の場所に測定領域を位置決めするために他の測定8
1器と複合化した装置において、両者の測定位置のズレ
量を求め、補正するための手段を提供するものであり、
具体的には走査型トンネル顕微鏡(STM)と光学顕微
鏡(光顕)あるいは走査型電子顕微鏡(SEM)等との
複合装置に関するものである。
任意の場所に測定領域を位置決めするために他の測定8
1器と複合化した装置において、両者の測定位置のズレ
量を求め、補正するための手段を提供するものであり、
具体的には走査型トンネル顕微鏡(STM)と光学顕微
鏡(光顕)あるいは走査型電子顕微鏡(SEM)等との
複合装置に関するものである。
本発明は、他の測定手段で位置合わせした部分に正確に
STMの探針を導くa横を有する走査型トンネル顕微鏡
に関するものであり、光顕又はSEMで位置合わせ用標
準試料を観測し、その後、STMで同様の試料を観測し
、2つの画像より光軸とSTMの探針の位置関係を求め
る。この場合STMは最大でも走査領域が10〜12μ
であるため、この画郭内でその位置がP!識可能なよう
な特異性のある標準試料が必要になる。ここではこのよ
うな標準試料を内蔵し、両者(光軸とSTM探針の距M
)の位置関係を求め、その距離のみ補正し、両方の装置
で同一点の観測を可能にした装置に関する。
STMの探針を導くa横を有する走査型トンネル顕微鏡
に関するものであり、光顕又はSEMで位置合わせ用標
準試料を観測し、その後、STMで同様の試料を観測し
、2つの画像より光軸とSTMの探針の位置関係を求め
る。この場合STMは最大でも走査領域が10〜12μ
であるため、この画郭内でその位置がP!識可能なよう
な特異性のある標準試料が必要になる。ここではこのよ
うな標準試料を内蔵し、両者(光軸とSTM探針の距M
)の位置関係を求め、その距離のみ補正し、両方の装置
で同一点の観測を可能にした装置に関する。
従来の走査型トンネル顕微鏡では、実体顕微鏡等で測定
試料及び探針を斜め上方より観測していた。このように
、試料の観測は斜め」二方より観測しているために試料
全面で焦点が合わず、又実体顕微鏡は最大200倍程度
と倍率が低いため、試料の観測場所へ10μ以下の精度
でSTMの探針を導くことは非常に難しかった。従って
STMで最大画郭を走査しては、ステージを送り再度S
TMを走査することを繰り返し、目的とする試料の場所
を検索していた。しかしこの方法は非常に時間がかかり
実用上不具合であった。
試料及び探針を斜め上方より観測していた。このように
、試料の観測は斜め」二方より観測しているために試料
全面で焦点が合わず、又実体顕微鏡は最大200倍程度
と倍率が低いため、試料の観測場所へ10μ以下の精度
でSTMの探針を導くことは非常に難しかった。従って
STMで最大画郭を走査しては、ステージを送り再度S
TMを走査することを繰り返し、目的とする試料の場所
を検索していた。しかしこの方法は非常に時間がかかり
実用上不具合であった。
37M装置は、横方向分解能で2〜3人、縦方向分解能
で0.1 Å以上の性能が有するが、最大の走査域は1
0〜12μ程度と狭く、37M単独で試料中の特定の位
置を検索するには視野不足である。
で0.1 Å以上の性能が有するが、最大の走査域は1
0〜12μ程度と狭く、37M単独で試料中の特定の位
置を検索するには視野不足である。
従ってより視野の広い顕微鏡との複合化が必要になり、
両者の視野を連続させるために、STMの探針位置と顕
微鏡の光軸との関連をつける必要がある。
両者の視野を連続させるために、STMの探針位置と顕
微鏡の光軸との関連をつける必要がある。
又STMでは、探針は消耗品であり交換が頻繁に行われ
るため、この位置合わせが容易でなければならないとい
う問題点がある。本発明はかかる問題点を解決するため
になされたものであって、装置の中に標準試料を内蔵し
た試料ステージを有し、この標′i$試[lの中心線に
先願の光軸を合わせる機構を有し、またSTM像を取り
込み、このSTM像より標t$試料のどの位置に相当す
るか認識する機構を存し、これらの光軸とSTM探針の
位置関係を演算し、この量を正確に移動するg1横を有
する37M装置を提供することを目的とする。
るため、この位置合わせが容易でなければならないとい
う問題点がある。本発明はかかる問題点を解決するため
になされたものであって、装置の中に標準試料を内蔵し
た試料ステージを有し、この標′i$試[lの中心線に
先願の光軸を合わせる機構を有し、またSTM像を取り
込み、このSTM像より標t$試料のどの位置に相当す
るか認識する機構を存し、これらの光軸とSTM探針の
位置関係を演算し、この量を正確に移動するg1横を有
する37M装置を提供することを目的とする。
本発明が上記の目的を達成するために採用した主たる手
段は下記のとおりである。
段は下記のとおりである。
即ち、走査型トンネル顕微鏡とそれより視野の広い′J
A微鏡とを備えた複合走査型トンネル顕微鏡において、
これを構成するステージに載置された位置合わせ用標準
試料と、上記両顕微鏡による標準試料の観測像の位置関
係から両顕微鏡の光軸の相対距離を計算する算出手段と
、上記算出手段の結果に基づいて走査型トンネル”an
a鏡探針のズレ量を演算する演算手段と、上記演算手段
の結果に基づき両顕微鏡の光軸が試料の同一点に来るよ
うにステージを制jnするステージコントローラとから
なる位置合わせ手段を具備していることを特徴とする位
置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡。
A微鏡とを備えた複合走査型トンネル顕微鏡において、
これを構成するステージに載置された位置合わせ用標準
試料と、上記両顕微鏡による標準試料の観測像の位置関
係から両顕微鏡の光軸の相対距離を計算する算出手段と
、上記算出手段の結果に基づいて走査型トンネル”an
a鏡探針のズレ量を演算する演算手段と、上記演算手段
の結果に基づき両顕微鏡の光軸が試料の同一点に来るよ
うにステージを制jnするステージコントローラとから
なる位置合わせ手段を具備していることを特徴とする位
置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡。
この発明による走査型トンネルS!Il微鏡複合装置で
は、STMとそれより視野の広い8微鏡、具体的には先
願あるいはSEMを組合わせ、両者の光軸の相対距離を
容易に知り得る手段を設けたので試料観察時には、試料
に対し予め視野の広い顕微鏡で定めた試料の同一点上に
STMの光軸をもってくることが容易である。そのため
、視野の広い先願あるいはSEMで試料の測定すべき位
置を従来の技術に比べ、予め正確に精度よくかつ迅速に
同定出来るため、STMの探針の位置決めが容易になっ
た。
は、STMとそれより視野の広い8微鏡、具体的には先
願あるいはSEMを組合わせ、両者の光軸の相対距離を
容易に知り得る手段を設けたので試料観察時には、試料
に対し予め視野の広い顕微鏡で定めた試料の同一点上に
STMの光軸をもってくることが容易である。そのため
、視野の広い先願あるいはSEMで試料の測定すべき位
置を従来の技術に比べ、予め正確に精度よくかつ迅速に
同定出来るため、STMの探針の位置決めが容易になっ
た。
ここでは、先願とSTMの複合装置に例を取り詳しく説
明する。位置合わせの方法についてはSEMとSTMの
複合装置にも同様に適用可能である。
明する。位置合わせの方法についてはSEMとSTMの
複合装置にも同様に適用可能である。
第1図に装置の実施例を示す、!A置の構成として、測
定ヘッド部は、視野の広い顕微鏡としての光学5ill
、微鏡対物レンズ1とSTMの探針3及び微動素子2を
支持板4で固定し、アーム12によって、x7.y6.
z5ステージの直上にくるように配置されている。Xス
テージは試料をSTMの探針位置又は先願の対物レンズ
光軸位置に移動させるために、移動ストロークが大きく
しである。測定試料8は、脱着可能な試料台9を介して
2ステージ5に取り付けられている。一方、位置合わせ
用標準試料10 (詳細は第3図参照〉は固定式試料台
11を介して2ステージ5に取り付けられている。
定ヘッド部は、視野の広い顕微鏡としての光学5ill
、微鏡対物レンズ1とSTMの探針3及び微動素子2を
支持板4で固定し、アーム12によって、x7.y6.
z5ステージの直上にくるように配置されている。Xス
テージは試料をSTMの探針位置又は先願の対物レンズ
光軸位置に移動させるために、移動ストロークが大きく
しである。測定試料8は、脱着可能な試料台9を介して
2ステージ5に取り付けられている。一方、位置合わせ
用標準試料10 (詳細は第3図参照〉は固定式試料台
11を介して2ステージ5に取り付けられている。
先願像は、CCDカメラ13を介し、クロス力−ソル表
示1%動系14でクロスカーソル像を先願像に力■算し
、先頭像表示装置15に表示される。クロスカーソルの
初期位置は通常先頭視野の中央(光軸位置〉にセットす
る。STM像はx、 y走査系(20゜21)で走査
しながら2サーボ系19より形状の高さ信号を取り込み
中央演算処理a22を通してSTM画像表示装置23に
表示される。試料の移動は中央演算処114922より
ステージコントローラー”+)’+z (16,17,
18)を介してステージを駆動して行われる。
示1%動系14でクロスカーソル像を先願像に力■算し
、先頭像表示装置15に表示される。クロスカーソルの
初期位置は通常先頭視野の中央(光軸位置〉にセットす
る。STM像はx、 y走査系(20゜21)で走査
しながら2サーボ系19より形状の高さ信号を取り込み
中央演算処理a22を通してSTM画像表示装置23に
表示される。試料の移動は中央演算処114922より
ステージコントローラー”+)’+z (16,17,
18)を介してステージを駆動して行われる。
この装置による位置合わせの手順については後に後述す
るが、まず、その概略を示すと次のとおりである。位置
合わせは、当初視野の広い装置(先願又はSEM)で標
準試料10を観測する。ここでは先願を例にして説明す
る。第3図に示すパターンの中心線にクロスカーソル又
は視野の中心を合わせておく。
るが、まず、その概略を示すと次のとおりである。位置
合わせは、当初視野の広い装置(先願又はSEM)で標
準試料10を観測する。ここでは先願を例にして説明す
る。第3図に示すパターンの中心線にクロスカーソル又
は視野の中心を合わせておく。
この時のx、yステージの座標を(xo、y+)とする
0次にXステージを移動させ探針3が上記ノ〈ターンの
中心線の上にくるはずの距離(XL )移動さ一仕るが
、実際は探針3の油かり、取り付は誤差等で±2μの請
度で位置することはない、探針3の位置を同定するため
には実際にSTM像を取り込み、その像が標準試料10
のどの位置か、すなわちパターン中心からの座標(xt
、ys)を求める。従って先願のクロスカーソルとST
Mの探針間の補正量はΔ)iw)(、+x、、ΔV=Y
sとして求まる0次に測定試料8を先願で観測し、測定
場所を上記クロスカーソルに一致させる。ステージを上
記補正量ΔX、Δy移動させてSTMの測定を行うこと
により、先願で指定した場所をs ′rMで連続的に観
測できる。
0次にXステージを移動させ探針3が上記ノ〈ターンの
中心線の上にくるはずの距離(XL )移動さ一仕るが
、実際は探針3の油かり、取り付は誤差等で±2μの請
度で位置することはない、探針3の位置を同定するため
には実際にSTM像を取り込み、その像が標準試料10
のどの位置か、すなわちパターン中心からの座標(xt
、ys)を求める。従って先願のクロスカーソルとST
Mの探針間の補正量はΔ)iw)(、+x、、ΔV=Y
sとして求まる0次に測定試料8を先願で観測し、測定
場所を上記クロスカーソルに一致させる。ステージを上
記補正量ΔX、Δy移動させてSTMの測定を行うこと
により、先願で指定した場所をs ′rMで連続的に観
測できる。
次に各手順を第2図に示すフローチャートをもとに詳し
く説明する6手順lで探針を交換するSTMでは探針3
は、消耗品のため探針交換のごとに探針先端と先願のク
ロスカーソル位置の関係を求める必要がある。現状では
探針3ごとの位置のバラツキは0.2〜0.3■程度で
ある。ここで、標準試料について説明する。第3図はそ
の例で標準試料は、中央を縦横に走る中心線であり、こ
れにより4つの象限に分割されている。そして、各象限
には、lOμXIOμの井げた(セル)があり、その中
に2文字の英数字が書かれ、これらはパターン内の座標
を示している。 10μXIOμの大きさはSTMの最
大画郭が12μ程度のためである。各数字は1.2μル
ールで作られているため第4図fatに示す20ケの英
数字を使用した。パターンのエリアを大きく確保するた
めに第4図(blに示すように英数字の文字(ここでは
、説明の便宜上数字の3を用いた)は第1象限では正立
の凸、第2象限では、90回転した凸、第3象限では正
立の凹、第4象限では90″′回転した凹を使用した。
く説明する6手順lで探針を交換するSTMでは探針3
は、消耗品のため探針交換のごとに探針先端と先願のク
ロスカーソル位置の関係を求める必要がある。現状では
探針3ごとの位置のバラツキは0.2〜0.3■程度で
ある。ここで、標準試料について説明する。第3図はそ
の例で標準試料は、中央を縦横に走る中心線であり、こ
れにより4つの象限に分割されている。そして、各象限
には、lOμXIOμの井げた(セル)があり、その中
に2文字の英数字が書かれ、これらはパターン内の座標
を示している。 10μXIOμの大きさはSTMの最
大画郭が12μ程度のためである。各数字は1.2μル
ールで作られているため第4図fatに示す20ケの英
数字を使用した。パターンのエリアを大きく確保するた
めに第4図(blに示すように英数字の文字(ここでは
、説明の便宜上数字の3を用いた)は第1象限では正立
の凸、第2象限では、90回転した凸、第3象限では正
立の凹、第4象限では90″′回転した凹を使用した。
第5図(alに別のパターン例を示す、これは座標の数
字を2進法のビットにおきかえたもので第5図(blに
示すルールを一例とした方法で示したものである。この
パターンは、パターン認識が中央演算処理機で容易にで
きる長所をもち、又、情報密度が高いため、現状では6
40 μ口のパターンを構成できる。
字を2進法のビットにおきかえたもので第5図(blに
示すルールを一例とした方法で示したものである。この
パターンは、パターン認識が中央演算処理機で容易にで
きる長所をもち、又、情報密度が高いため、現状では6
40 μ口のパターンを構成できる。
フローチャー)2,3.4によってこのパターンの中心
線に先願のクロスカーソルを正石′僅に(±0゜5μ)
程度で一致させ、その時のステージの座標(x@、ye
)を中央演算処理機に記憶させる0次に手順5によりX
ステージをXL (光学顕微鏡光軸とSTM探針中心
までの設計距離)だけ移動し、次に2ステージを低速で
トンネル領域へ送る0手順6では、STMを10〜12
μのii!ii郭で一画面走査し、STMの画像を取り
込む0手順7では、この画像にローパスの空間フィルタ
ーを演算し、次にSTMの微動素子(ピエゾ素子)2の
非直線性補正係数を画像にl1jii算し、37M画像
の歪を除去する。この補正係数は各ピエゾ素子ごとにラ
ンプ関数状の入力を印加してその時の変位量との関係(
第6図)を求め、この曲線を2次曲線の最小二乗近似す
ることにより補正係数を求めている0手順8では、前述
の井ゲタのセルが第7図fa)のようにSTM画像表示
装置の画郭の内にあるか判断する。これは、井ゲタのテ
ンプレート(ソフト的に製作したパターン)が上記画郭
内にある井ゲタ像と一致するかで判断する。手順9.1
0は第7図Cb)に示すように井ゲタのSTM像が画郭
内にない場合、井ゲタの像が前記表示装置の画郭内に入
るようにステージを微小移動を行う。移動距離は第7図
1b)に示すようにSTM像の井ゲタの4つの角のうち
、もともと本来あるべき所(破線で示す)に近い距離e
だけ移動する。この時の移動は、2ステージを動かし、
トンネル領域よりはずした後、x、 yステージを移
動させるか、STM’d動素子の2軸に電圧を印加して
、z軸を引き上げた後X。
線に先願のクロスカーソルを正石′僅に(±0゜5μ)
程度で一致させ、その時のステージの座標(x@、ye
)を中央演算処理機に記憶させる0次に手順5によりX
ステージをXL (光学顕微鏡光軸とSTM探針中心
までの設計距離)だけ移動し、次に2ステージを低速で
トンネル領域へ送る0手順6では、STMを10〜12
μのii!ii郭で一画面走査し、STMの画像を取り
込む0手順7では、この画像にローパスの空間フィルタ
ーを演算し、次にSTMの微動素子(ピエゾ素子)2の
非直線性補正係数を画像にl1jii算し、37M画像
の歪を除去する。この補正係数は各ピエゾ素子ごとにラ
ンプ関数状の入力を印加してその時の変位量との関係(
第6図)を求め、この曲線を2次曲線の最小二乗近似す
ることにより補正係数を求めている0手順8では、前述
の井ゲタのセルが第7図fa)のようにSTM画像表示
装置の画郭の内にあるか判断する。これは、井ゲタのテ
ンプレート(ソフト的に製作したパターン)が上記画郭
内にある井ゲタ像と一致するかで判断する。手順9.1
0は第7図Cb)に示すように井ゲタのSTM像が画郭
内にない場合、井ゲタの像が前記表示装置の画郭内に入
るようにステージを微小移動を行う。移動距離は第7図
1b)に示すようにSTM像の井ゲタの4つの角のうち
、もともと本来あるべき所(破線で示す)に近い距離e
だけ移動する。この時の移動は、2ステージを動かし、
トンネル領域よりはずした後、x、 yステージを移
動させるか、STM’d動素子の2軸に電圧を印加して
、z軸を引き上げた後X。
yステージを移動さセても良いが、後者の方法の方が2
ステージ移動にともなうx、y方向の誤差が入らず正確
である。ここでの移動量(△xl、△y+)はそれぞれ
5〜6μ以下である0手順11では、前記表示装置の画
郭内の座標を読み取る。このためには、STMの画像を
適当な高さのスレソショールドにより二値化し、第4図
talに示した英数字のテンプレートとの一致により、
37M画像の英数字を認識する。又、第5図1a)に示
したビットパターンの場合は、テンプレートとの一致が
容易にできる長所を持つ、ここでパターンの座標(xs
、ys)を中央演算処理機に記録させる0手順12では
、上記表示装置の中心と井ゲタの中心とのズレ量である
(ΔXz、y2)(第7図telに示す)を求める0手
順13では △x=x、+x、+△x1 +Δx2 △Y=Ys +Δy、+△y2 により先頭のクロスカーソル位置と57M探針のズレ量
を演算し記憶する。手順14.15では実際の測定サン
プルをセントして測定する領域に先頭のクロスカーソル
を合わせその時の座[(x+、y+)を記憶する0手順
16.17では(x+ +△x、y。
ステージ移動にともなうx、y方向の誤差が入らず正確
である。ここでの移動量(△xl、△y+)はそれぞれ
5〜6μ以下である0手順11では、前記表示装置の画
郭内の座標を読み取る。このためには、STMの画像を
適当な高さのスレソショールドにより二値化し、第4図
talに示した英数字のテンプレートとの一致により、
37M画像の英数字を認識する。又、第5図1a)に示
したビットパターンの場合は、テンプレートとの一致が
容易にできる長所を持つ、ここでパターンの座標(xs
、ys)を中央演算処理機に記録させる0手順12では
、上記表示装置の中心と井ゲタの中心とのズレ量である
(ΔXz、y2)(第7図telに示す)を求める0手
順13では △x=x、+x、+△x1 +Δx2 △Y=Ys +Δy、+△y2 により先頭のクロスカーソル位置と57M探針のズレ量
を演算し記憶する。手順14.15では実際の測定サン
プルをセントして測定する領域に先頭のクロスカーソル
を合わせその時の座[(x+、y+)を記憶する0手順
16.17では(x+ +△x、y。
十△y)になるようにステージを移動させSTMにて測
定する。別の方法としては測定試料セット後、第2図(
B)に示すように先頭のクロスカーソルを前記ズレ量Δ
X、Δyに相当するだけ移動し、先頭の視野内にSTM
の探針位置を表示しても同様の効果が得られる。第8図
に他の実施例を示す、測定ユニット部の先頭のレボルバ
一部24にSTMの微動素子2を組み入れた構成である
ため、対物レンズを交換して試料の観察を低倍率から高
倍率へ37M測定へと連続的に行える。又、第1図に示
すXステージで一軸移動していた機構は不要になる。又
、光顕像はCCDカメラ13を介してアナログデジタル
変換器25によってデジタル画像に変換され中央演算処
理部22に蓄積される。この画像と37M画像(第2図
のフローチャート手順7)を比較すれば、先頭と57M
探針のずれ量は直接求めることが可能になる。この場合
、前述のフローチャート手順3.4は光顕像の取り込み
に置き変わる。従って第8図の構成は、第1図の構成に
比較してより簡単になる。
定する。別の方法としては測定試料セット後、第2図(
B)に示すように先頭のクロスカーソルを前記ズレ量Δ
X、Δyに相当するだけ移動し、先頭の視野内にSTM
の探針位置を表示しても同様の効果が得られる。第8図
に他の実施例を示す、測定ユニット部の先頭のレボルバ
一部24にSTMの微動素子2を組み入れた構成である
ため、対物レンズを交換して試料の観察を低倍率から高
倍率へ37M測定へと連続的に行える。又、第1図に示
すXステージで一軸移動していた機構は不要になる。又
、光顕像はCCDカメラ13を介してアナログデジタル
変換器25によってデジタル画像に変換され中央演算処
理部22に蓄積される。この画像と37M画像(第2図
のフローチャート手順7)を比較すれば、先頭と57M
探針のずれ量は直接求めることが可能になる。この場合
、前述のフローチャート手順3.4は光顕像の取り込み
に置き変わる。従って第8図の構成は、第1図の構成に
比較してより簡単になる。
以上説明したように、本装置は広い領域を先頭又はSE
Mで観測し観測域の同定を行い、その場所に正確にST
Mの走査域を重ねることができ、一つの試料を倍率を変
えて数10倍〜数百万倍で観測できる。又、従来はとん
ど不可能であった観測試料の特定の場所へ4μ以下の精
度で容易にSTMの探針を導きSTMの画像41す定が
可能になった。
Mで観測し観測域の同定を行い、その場所に正確にST
Mの走査域を重ねることができ、一つの試料を倍率を変
えて数10倍〜数百万倍で観測できる。又、従来はとん
ど不可能であった観測試料の特定の場所へ4μ以下の精
度で容易にSTMの探針を導きSTMの画像41す定が
可能になった。
第1図は本発明の第1実施例を示す図、第2図は第1図
の実施例における位置合わせフローチャートを示す図、
第3図は本発明に使用する標準試料の例を示す図、第4
図は第3図における英数字パターン及び象限の区別法を
示す図、第5図は本発明に使用する別の標準試料でビッ
トパターン標準サンプル(中心部分〉及びビットづけル
ールを説明する図、第6図は37M微動素子、印加電圧
と変位の関係を示す図、第7図はSTM像の表示例を説
明する図、第8図は本発明の第2実施例を示す図である
。 先頭対物レンズ 37M微動素子 探針 支持板 2ステージ yステージ Xステージ 測定試料 9 ・ 10・ 11・ 12・ 13・ 14・ 15・ 16・ 17・ 1B・ 19・ 20・ 21・ 22・ 23・ 24・ 25・ 26・ ・脱着式試料台 ・位置合わせ用標堆試料 ・固定式試料台 ・支持アーム ・CODカメラ ・クロスカーソル表示移動系 ・先願像表示装置 ・ステージコントローラ2 ・ステージコントローラy ・ステージコントローラX ・2サーボ系 ・X走査系 ・y走査系 ・中央演算処理機 ・STM画像表示装置 ・先頭レボルバー ・アナログデジタル変換器 ・画像表示装置 &tλト江フロー→に一ト STM至虜高暮寛用末寥 第 図(a) 第 図(b) 丁 甲1℃譚 第 図(a) 第 yJ(b) 第 8 図 手 続 ネ甫 正 書(方式) %式% 2、発明の名称 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡3、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 東京都圧東区亀戸6丁目31番1号 (232)セイコー電子工業株式会社 代表取締役 原 禮之助 4、代理人 5、補正命令の日付 平成 1年10月31日 6、補正の対象 (発送I3)
の実施例における位置合わせフローチャートを示す図、
第3図は本発明に使用する標準試料の例を示す図、第4
図は第3図における英数字パターン及び象限の区別法を
示す図、第5図は本発明に使用する別の標準試料でビッ
トパターン標準サンプル(中心部分〉及びビットづけル
ールを説明する図、第6図は37M微動素子、印加電圧
と変位の関係を示す図、第7図はSTM像の表示例を説
明する図、第8図は本発明の第2実施例を示す図である
。 先頭対物レンズ 37M微動素子 探針 支持板 2ステージ yステージ Xステージ 測定試料 9 ・ 10・ 11・ 12・ 13・ 14・ 15・ 16・ 17・ 1B・ 19・ 20・ 21・ 22・ 23・ 24・ 25・ 26・ ・脱着式試料台 ・位置合わせ用標堆試料 ・固定式試料台 ・支持アーム ・CODカメラ ・クロスカーソル表示移動系 ・先願像表示装置 ・ステージコントローラ2 ・ステージコントローラy ・ステージコントローラX ・2サーボ系 ・X走査系 ・y走査系 ・中央演算処理機 ・STM画像表示装置 ・先頭レボルバー ・アナログデジタル変換器 ・画像表示装置 &tλト江フロー→に一ト STM至虜高暮寛用末寥 第 図(a) 第 図(b) 丁 甲1℃譚 第 図(a) 第 yJ(b) 第 8 図 手 続 ネ甫 正 書(方式) %式% 2、発明の名称 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡3、補正を
する者 事件との関係 特許出願人 東京都圧東区亀戸6丁目31番1号 (232)セイコー電子工業株式会社 代表取締役 原 禮之助 4、代理人 5、補正命令の日付 平成 1年10月31日 6、補正の対象 (発送I3)
Claims (1)
- 走査型トンネル顕微鏡とそれより視野の広い顕微鏡とを
備えた複合走査型トンネル顕微鏡において、これを構成
するステージに載置された位置合わせ用標準試料と、上
記両顕微鏡による標準試料の観測像の位置関係から両顕
微鏡の光軸の相対距離を計算する算出手段と、上記算出
手段の結果に基づいて走査型トンネル顕微鏡探針のズレ
量を演算する演算手段と、上記演算手段の結果に基づき
両顕微鏡の光軸が試料の同一点に来るようにステージを
制御するステージコントローラとからなる位置合わせ手
段を具備していることを特徴とする位置合わせ機能付複
合走査型トンネル顕微鏡。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174793A JP2909829B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡 |
US07/557,856 US5117110A (en) | 1989-07-05 | 1990-07-24 | Composite scanning tunnelling microscope with a positioning function |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174793A JP2909829B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0340356A true JPH0340356A (ja) | 1991-02-21 |
JP2909829B2 JP2909829B2 (ja) | 1999-06-23 |
Family
ID=15984769
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1174793A Expired - Fee Related JP2909829B2 (ja) | 1989-07-05 | 1989-07-05 | 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5117110A (ja) |
JP (1) | JP2909829B2 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0715147A2 (en) | 1994-11-29 | 1996-06-05 | Seiko Instruments Inc. | Microscope with aligning function |
JP2005234306A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Olympus Corp | 顕微鏡観察装置 |
JP2013205018A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Mitsutoyo Corp | 硬さ試験機 |
JP2014517299A (ja) * | 2011-05-31 | 2014-07-17 | カール ツァイス エスエムエス ゲーエムベーハー | 物体を検査するための装置及び方法 |
JP2015531060A (ja) * | 2012-07-27 | 2015-10-29 | オリバ ジョビン イボン エス. アー. エス. | 局所測定を用いた試料の特徴付けのための装置及び方法 |
JP2017045008A (ja) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | キヤノン株式会社 | 位置精度管理用スライド、位置精度管理装置及び方法 |
Families Citing this family (38)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5155361A (en) * | 1991-07-26 | 1992-10-13 | The Arizona Board Of Regents, A Body Corporate Acting For And On Behalf Of Arizona State University | Potentiostatic preparation of molecular adsorbates for scanning probe microscopy |
US5210410A (en) * | 1991-09-26 | 1993-05-11 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Scanning probe microscope having scan correction |
US5376790A (en) * | 1992-03-13 | 1994-12-27 | Park Scientific Instruments | Scanning probe microscope |
US5448399A (en) * | 1992-03-13 | 1995-09-05 | Park Scientific Instruments | Optical system for scanning microscope |
US5517027A (en) * | 1993-06-08 | 1996-05-14 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Method for detecting and examining slightly irregular surface states, scanning probe microscope therefor, and method for fabricating a semiconductor device or a liquid crystal display device using these |
US5689063A (en) * | 1993-07-15 | 1997-11-18 | Nikon Corporation | Atomic force microscope using cantilever attached to optical microscope |
US5365072A (en) * | 1993-08-30 | 1994-11-15 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy | Repositionable substrate for microscopes |
US5483064A (en) * | 1994-01-21 | 1996-01-09 | Wyko Corporation | Positioning mechanism and method for providing coaxial alignment of a probe and a scanning means in scanning tunneling and scanning force microscopy |
US5440920A (en) * | 1994-02-03 | 1995-08-15 | Molecular Imaging Systems | Scanning force microscope with beam tracking lens |
US5515719A (en) * | 1994-05-19 | 1996-05-14 | Molecular Imaging Corporation | Controlled force microscope for operation in liquids |
US5753814A (en) * | 1994-05-19 | 1998-05-19 | Molecular Imaging Corporation | Magnetically-oscillated probe microscope for operation in liquids |
US5866805A (en) * | 1994-05-19 | 1999-02-02 | Molecular Imaging Corporation Arizona Board Of Regents | Cantilevers for a magnetically driven atomic force microscope |
US5513518A (en) * | 1994-05-19 | 1996-05-07 | Molecular Imaging Corporation | Magnetic modulation of force sensor for AC detection in an atomic force microscope |
JP3258821B2 (ja) * | 1994-06-02 | 2002-02-18 | 三菱電機株式会社 | 微小異物の位置決め方法、分析方法、これに用いる分析装置およびこれを用いた半導体素子もしくは液晶表示素子の製法 |
US5557097A (en) * | 1994-09-20 | 1996-09-17 | Neopath, Inc. | Cytological system autofocus integrity checking apparatus |
US5621210A (en) * | 1995-02-10 | 1997-04-15 | Molecular Imaging Corporation | Microscope for force and tunneling microscopy in liquids |
JP3581421B2 (ja) * | 1995-02-23 | 2004-10-27 | キヤノン株式会社 | 情報処理装置 |
JP3141732B2 (ja) * | 1995-07-05 | 2001-03-05 | 株式会社日立製作所 | 荷電粒子線装置 |
US5955661A (en) * | 1997-01-06 | 1999-09-21 | Kla-Tencor Corporation | Optical profilometer combined with stylus probe measurement device |
US6806477B1 (en) | 1997-05-23 | 2004-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detection device, apparatus using the same, exposure apparatus, and device manufacturing method using the same |
EP0880078A3 (en) * | 1997-05-23 | 2001-02-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Position detection device, apparatus using the same, exposure apparatus, and device manufacturing method using the same |
US6198299B1 (en) | 1998-08-27 | 2001-03-06 | The Micromanipulator Company, Inc. | High Resolution analytical probe station |
US6744268B2 (en) * | 1998-08-27 | 2004-06-01 | The Micromanipulator Company, Inc. | High resolution analytical probe station |
US20020158197A1 (en) * | 1999-01-12 | 2002-10-31 | Applied Materials, Inc | AFM-based lithography metrology tool |
US6392229B1 (en) | 1999-01-12 | 2002-05-21 | Applied Materials, Inc. | AFM-based lithography metrology tool |
AU2003211027A1 (en) * | 2002-03-27 | 2003-10-13 | Nanoink, Inc. | Method and apparatus for aligning patterns on a substrate |
US6891170B1 (en) * | 2002-06-17 | 2005-05-10 | Zyvex Corporation | Modular manipulation system for manipulating a sample under study with a microscope |
JP2007506981A (ja) * | 2003-09-23 | 2007-03-22 | ザイベックス コーポレーション | Fibで調製した試料を把持する素子を使用した顕微鏡検査のための方法、システム、および装置 |
TW200531420A (en) | 2004-02-20 | 2005-09-16 | Zyvex Corp | Positioning device for microscopic motion |
DE602005002379T2 (de) * | 2004-02-23 | 2008-06-12 | Zyvex Instruments, LLC, Richardson | Benutzung einer Sonde in einer Teilchenstrahlvorrichtung |
US7326293B2 (en) * | 2004-03-26 | 2008-02-05 | Zyvex Labs, Llc | Patterned atomic layer epitaxy |
US7472576B1 (en) | 2004-11-17 | 2009-01-06 | State Of Oregon Acting By And Through The State Board Of Higher Education On Behalf Of Portland State University | Nanometrology device standards for scanning probe microscopes and processes for their fabrication and use |
JP5121619B2 (ja) | 2008-07-31 | 2013-01-16 | エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社 | プローブ顕微鏡の探針位置合せ方法およびその方法により操作されるプローブ顕微鏡 |
GB0901772D0 (en) | 2009-02-04 | 2009-03-11 | Infinitesima Ltd | Control system for a scanning probe microscope |
CN104897051B (zh) * | 2014-03-03 | 2019-01-11 | 卡尔蔡司显微镜有限责任公司 | 用于对数码显微镜进行测量校准的校准板及其使用方法 |
JP6478605B2 (ja) * | 2014-12-10 | 2019-03-06 | キヤノン株式会社 | 顕微鏡システムおよびその制御方法 |
CN112770677A (zh) * | 2018-08-24 | 2021-05-07 | 数字谐波有限责任公司 | 随时间测量活细胞和组织中的振动频谱的系统和方法 |
NL2028082B1 (en) * | 2021-04-28 | 2022-11-03 | Nearfield Instr B V | Fiducial marker design, fiducial marker, scanning probe microscopy device and method of calibrating a position of a probe tip. |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5795056A (en) * | 1980-12-05 | 1982-06-12 | Hitachi Ltd | Appearance inspecting process |
EP0307211A3 (en) * | 1987-09-10 | 1991-05-15 | Seiko Instruments Inc. | Memory reading device |
DE68916667T2 (de) * | 1988-03-04 | 1995-01-12 | Kabushiki Kaisha Toshiba, Kawasaki, Kanagawa | Mikroskop. |
US4999495A (en) * | 1988-08-31 | 1991-03-12 | Seiko Instruments Inc. | Scanning tunneling microscope |
-
1989
- 1989-07-05 JP JP1174793A patent/JP2909829B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-07-24 US US07/557,856 patent/US5117110A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0715147A2 (en) | 1994-11-29 | 1996-06-05 | Seiko Instruments Inc. | Microscope with aligning function |
JP2005234306A (ja) * | 2004-02-20 | 2005-09-02 | Olympus Corp | 顕微鏡観察装置 |
JP2014517299A (ja) * | 2011-05-31 | 2014-07-17 | カール ツァイス エスエムエス ゲーエムベーハー | 物体を検査するための装置及び方法 |
US9115981B2 (en) | 2011-05-31 | 2015-08-25 | Carl Zeiss Sms Gmbh | Apparatus and method for investigating an object |
JP2013205018A (ja) * | 2012-03-27 | 2013-10-07 | Mitsutoyo Corp | 硬さ試験機 |
JP2015531060A (ja) * | 2012-07-27 | 2015-10-29 | オリバ ジョビン イボン エス. アー. エス. | 局所測定を用いた試料の特徴付けのための装置及び方法 |
JP2017045008A (ja) * | 2015-08-28 | 2017-03-02 | キヤノン株式会社 | 位置精度管理用スライド、位置精度管理装置及び方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5117110A (en) | 1992-05-26 |
JP2909829B2 (ja) | 1999-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0340356A (ja) | 位置合わせ機能付複合走査型トンネル顕微鏡 | |
US4202037A (en) | Computer microscope apparatus and method for superimposing an electronically-produced image from the computer memory upon the image in the microscope's field of view | |
US4672559A (en) | Method for operating a microscopical mapping system | |
US10048477B1 (en) | Camera and specimen alignment to facilitate large area imaging in microscopy | |
JP3333148B2 (ja) | 外観検査装置 | |
JP2002350320A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
WO2017033591A1 (ja) | 荷電粒子線装置および試料ステージのアライメント調整方法 | |
JP2010038543A (ja) | プローブ顕微鏡の探針位置合せ方法およびその方法により操作されるプローブ顕微鏡 | |
JP3672970B2 (ja) | 非接触画像計測システム | |
JP2002529721A (ja) | 三次元表面の特徴付け方法及び装置 | |
JP3929285B2 (ja) | 基板検査装置 | |
JP2945448B2 (ja) | 表面形状測定装置 | |
JPS62130305A (ja) | 画像処理式測定装置 | |
JP3560095B2 (ja) | 走査型プローブ顕微鏡 | |
JP2005172610A (ja) | 3次元測定装置 | |
CN110490801B (zh) | 金相显微镜矩阵超大图片高速拼接方法 | |
JPH07134137A (ja) | プローブ顕微鏡装置および探針間距離測定方法 | |
JPH11295045A (ja) | 検査装置 | |
JPH01321151A (ja) | Ccd画素を用いた工具測定調整装置 | |
JP2000251824A (ja) | 電子ビーム装置及びそのステージ移動位置合せ方法 | |
KR100287319B1 (ko) | 피측정 웨이퍼의 회전방향 검출방법과 측정위치 결정방법 및 그 장치 | |
JPH087818A (ja) | 走査型電子顕微鏡 | |
JPH08194736A (ja) | 現物照合機能を備えたcadシステム | |
JP2003028772A (ja) | 走査型プローブ顕微鏡およびその測定設定方法 | |
JP2000249640A (ja) | 硬度測定装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090409 Year of fee payment: 10 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |