JPH0339836U - - Google Patents

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JPH0339836U
JPH0339836U JP10073389U JP10073389U JPH0339836U JP H0339836 U JPH0339836 U JP H0339836U JP 10073389 U JP10073389 U JP 10073389U JP 10073389 U JP10073389 U JP 10073389U JP H0339836 U JPH0339836 U JP H0339836U
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liquid
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resist liquid
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liquid diffusion
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Description

【図面の簡単な説明】
第1図は本考案装置を液体拡散ソースの塗布並
びに乾燥工程に適用した具体例の説明図、第2図
は本考案装置の概略正面図である。また、第3図
は従来装置の略示正面図である。 2……半導体ウエーハ、4……液体拡散ソース
(レジスト液)、8……塗布装置、9a……乾燥
炉、14……被膜形成装置、15……クリーンベ
ンチ、16……クリーンルーム。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 塗布装置内で表面に液体拡散ソースもしくはレ
    ジスト液を塗布した半導体ウエーハを乾燥炉内に
    導入して前記液体拡散ソースもしくはレジスト液
    に乾燥処理を施こす装置であつて、 前記レジスト液もしくは液体拡散ソースの塗布
    装置及びランプフラツシユ加熱式乾燥炉を、クリ
    ーンルーム内に設置された単一のクリーンベンチ
    内に収納配置し、枚葉処理方式の移し替え装置に
    形成したことを特徴とする半導体製造装置。
JP10073389U 1989-08-28 1989-08-28 Pending JPH0339836U (ja)

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