JPH0339836U - - Google Patents
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- JPH0339836U JPH0339836U JP10073389U JP10073389U JPH0339836U JP H0339836 U JPH0339836 U JP H0339836U JP 10073389 U JP10073389 U JP 10073389U JP 10073389 U JP10073389 U JP 10073389U JP H0339836 U JPH0339836 U JP H0339836U
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- JP
- Japan
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- liquid
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- resist liquid
- drying oven
- liquid diffusion
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims description 9
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 claims description 5
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 3
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Description
第1図は本考案装置を液体拡散ソースの塗布並
びに乾燥工程に適用した具体例の説明図、第2図
は本考案装置の概略正面図である。また、第3図
は従来装置の略示正面図である。 2……半導体ウエーハ、4……液体拡散ソース
(レジスト液)、8……塗布装置、9a……乾燥
炉、14……被膜形成装置、15……クリーンベ
ンチ、16……クリーンルーム。
びに乾燥工程に適用した具体例の説明図、第2図
は本考案装置の概略正面図である。また、第3図
は従来装置の略示正面図である。 2……半導体ウエーハ、4……液体拡散ソース
(レジスト液)、8……塗布装置、9a……乾燥
炉、14……被膜形成装置、15……クリーンベ
ンチ、16……クリーンルーム。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 塗布装置内で表面に液体拡散ソースもしくはレ
ジスト液を塗布した半導体ウエーハを乾燥炉内に
導入して前記液体拡散ソースもしくはレジスト液
に乾燥処理を施こす装置であつて、 前記レジスト液もしくは液体拡散ソースの塗布
装置及びランプフラツシユ加熱式乾燥炉を、クリ
ーンルーム内に設置された単一のクリーンベンチ
内に収納配置し、枚葉処理方式の移し替え装置に
形成したことを特徴とする半導体製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10073389U JPH0339836U (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10073389U JPH0339836U (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0339836U true JPH0339836U (ja) | 1991-04-17 |
Family
ID=31649721
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10073389U Pending JPH0339836U (ja) | 1989-08-28 | 1989-08-28 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0339836U (ja) |
-
1989
- 1989-08-28 JP JP10073389U patent/JPH0339836U/ja active Pending
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