JPH0339676A - 磁場補正装置 - Google Patents
磁場補正装置Info
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- JPH0339676A JPH0339676A JP1174171A JP17417189A JPH0339676A JP H0339676 A JPH0339676 A JP H0339676A JP 1174171 A JP1174171 A JP 1174171A JP 17417189 A JP17417189 A JP 17417189A JP H0339676 A JPH0339676 A JP H0339676A
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- magnetic
- magnetic bodies
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- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 30
- 241001442234 Cosa Species 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 210000003127 knee Anatomy 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3873—Compensation of inhomogeneities using ferromagnetic bodies ; Passive shimming
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野1
この発明は、核磁気共鳴用マグネット等に使用される磁
場補正装置に関するものである。
場補正装置に関するものである。
「従来の技術]
第7図は例えば特開昭62−193230号公報に示さ
れた従来の磁場補正装置であり、図において符号(10
)で示されるものは非磁性体の円筒内壁で、このrr1
筒内を(10)には棒状の磁性体(2〉が貼りつけられ
ている。
れた従来の磁場補正装置であり、図において符号(10
)で示されるものは非磁性体の円筒内壁で、このrr1
筒内を(10)には棒状の磁性体(2〉が貼りつけられ
ている。
コイル(3)が設けられており、この円筒内壁(10)
内には、磁場均一性が要求される領域(4)が丸印の点
線にて示されている。
内には、磁場均一性が要求される領域(4)が丸印の点
線にて示されている。
従来の磁場補正装置は前述したように構成されており、
以下に、その動作について説明する。
以下に、その動作について説明する。
−a的に、コイル(3〉によって発生する磁場は領域(
4〉においては必ずしも必要とされる均一性を右してい
ない。そこで均一性を高める手段の1つとして1円筒内
壁(10)に棒状の磁性体〈2〉 を貼りつけることに
より、発生磁場の空間分布に変化を与えることが考えら
れる。前述の従来の装置では、予め磁性体(2)を円筒
内壁(10)の適当な位置に複数個配置した状態で、領
域(4〉の磁場分布がと゛のように変化するかを実験的
に確かめておき、いくつかの磁性体の組み合わせで経験
的に均一性を高める方法がとられていた。
4〉においては必ずしも必要とされる均一性を右してい
ない。そこで均一性を高める手段の1つとして1円筒内
壁(10)に棒状の磁性体〈2〉 を貼りつけることに
より、発生磁場の空間分布に変化を与えることが考えら
れる。前述の従来の装置では、予め磁性体(2)を円筒
内壁(10)の適当な位置に複数個配置した状態で、領
域(4〉の磁場分布がと゛のように変化するかを実験的
に確かめておき、いくつかの磁性体の組み合わせで経験
的に均一性を高める方法がとられていた。
[発明が解決しようとする課題]
従来の磁場補正装置は以上のように構成されているので
、磁性体の大きさ、形状、本数、貼付位置等の決定に際
しては取付ける人間の経験的な勘に頼ることが多く、一
定の規則がない為、組立後の各磁場補正装置は必ずしも
I&適な磁性体の選定になっておらず、特性にバラツキ
があると云う重大な課題を有していた。
、磁性体の大きさ、形状、本数、貼付位置等の決定に際
しては取付ける人間の経験的な勘に頼ることが多く、一
定の規則がない為、組立後の各磁場補正装置は必ずしも
I&適な磁性体の選定になっておらず、特性にバラツキ
があると云う重大な課題を有していた。
この発明は以上のような課題を解決するためになされた
もので、特に、必要とする磁性体の構成、取付位置等を
一定の規則に従って定めることができるとともに、磁性
体の取付けおよび取外しを容易にすることができる磁場
補正装置を得ることを目的とする。
もので、特に、必要とする磁性体の構成、取付位置等を
一定の規則に従って定めることができるとともに、磁性
体の取付けおよび取外しを容易にすることができる磁場
補正装置を得ることを目的とする。
[課題を解決するための手段]
この発明に係る磁場補正装置は、空間的に均一な磁場分
布が要求されるマグネットに使用される磁性体を用いた
磁場補正装置において、主磁場に含まれる不均一な誤差
成分を補正するための磁性体が、各成分に応じ特定の位
置に配置されるように円周方向の特定位置に配置された
複数本の非磁性管の内部に対して選択的に取付けおよび
取外しができるようにした構成である。
布が要求されるマグネットに使用される磁性体を用いた
磁場補正装置において、主磁場に含まれる不均一な誤差
成分を補正するための磁性体が、各成分に応じ特定の位
置に配置されるように円周方向の特定位置に配置された
複数本の非磁性管の内部に対して選択的に取付けおよび
取外しができるようにした構成である。
[作 用]
この発明における磁場補正装置においては、補正すべき
特定の磁場成分の補正量が分がれば、それに応じた磁性
体の量を予め決められた位置に配置することによって実
現できるため、作業者の勘や経験に頼ることなく、一定
特性の品質を確保することができる。
特定の磁場成分の補正量が分がれば、それに応じた磁性
体の量を予め決められた位置に配置することによって実
現できるため、作業者の勘や経験に頼ることなく、一定
特性の品質を確保することができる。
[実施例]
以下、この発明による磁場補正装置の一実施例を図につ
いて説明する。
いて説明する。
第1図および第2図において、符号(1〉で示されるも
のは非磁性体よりなる非磁性管であり、この非磁性管〈
1〉内には棒状の磁性体(2〉が選択的に挿入および引
抜き自在、すなわち、取付けおよび取外しができるよう
に設けられており、これらの非磁性管(1)および磁性
体(2)は、円筒状をなし主磁場を発生するコイル(3
)内に配設されている。また、丸印の点線にて示される
部分は均一性が要求される磁場領域の均一度領域である
。
のは非磁性体よりなる非磁性管であり、この非磁性管〈
1〉内には棒状の磁性体(2〉が選択的に挿入および引
抜き自在、すなわち、取付けおよび取外しができるよう
に設けられており、これらの非磁性管(1)および磁性
体(2)は、円筒状をなし主磁場を発生するコイル(3
)内に配設されている。また、丸印の点線にて示される
部分は均一性が要求される磁場領域の均一度領域である
。
第3図および第4図は、主磁場方向(z)に沿って長い
断面mAを有する棒状の磁性体(2)が取付角度ψの位
置に配置された状態を示している。
断面mAを有する棒状の磁性体(2)が取付角度ψの位
置に配置された状態を示している。
この磁性体(2〉が均一性の必要な均一度領域(4〉の
点P(r、θ、φ)に作る磁場のZ方向成分Bzは次式
で表される。
点P(r、θ、φ)に作る磁場のZ方向成分Bzは次式
で表される。
1 ■ 住y址 。
Bz = −K −^・Σ込tm (Pa−m、+
(cosa)・5ina ]、?&” n−Om−
0(n”1ll)×■’XPa”(cosa)Xcos
m(φ−ψ) −−−(1)
ここで、K:磁性体の磁気特性によって決まる値で定数 a:磁性体の取付半径 ε、:ノイマン係数、m1=oならε、=2゜m=oな
らε、=1 Pn”:n次m位のルジャンドル陪多項式(1)式は極
座標系での表穴であるが、通常使われる直交座標系との
対応は表1の通りである。
(cosa)・5ina ]、?&” n−Om−
0(n”1ll)×■’XPa”(cosa)Xcos
m(φ−ψ) −−−(1)
ここで、K:磁性体の磁気特性によって決まる値で定数 a:磁性体の取付半径 ε、:ノイマン係数、m1=oならε、=2゜m=oな
らε、=1 Pn”:n次m位のルジャンドル陪多項式(1)式は極
座標系での表穴であるが、通常使われる直交座標系との
対応は表1の通りである。
表
(n=2までの対応)
一方、前記コイル(3)が均一度領域(4)に作る磁場
のZ方向成分13cgは次式で表される。
のZ方向成分13cgは次式で表される。
Bc、=I1.+^1X+^2Y+^、Zχ+^、ZY
+^、XY+^a(x2−y”)+ ・・・(2)ここ
で、Boは原点(0,0,O)での磁場、 従って、例
えば、^1xは、Xに比例した誤差成分を示している。
+^、XY+^a(x2−y”)+ ・・・(2)ここ
で、Boは原点(0,0,O)での磁場、 従って、例
えば、^1xは、Xに比例した誤差成分を示している。
即ち、前記均一度領域(4)の均一性を高めるには(2
)式の^、χ等を打消すような磁性体(2)が必要であ
ることが分かる。以下に、−例として、X成分補正用の
磁性体(2)について述べる。前述のく1)式から分か
るように、磁性体〈2)が作る磁場成分は無限個あるが
、一般的にa > rであるからnの値が大きい成分は
(1)式中のく−〉 が非常に小さくなる為に無視で
きる。そこで、実用上はn。
)式の^、χ等を打消すような磁性体(2)が必要であ
ることが分かる。以下に、−例として、X成分補正用の
磁性体(2)について述べる。前述のく1)式から分か
るように、磁性体〈2)が作る磁場成分は無限個あるが
、一般的にa > rであるからnの値が大きい成分は
(1)式中のく−〉 が非常に小さくなる為に無視で
きる。そこで、実用上はn。
mの値が小さい成分についてのみ考えればよい。
ここで、前述の磁場のZ方向成分B2の径方向成分(即
ちm≠O)のみに注目して以下の成分を考える。
ちm≠O)のみに注目して以下の成分を考える。
1311 1321 B12 B31
B32 B33 B41B”、 B”l B”
、 B’l、 B”、 Bs2. BszコこでB”成
分は前記表1により、X成分に対応している。従って、
B1成分だけを発生するような磁性体(2)の形状、位
置は次の手順で決まる6m=2.3.4の成分を発生し
ないように、取付角π 111 度ψをψ=2−(±i±s”j)に選ぶと(1)式でc
os+*(φ−ψ)=Oとなるから、B22. Bコ2
.BoB”、B”、B44.B”、Bs2.B”の成分
はなくなることになり、残りはB”、 B21. B5
1B4自 1311である。
B32 B33 B41B”、 B”l B”
、 B’l、 B”、 Bs2. BszコこでB”成
分は前記表1により、X成分に対応している。従って、
B1成分だけを発生するような磁性体(2)の形状、位
置は次の手順で決まる6m=2.3.4の成分を発生し
ないように、取付角π 111 度ψをψ=2−(±i±s”j)に選ぶと(1)式でc
os+*(φ−ψ)=Oとなるから、B22. Bコ2
.BoB”、B”、B44.B”、Bs2.B”の成分
はなくなることになり、残りはB”、 B21. B5
1B4自 1311である。
また、前記磁性体(2〉の一方の端面角度をαとした時
、もう一方の端面角度を(π−α)に選べば、即ち、Z
軸について対称な磁性体(2〉であれば、(1)式で B”oc [B3(cosa )sin’α]ニーm=
o。
、もう一方の端面角度を(π−α)に選べば、即ち、Z
軸について対称な磁性体(2〉であれば、(1)式で B”oc [B3(cosa )sin’α]ニーm=
o。
B”oc[Ps’(cosa)sin・α]ニーa=0
となり、結局、B”、B”は発生しない、最後にt3s
l−0,931=Qを満たすように、2本の磁性体(2
)の端面角度とそれらの断面積比を決める。
となり、結局、B”、B”は発生しない、最後にt3s
l−0,931=Qを満たすように、2本の磁性体(2
)の端面角度とそれらの断面積比を決める。
Bs1=0となる端面角度は33.88°、 146.
12゜117.98°である。端面角度が(33,88
°、146.12°)の磁性体(2)の断面積をA、、
(62,04,117,96°〉の磁性体(2〉の
断面積をA2とすると9”a:A1[B4(cosa3
.88°)(sin33.88°〉s]+^a[P<
(cosa2.04°)(sin82.04°〉%]=
0ム より、 冨7; to であればB 31 = Q
となる。以2 上のようにしてX成分磁性体の端面角度(α〉、取付角
度(ψ〉、断面積を決めることができた。
12゜117.98°である。端面角度が(33,88
°、146.12°)の磁性体(2)の断面積をA、、
(62,04,117,96°〉の磁性体(2〉の
断面積をA2とすると9”a:A1[B4(cosa3
.88°)(sin33.88°〉s]+^a[P<
(cosa2.04°)(sin82.04°〉%]=
0ム より、 冨7; to であればB 31 = Q
となる。以2 上のようにしてX成分磁性体の端面角度(α〉、取付角
度(ψ〉、断面積を決めることができた。
次に、第5図に上記設計案によるXシム用磁性体(2〉
の形状を示す、第5図の磁性体(2)を第1π 111 図のようにψ=1(±i±jthj)に配置すると、X
のマイナス出力(^、X<O)が発生し、各々ψ→ψ十
πとすると、Xのプラス出力(^、X>O)となる、ま
た、A、Xの出力調整は、前述の(1)式から分かるよ
うに、磁性体(2)の断面積を変えることによって可能
である。
の形状を示す、第5図の磁性体(2)を第1π 111 図のようにψ=1(±i±jthj)に配置すると、X
のマイナス出力(^、X<O)が発生し、各々ψ→ψ十
πとすると、Xのプラス出力(^、X>O)となる、ま
た、A、Xの出力調整は、前述の(1)式から分かるよ
うに、磁性体(2)の断面積を変えることによって可能
である。
以上でX成分の棒状の磁性体(2〉の構成が決まったの
で補正前に長さが同一で断面積の異なるいくつかの種類
の棒を用意しておき、選択的に用いれば良いことになる
。尚、第5図における磁性体へ であり、各断面MA+、A2の断面積比は、−:=7.
+6である。
で補正前に長さが同一で断面積の異なるいくつかの種類
の棒を用意しておき、選択的に用いれば良いことになる
。尚、第5図における磁性体へ であり、各断面MA+、A2の断面積比は、−:=7.
+6である。
そこで、本発明では、磁場の均一度11Nに先立って、
予め、X成分用の磁性体(2)が取付けられる位置に非
磁性体よりなる非磁性管(1)を取付けておくことにし
た。この非磁性管(1〉の長さは、磁性体(2)の長さ
相当分であり、この非磁性管(1)の内径は、必要とさ
れる成分の出力の絶対値によって定められる。
予め、X成分用の磁性体(2)が取付けられる位置に非
磁性体よりなる非磁性管(1)を取付けておくことにし
た。この非磁性管(1〉の長さは、磁性体(2)の長さ
相当分であり、この非磁性管(1)の内径は、必要とさ
れる成分の出力の絶対値によって定められる。
さらに、Y、ZX、ZY、XY、X2−Y”用の棒状の
磁性体(2)の構成について表2に示す。
磁性体(2)の構成について表2に示す。
上記の表2より分かるようにXとY、ZXとZY、XY
とX2 Y2とはそれぞれ同じ磁性体形状をしており
、それぞれ共用できる。また、前述ノ(X、 Y)、
(ZX、 ZY)、 (XY、 X2−Y2)4;:ツ
イテ全テに非磁性管を取付↓すておけば、補正すべき成
分の磁性体だけを選択的に用いる調整が可能である。
とX2 Y2とはそれぞれ同じ磁性体形状をしており
、それぞれ共用できる。また、前述ノ(X、 Y)、
(ZX、 ZY)、 (XY、 X2−Y2)4;:ツ
イテ全テに非磁性管を取付↓すておけば、補正すべき成
分の磁性体だけを選択的に用いる調整が可能である。
すなわち、第6図G、:(X、 Y)、 (ZX、 Z
Y)、 オJ:ヒ(XY、 X2−4”)用ノJll性
管(IA)、 (IB)、 (IC)ヲ各々均−度領域
(4〉に取付けた状態を示している。
Y)、 オJ:ヒ(XY、 X2−4”)用ノJll性
管(IA)、 (IB)、 (IC)ヲ各々均−度領域
(4〉に取付けた状態を示している。
又、上記以外の誤差成分である、X3.Y)等の成分に
ついても同様に磁性体の形状、配置を決定することがで
きる。さらに誤差成分が軸方向(Z)に関与したZl、
Z2.Z3 ・・・についても周方向に60°ピツチ、
或は30°ピッチ−1戒は15°ピツチで特定の長さの
非磁性管を各成分ごとに配置しておけば、各成分に応じ
た長さ形状の棒状の磁性体(2)を前記非磁性管内に選
択的に挿入していくことにより、磁場の均一度調整を行
うことが可能である。
ついても同様に磁性体の形状、配置を決定することがで
きる。さらに誤差成分が軸方向(Z)に関与したZl、
Z2.Z3 ・・・についても周方向に60°ピツチ、
或は30°ピッチ−1戒は15°ピツチで特定の長さの
非磁性管を各成分ごとに配置しておけば、各成分に応じ
た長さ形状の棒状の磁性体(2)を前記非磁性管内に選
択的に挿入していくことにより、磁場の均一度調整を行
うことが可能である。
[発明の効果]
以上のように、この発明によれば、誤差成分ごとに磁性
体の大きさ、配置を決定でき、かつ当該成分用の非磁性
管を取付け、この磁性体を非磁性管内に対して選択的に
取付は又は取外しできるようにしたので、均一度の調整
が簡単かつ確実にできるという効果がある。
体の大きさ、配置を決定でき、かつ当該成分用の非磁性
管を取付け、この磁性体を非磁性管内に対して選択的に
取付は又は取外しできるようにしたので、均一度の調整
が簡単かつ確実にできるという効果がある。
第1121はこの発明の一実施例による磁場補正装置を
示す断面図、第2図は第1図の側断面図、第3図および
第4図は磁性体の発生磁場を説明するための説明図、第
5図はX成分補正用磁性体の構成図、第6図は各成分補
正用磁性体の構成図、第7図は従来の磁場補正装置を示
す斜視図である。 (1)、 (1^>、 (1B)、 (IC)は非磁性
管、(2)は磁性体、(3)はコイル、(4)は均一度
領域である。 尚、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代 理 人 曽 我 道 照尾1図 昂3図 昂2図 児4図 昂6図 昂7図
示す断面図、第2図は第1図の側断面図、第3図および
第4図は磁性体の発生磁場を説明するための説明図、第
5図はX成分補正用磁性体の構成図、第6図は各成分補
正用磁性体の構成図、第7図は従来の磁場補正装置を示
す斜視図である。 (1)、 (1^>、 (1B)、 (IC)は非磁性
管、(2)は磁性体、(3)はコイル、(4)は均一度
領域である。 尚、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。 代 理 人 曽 我 道 照尾1図 昂3図 昂2図 児4図 昂6図 昂7図
Claims (1)
- 空間的に均一な磁場分布が要求されるマグネットに使
用される磁性体を用いた磁場補正装置において、主磁場
に含まれる不均一な誤差成分を補正するための前記磁性
体が、各成分に応じ特定の位置に配置されるように円周
方向の特定位置に配置された複数本の非磁性管の内部に
対して選択的に取付けおよび取外しができるようにした
ことを特徴とする磁場補正装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174171A JPH0339676A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 磁場補正装置 |
GB9014707A GB2235777B (en) | 1989-07-07 | 1990-07-03 | Passive shim arrangement for nuclear magnetic resonance |
DE19904021345 DE4021345C2 (de) | 1989-07-07 | 1990-07-05 | Passive Kompensationsanordnung zur Erhöhung der Homogenität eines Magnetfeldes |
US07/972,715 US5235284A (en) | 1989-07-07 | 1992-11-06 | Passive shim arrangement for nuclear magnetic resonance |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1174171A JPH0339676A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 磁場補正装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0339676A true JPH0339676A (ja) | 1991-02-20 |
Family
ID=15973948
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1174171A Pending JPH0339676A (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 磁場補正装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0339676A (ja) |
DE (1) | DE4021345C2 (ja) |
GB (1) | GB2235777B (ja) |
Families Citing this family (6)
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JPH0816695B2 (ja) * | 1990-11-09 | 1996-02-21 | 三菱電機株式会社 | 磁場補正装置 |
JPH04328477A (ja) * | 1991-04-30 | 1992-11-17 | Mitsubishi Electric Corp | 電磁石装置 |
JPH04347137A (ja) * | 1991-05-27 | 1992-12-02 | Mitsubishi Electric Corp | 磁場補正装置 |
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JP3618910B2 (ja) * | 1996-07-10 | 2005-02-09 | 三菱電機株式会社 | 電磁石装置の磁界補正方法 |
Citations (3)
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JPS63177506A (ja) * | 1986-12-03 | 1988-07-21 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | 磁石の受動的なシム作用を行なう方法と装置 |
JPH01165106A (ja) * | 1987-12-22 | 1989-06-29 | Asahi Chem Ind Co Ltd | 磁界発生装置 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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