JPH0336501A - プラスチックレンズ - Google Patents
プラスチックレンズInfo
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- JPH0336501A JPH0336501A JP1171579A JP17157989A JPH0336501A JP H0336501 A JPH0336501 A JP H0336501A JP 1171579 A JP1171579 A JP 1171579A JP 17157989 A JP17157989 A JP 17157989A JP H0336501 A JPH0336501 A JP H0336501A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、耐久性、基材に対する密着性などに優れた反
射防止膜を備えたプラスチックレンズに関する。
射防止膜を備えたプラスチックレンズに関する。
従来技術とその問題点
プラスチックレンズ基材上に金属化合物の蒸着薄膜層か
らなる反射防止膜を形成することは、公知である。
らなる反射防止膜を形成することは、公知である。
例えば、特開昭５３−３７０４５号および特開昭６１−
４９１０１号は、ＳｉＯ＋ＳｉＯ２からなる反射防止膜
を蒸着により形成したプラスチックレンズを開示してい
る。しかしながら、この形式の反射防止膜は、（イ）特
定のプラスチック（ポリメチルメタクリレートなど）に
対するＳｉＯの密着性が不十分である、（ロ）ＳｉＯ膜
形成時の条件（真空度、蒸着速度など）により得られる
膜の物性が変動し、特に屈折率が大巾に変動する、など
の問題点を有している。
４９１０１号は、ＳｉＯ＋ＳｉＯ２からなる反射防止膜
を蒸着により形成したプラスチックレンズを開示してい
る。しかしながら、この形式の反射防止膜は、（イ）特
定のプラスチック（ポリメチルメタクリレートなど）に
対するＳｉＯの密着性が不十分である、（ロ）ＳｉＯ膜
形成時の条件（真空度、蒸着速度など）により得られる
膜の物性が変動し、特に屈折率が大巾に変動する、など
の問題点を有している。
その他にも、２種以上の化合物からなる複層の蒸着薄膜
層を設けたプラスチックレンズが知られているが、レン
ズに対する密着性、屈折率、耐久性などの点で満足すべ
きものとは、言い難い。
層を設けたプラスチックレンズが知られているが、レン
ズに対する密着性、屈折率、耐久性などの点で満足すべ
きものとは、言い難い。
問題点を解決するための手段
本発明者は、上記の如き技術の現状に鑑みて研究を重ね
た結果、従来使用されたことのない化合物からなる２つ
の層を組合わせることにより、従来技術の問題点が大巾
に軽減されることを見出した。
た結果、従来使用されたことのない化合物からなる２つ
の層を組合わせることにより、従来技術の問題点が大巾
に軽減されることを見出した。
すなわち、本発明は、プラスチック基材上にＣｅＦ３層
およびＭｇＦ２層を順次設けたことを特徴とするプラス
チックレンズに係る。
およびＭｇＦ２層を順次設けたことを特徴とするプラス
チックレンズに係る。
本発明で使用するプラスチック基材としては、従来プラ
スチックレンズの基材として知られているものが、全て
使用可能である。具体的には、ポリビスフェニルカーボ
ネートなどのポリカーボネート類、ポリメチルメタクリ
レートなどの（メタ）アクリル樹脂類１、ポリスチレン
などが例示される。
スチックレンズの基材として知られているものが、全て
使用可能である。具体的には、ポリビスフェニルカーボ
ネートなどのポリカーボネート類、ポリメチルメタクリ
レートなどの（メタ）アクリル樹脂類１、ポリスチレン
などが例示される。
本発明でプラスチック基材上に形成される第一の層は、
ＣｅＦ３薄膜である。このＣｅＦ３薄膜は、その屈折率
（ｎ）と膜厚（ｄ ： ｎｍ）との積が、ｎｄ−１７〜
１９６の範囲内であることを必要とする。ｎｄを最小限
１７とするのは、光の波長４００ｎｍで透過率を最大と
するために、ＣｅＦ３薄膜の厚さが１０ｎｍ必要となる
ためである。またｎｄを最大限１９６とするのは、光の
波長２０００ｎｍで透過率を最大とするために、ＣｅＦ
３薄膜の厚さが１１９ｎｍ必要となるためである。
ＣｅＦ３薄膜である。このＣｅＦ３薄膜は、その屈折率
（ｎ）と膜厚（ｄ ： ｎｍ）との積が、ｎｄ−１７〜
１９６の範囲内であることを必要とする。ｎｄを最小限
１７とするのは、光の波長４００ｎｍで透過率を最大と
するために、ＣｅＦ３薄膜の厚さが１０ｎｍ必要となる
ためである。またｎｄを最大限１９６とするのは、光の
波長２０００ｎｍで透過率を最大とするために、ＣｅＦ
３薄膜の厚さが１１９ｎｍ必要となるためである。
本発明で第一の層であるＣｅＦ３薄膜上に形成される第
二の層は、ＭｇＦ２層膜である。このＭｇＦ２薄膜の場
合には、その屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ ： ｎｍ）との
積が、ｎｄ−７５〜５００の範囲内であることを必要と
する。光の波長が３００〜２０００ｎｍの範囲で透過率
を最大とするためには、例えば、３００ｎｍの光では、
ｎｗｌ、３８、ｄ−５４、ｎｄ＝７４．５となり、２０
００ｎｍの光では、ｎ−１，３８、ｄ−３６２、ｎｄ−
４９９，６となるためである。
二の層は、ＭｇＦ２層膜である。このＭｇＦ２薄膜の場
合には、その屈折率（ｎ）と膜厚（ｄ ： ｎｍ）との
積が、ｎｄ−７５〜５００の範囲内であることを必要と
する。光の波長が３００〜２０００ｎｍの範囲で透過率
を最大とするためには、例えば、３００ｎｍの光では、
ｎｗｌ、３８、ｄ−５４、ｎｄ＝７４．５となり、２０
００ｎｍの光では、ｎ−１，３８、ｄ−３６２、ｎｄ−
４９９，６となるためである。
本発明による反射防止膜をプラスチック基材上に形成す
るに際しては、第−層および第二層ともに、常法に従っ
て、例えば、真空蒸着法により形成すれば良い。
るに際しては、第−層および第二層ともに、常法に従っ
て、例えば、真空蒸着法により形成すれば良い。
発明の効果
本発明によれば、光学的特性、密着性、耐久性などに優
れた反射防止膜を備えたプラスチックレンズが得られる
。
れた反射防止膜を備えたプラスチックレンズが得られる
。
実施例
以下に実施例を示し、本発明の特徴とするところをより
一層明確にする。
一層明確にする。
実施例１〜２
常法に従って、ポリビスフェニルカーボネートからなる
基材（実施例１）およびポリメチルメタクリレートから
なる基材（実施例２）に下記の特性を有するＣｅＦ３層
およびＭｇＦ２層からなる反射防止膜を形成した。
基材（実施例１）およびポリメチルメタクリレートから
なる基材（実施例２）に下記の特性を有するＣｅＦ３層
およびＭｇＦ２層からなる反射防止膜を形成した。
ＣｅＦ３層：厚さ一１５ｎｍ、屈折率＝１．６５、ｎｄ
＝２４．８ ＭｇＦ２層：厚さ一１４０ｎｍ、屈折率■１．３８、ｎ
ｄ−１９３，２ 実施例１による反射防止膜の波長と透過率との関係を曲
線Ｉ−ｌとして第１図に、また実施例２によるそれを曲
線ｎ−１として第２図にそれぞれ示す。
＝２４．８ ＭｇＦ２層：厚さ一１４０ｎｍ、屈折率■１．３８、ｎ
ｄ−１９３，２ 実施例１による反射防止膜の波長と透過率との関係を曲
線Ｉ−ｌとして第１図に、また実施例２によるそれを曲
線ｎ−１として第２図にそれぞれ示す。
さらに、比較のために、未コートの場合の波長と透過率
との関係を曲線ｎ−２および曲線ｌｌ−２として併せて
示す。
との関係を曲線ｎ−２および曲線ｌｌ−２として併せて
示す。
第１図および第２図に示す結果から、本発明による反射
防止膜を備えたプラスチックレンズの優れた光学的特性
（広い波長域での高い透過率）が明らかである。
防止膜を備えたプラスチックレンズの優れた光学的特性
（広い波長域での高い透過率）が明らかである。
また、ブスチックレンズの反射膜表面にセロファンテー
プをはり付け、引剥がし試験を３回行なったが、外観に
異常はなく、膜の剥離は認められなかった。
プをはり付け、引剥がし試験を３回行なったが、外観に
異常はなく、膜の剥離は認められなかった。
さらに、反射防止膜を設けたプラスチックレンズに対し
、“温度６０℃、湿度８０％で３時間保持−室温で２時
間保持→温度−２０℃で３時間保持−室温で０．５時間
保持”という耐久性試験を行なった後、上記と同様の引
剥がし試験を３回行なったが、やはり外観に異常はなく
、膜の剥離も認められなかった。
、“温度６０℃、湿度８０％で３時間保持−室温で２時
間保持→温度−２０℃で３時間保持−室温で０．５時間
保持”という耐久性試験を行なった後、上記と同様の引
剥がし試験を３回行なったが、やはり外観に異常はなく
、膜の剥離も認められなかった。
比較例１〜２
常法に従って、ポリビスフェニルカーボネートからなる
基材（比較例１）およびポリメチメメタクリレートから
なる基材（比較例２）に下記の特性を有するＳｉ０層お
よびＳｉＯ２層からなる反射防止膜を形成した。
基材（比較例１）およびポリメチメメタクリレートから
なる基材（比較例２）に下記の特性を有するＳｉ０層お
よびＳｉＯ２層からなる反射防止膜を形成した。
Ｓｉ０層：厚さ＝３Ｑｎｍ、屈折率＝１．９、ｎｄ＝５
７ Ｓｉ０２層：厚さ＝８８ｎｍ、屈折率−１．４６、ｎｄ
＝１２８．４８ 比較例１による反射防止膜の波長と透過率との関係を山
線ｌｌｌ−１として、また比較例２によるそれを曲線ｍ
−２として第３図にそれぞれ示す。
７ Ｓｉ０２層：厚さ＝８８ｎｍ、屈折率−１．４６、ｎｄ
＝１２８．４８ 比較例１による反射防止膜の波長と透過率との関係を山
線ｌｌｌ−１として、また比較例２によるそれを曲線ｍ
−２として第３図にそれぞれ示す。
第１図および第２図と第３図とを対比すれば、比較例品
では、最大透過率が低く、本発明による反射防止膜を備
えたプラスチックレンズの優れた光学的特性が明らかで
ある。
では、最大透過率が低く、本発明による反射防止膜を備
えたプラスチックレンズの優れた光学的特性が明らかで
ある。
また、ＳｉＯ又は５Ｉ０２を使用する場合には、ｎの管
理が困難であり、蒸着膜の密着性も劣っていた。
理が困難であり、蒸着膜の密着性も劣っていた。
比較例３
常法に従って、ポリメチメメタクリレートからなる基材
に下記の特性を有するＳｉ０層およびＭｇＦ２層からな
る反射防止膜を形成した。
に下記の特性を有するＳｉ０層およびＭｇＦ２層からな
る反射防止膜を形成した。
Ｓｉ０層；厚さ一２０ｎｍ、屈折率＝１．９、ｄ−３８
ＭｇＦ２層：厚さ＝９３ｎｍ、屈折率＝１．３８、ｎｄ
＝１３５．２４ 本比較例３による反射防止膜の波長と透過率との関係を
曲線■として第４図に示す。
＝１３５．２４ 本比較例３による反射防止膜の波長と透過率との関係を
曲線■として第４図に示す。
第１図および第２図と第４図とを対比すれば、本比較例
品は、透過率が低く（換言すれば、反射防止効果が少な
く）、本発明による反射防止膜を備えたプラスチックレ
ンズの優れた光学的特性が明らかである。
品は、透過率が低く（換言すれば、反射防止効果が少な
く）、本発明による反射防止膜を備えたプラスチックレ
ンズの優れた光学的特性が明らかである。
また、得られた反射防止膜付のプラスチ・ンクレンズを
実施例１〜２と同様の耐久性試験に供したところ、膜の
一部が剥離した。
実施例１〜２と同様の耐久性試験に供したところ、膜の
一部が剥離した。
第１図および第２図は、本発明による反射防止膜を備え
たプラスチックレンズの光学的特性を示すグラフである
。 第３図および第４図は、本発明によらない反射防止膜を
備えたプラスチックレンズの光学的特性を示すグラフで
ある。 （以 上） 第 １ 図 ５！ 表（ｎｍ） 第 図 Ｓ！ −１（ｎｍ） Ｓ皮 長（ｎｍ） 第 図 ４００．０ ５００．０ ６００．０ 浪 ７００．０ ８００．０ −ｌ （ｎｍ） ９００．０
たプラスチックレンズの光学的特性を示すグラフである
。 第３図および第４図は、本発明によらない反射防止膜を
備えたプラスチックレンズの光学的特性を示すグラフで
ある。 （以 上） 第 １ 図 ５！ 表（ｎｍ） 第 図 Ｓ！ −１（ｎｍ） Ｓ皮 長（ｎｍ） 第 図 ４００．０ ５００．０ ６００．０ 浪 ７００．０ ８００．０ −ｌ （ｎｍ） ９００．０
Claims (1)
- １、プラスチック基材上にＣｅＦ＿３層およびＭｇＦ＿
２層を順次設けたことを特徴とするプラスチックレンズ
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1171579A JPH0336501A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | プラスチックレンズ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1171579A JPH0336501A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | プラスチックレンズ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0336501A true JPH0336501A (ja) | 1991-02-18 |
Family
ID=15925768
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1171579A Pending JPH0336501A (ja) | 1989-07-03 | 1989-07-03 | プラスチックレンズ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0336501A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6636417B2 (en) | 2000-06-09 | 2003-10-21 | Nec Tokin Corporation | Electric double layer capacitor and battery |
| US6813096B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-11-02 | Konica Corporation | Optical lens and optical information recording and reproducing apparatus equipped therewith |
-
1989
- 1989-07-03 JP JP1171579A patent/JPH0336501A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6636417B2 (en) | 2000-06-09 | 2003-10-21 | Nec Tokin Corporation | Electric double layer capacitor and battery |
| US6870725B2 (en) | 2000-06-09 | 2005-03-22 | Nec Tokin Corporation | Electric double layer capacitor and battery |
| US6813096B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-11-02 | Konica Corporation | Optical lens and optical information recording and reproducing apparatus equipped therewith |
| CN100412570C (zh) * | 2001-11-15 | 2008-08-20 | 柯尼卡株式会社 | 光学透镜及光信息记录再生装置 |
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