JPH0335397B2 - - Google Patents
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- JPH0335397B2 JPH0335397B2 JP28884987A JP28884987A JPH0335397B2 JP H0335397 B2 JPH0335397 B2 JP H0335397B2 JP 28884987 A JP28884987 A JP 28884987A JP 28884987 A JP28884987 A JP 28884987A JP H0335397 B2 JPH0335397 B2 JP H0335397B2
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、連続帯鋼表面処理ラインで用いら
れるコンダクタロールに関する。
れるコンダクタロールに関する。
帯鋼の例えば電気めつき処理工程において、通
電ロールとして用いられるコンダクタロールにあ
つては、そのロール面の平滑度がアークスポツト
と呼ばれるめつき異常部の発生を左右する要因の
一つとして注目される。特に、近時、ラインの高
速化、帯鋼の薄物化及び処理電流の高密度化が進
んだ結果、第９図に示されるように、ロール面Ａ
と帯鋼面Ｂとの間に介存するめつき液やスプレー
液等の液体Ｃによるハイドロプレーン現象が発現
し易い。すると、ロールと帯鋼間の均一な接触が
阻害されて接触面積が減少し、そのため電流密度
が局部的に集中し、アークスポツトが発生し易く
なると考えられている。そこで対策として、ロー
ル表面にグループ加工を施して上記液体を逃が
し、ロールと帯鋼との接触を均一にしてアークス
ポツトの発生を防止するものが提案されている
（特開昭53−43632号公報）。
電ロールとして用いられるコンダクタロールにあ
つては、そのロール面の平滑度がアークスポツト
と呼ばれるめつき異常部の発生を左右する要因の
一つとして注目される。特に、近時、ラインの高
速化、帯鋼の薄物化及び処理電流の高密度化が進
んだ結果、第９図に示されるように、ロール面Ａ
と帯鋼面Ｂとの間に介存するめつき液やスプレー
液等の液体Ｃによるハイドロプレーン現象が発現
し易い。すると、ロールと帯鋼間の均一な接触が
阻害されて接触面積が減少し、そのため電流密度
が局部的に集中し、アークスポツトが発生し易く
なると考えられている。そこで対策として、ロー
ル表面にグループ加工を施して上記液体を逃が
し、ロールと帯鋼との接触を均一にしてアークス
ポツトの発生を防止するものが提案されている
（特開昭53−43632号公報）。
また、バフ研磨仕上げや放電加工、或いはシヨ
ツトブラスト法によりロール表面粗さを一定の範
囲内に規定して、アークスポツトの発生を防止す
ることが提示されている。この種の提案として
は、例えばロール表面粗度3.0〜5.0μｍRaで且つ
カツトオフレベル1.2〜1.3μｍRaでPPI（Pears
per inch）150以上のダルロール表面形状を有す
るもの（特開昭55−85696号公報）があり、更に
また、鉄製ロール面にクロムメツキを施し、且つ
クロムメツキ表面をシヨツトブラストで梨地状に
形成したもの（特開昭48−97738号公報）等があ
る。
ツトブラスト法によりロール表面粗さを一定の範
囲内に規定して、アークスポツトの発生を防止す
ることが提示されている。この種の提案として
は、例えばロール表面粗度3.0〜5.0μｍRaで且つ
カツトオフレベル1.2〜1.3μｍRaでPPI（Pears
per inch）150以上のダルロール表面形状を有す
るもの（特開昭55−85696号公報）があり、更に
また、鉄製ロール面にクロムメツキを施し、且つ
クロムメツキ表面をシヨツトブラストで梨地状に
形成したもの（特開昭48−97738号公報）等があ
る。
しかしながら、従来は、ロール表面粗さを一定
の範囲内に規定するのに、バフ研磨やシヨツトブ
ラスト或いは放電加工など、きめ細かな制御が行
われ難い手段でロール表面を加工していた。その
ため、いずれもロール表面粗度のプロフイールが
不規則なものしか得られず、粗度の最大高さ
Rmax及び10点平均粗さRzをも任意の範囲内に
厳密に制御することはできなかつた。従つてロー
ルと帯鋼との接触面積の減少を改善して電流密度
の局部的な集中を完全に阻止することができず、
アークスポツトの発生を抑え切れないという問題
点があつた。
の範囲内に規定するのに、バフ研磨やシヨツトブ
ラスト或いは放電加工など、きめ細かな制御が行
われ難い手段でロール表面を加工していた。その
ため、いずれもロール表面粗度のプロフイールが
不規則なものしか得られず、粗度の最大高さ
Rmax及び10点平均粗さRzをも任意の範囲内に
厳密に制御することはできなかつた。従つてロー
ルと帯鋼との接触面積の減少を改善して電流密度
の局部的な集中を完全に阻止することができず、
アークスポツトの発生を抑え切れないという問題
点があつた。
この発明は、このような従来の問題点に着目し
てなされたものであり、高密度エネルギー源を用
いてロール表面粗さを所定の範囲内に正確に制御
しつつ加工し、極めて均一な粗度プロフイールの
コンダクタロールを提供することにより、帯鋼面
との接触面積を十分に確保して、上記問題点を解
決することを目的としている。
てなされたものであり、高密度エネルギー源を用
いてロール表面粗さを所定の範囲内に正確に制御
しつつ加工し、極めて均一な粗度プロフイールの
コンダクタロールを提供することにより、帯鋼面
との接触面積を十分に確保して、上記問題点を解
決することを目的としている。
上記の目的を達成するこの発明は、ロール表面
粗度が、高密度エネルギー源を用いて、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲に制御して形成されている。
粗度が、高密度エネルギー源を用いて、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲に制御して形成されている。
高密度エネルギー源から細く絞つた鋭利なビー
ムをパルス状にしてロール表面に投射すると、ビ
ームで加熱された部分の金属が溶解し、その中心
部は瞬時に気化して金属蒸気となり、その蒸気圧
力で中心部の溶解金属が吹き飛ばされて窪みが形
成される。一方、吹き飛ばされた溶融金属は窪み
の周囲に再固着して、窪み周縁を囲む形状に盛り
上がりを生じる。このようにしてコンダクタロー
ル表面に形成されるクレータの深さ、直径、盛り
上がり高さは投射される高密度エネルギーの強さ
と投射時間とを制御することにより決定される。
ムをパルス状にしてロール表面に投射すると、ビ
ームで加熱された部分の金属が溶解し、その中心
部は瞬時に気化して金属蒸気となり、その蒸気圧
力で中心部の溶解金属が吹き飛ばされて窪みが形
成される。一方、吹き飛ばされた溶融金属は窪み
の周囲に再固着して、窪み周縁を囲む形状に盛り
上がりを生じる。このようにしてコンダクタロー
ル表面に形成されるクレータの深さ、直径、盛り
上がり高さは投射される高密度エネルギーの強さ
と投射時間とを制御することにより決定される。
また、ロール円周方向のクレータ相互間の間隔
は、投射される高密度エネルギーのパルスの周波
数をロール回転速度に関連させつつ制御すること
により調節し、ロール軸方向のクレータ相互間の
間隔は、ロール自体或いは高密度エネルギーの投
射装置のロール軸方向への移動距離を制御するこ
とにより調節して、クレータの分布密度を任意に
設定することが可能である。かくして、ロール表
面に、任意の大きさに調整された多数のクレータ
が任意のピツチを保ち規則的に均一に分布して形
成される。その結果、ロール表面の中心線平均粗
さRa、最大高さRmax及び10点平均粗さRzを最
適の範囲内に調整し、ロールと帯鋼との接触を完
全に均一化させて、帯鋼面におけるアークスポツ
トの発生を効果的に防止できる。
は、投射される高密度エネルギーのパルスの周波
数をロール回転速度に関連させつつ制御すること
により調節し、ロール軸方向のクレータ相互間の
間隔は、ロール自体或いは高密度エネルギーの投
射装置のロール軸方向への移動距離を制御するこ
とにより調節して、クレータの分布密度を任意に
設定することが可能である。かくして、ロール表
面に、任意の大きさに調整された多数のクレータ
が任意のピツチを保ち規則的に均一に分布して形
成される。その結果、ロール表面の中心線平均粗
さRa、最大高さRmax及び10点平均粗さRzを最
適の範囲内に調整し、ロールと帯鋼との接触を完
全に均一化させて、帯鋼面におけるアークスポツ
トの発生を効果的に防止できる。
なお、ここに中心線平均粗さRaは、下記(1)式
及び第６図で定義され、図中、粗度中心線をＸ
線、縦倍率の方向をＹ軸とし、測定長さをＬで表
している。また、最大高さRmaxは、下記(2)式及
び第７図で定義され、10点平均粗さRzは下記(3)
式及び第８図で定義され、いずれもミクロン単位
で表される。
及び第６図で定義され、図中、粗度中心線をＸ
線、縦倍率の方向をＹ軸とし、測定長さをＬで表
している。また、最大高さRmaxは、下記(2)式及
び第７図で定義され、10点平均粗さRzは下記(3)
式及び第８図で定義され、いずれもミクロン単位
で表される。
Ra＝１／Ｌ∫L O｜Ｙ｜dL ……(1)
Rmax＝Pmax−Vmin ……(2)
Rz＝（P1＋…＋P5）−（V1＋…＋V5）／５ ……(3)
〔実施例〕
以下、この発明の実施例を、図とともに説明す
る。
る。
第１図はコンダクタロールの一実施例の概略構
成を示すもので、コンダクタロール本体１の鋼管
製胴部２の表面２Ａにクロムめつき被覆層３を有
しており、このクロムめつき被覆層の表面３Ａ
（以下、単にロール表面３Ａという）は第２図に
模式的に示すようなプロフイールに形成されてい
る。
成を示すもので、コンダクタロール本体１の鋼管
製胴部２の表面２Ａにクロムめつき被覆層３を有
しており、このクロムめつき被覆層の表面３Ａ
（以下、単にロール表面３Ａという）は第２図に
模式的に示すようなプロフイールに形成されてい
る。
すなわち、第２図において、４はロール表面３
Ａに後述するように形成された開口が略円形の比
較的深い窪み（凹部）、５はその窪み４の開口周
縁にリング状に盛り上がつた周壁（凸部）であ
り、その凹部４と凸部５とで、いわゆるクレータ
状の凹凸（以下、単にクレータという）６が、後
述するように所定の間隔で規則的に整然と形成さ
れている。
Ａに後述するように形成された開口が略円形の比
較的深い窪み（凹部）、５はその窪み４の開口周
縁にリング状に盛り上がつた周壁（凸部）であ
り、その凹部４と凸部５とで、いわゆるクレータ
状の凹凸（以下、単にクレータという）６が、後
述するように所定の間隔で規則的に整然と形成さ
れている。
この実施例のクレータ６は、高密度エネルギー
源としての例えばレーザを用いて形成されてい
る。具体的には、コンダクタロール本体１を軸回
転可能に支承し、所定の周速度で回転させつつ、
ロール表面３Ａに高密度エネルギー源として例え
ばCO2ガスレーザ装置によるレーザパルスを投射
する。すると、その高エネルギーで加熱されたロ
ール表面３Ａは、瞬時に溶融するとともに一部が
金属蒸気となり、このとき発生する蒸気圧力によ
つてロール表面３Ａの溶融金属が四周に吹き飛ば
されて、窪み４が形成される。同時に、吹き飛ば
された溶融金属は窪み４の開口周縁に固着して凝
固し、リング状に盛り上がつた周壁５が形成され
る。こうして１個のクレータ６が形成されてい
る。なお、このクレータ６の形成に際して、ロー
ル表面３Ａの反応点へのレーザパルスの投射と同
時に、酸素ガス等の補助ガスを吹きつけることに
より、一層効率良く行うことができる。
源としての例えばレーザを用いて形成されてい
る。具体的には、コンダクタロール本体１を軸回
転可能に支承し、所定の周速度で回転させつつ、
ロール表面３Ａに高密度エネルギー源として例え
ばCO2ガスレーザ装置によるレーザパルスを投射
する。すると、その高エネルギーで加熱されたロ
ール表面３Ａは、瞬時に溶融するとともに一部が
金属蒸気となり、このとき発生する蒸気圧力によ
つてロール表面３Ａの溶融金属が四周に吹き飛ば
されて、窪み４が形成される。同時に、吹き飛ば
された溶融金属は窪み４の開口周縁に固着して凝
固し、リング状に盛り上がつた周壁５が形成され
る。こうして１個のクレータ６が形成されてい
る。なお、このクレータ６の形成に際して、ロー
ル表面３Ａの反応点へのレーザパルスの投射と同
時に、酸素ガス等の補助ガスを吹きつけることに
より、一層効率良く行うことができる。
形成された窪み４の深さH1、直径Ｄ、周壁５
の盛り上がりの高さH2、従つてクレータの深さ
Ｈなどは、投射されたレーザパルスのエネルギー
の強さと投射時間とにより定まる。
の盛り上がりの高さH2、従つてクレータの深さ
Ｈなどは、投射されたレーザパルスのエネルギー
の強さと投射時間とにより定まる。
また、ロールの外周方向に隣合うクレータ６の
間隔（外周方向のピツチ間隔）は、レーザパルス
の周波数をコンダクタロール本体１の回転速度と
関連づけて制御することにより調節される。この
ように制御しつつコンダクタロール本体１を１回
転させ、ロール表面３Ａに横一列に所定のピツチ
間隔を保つて１列目の所定個数のクレータ６が形
成されている。
間隔（外周方向のピツチ間隔）は、レーザパルス
の周波数をコンダクタロール本体１の回転速度と
関連づけて制御することにより調節される。この
ように制御しつつコンダクタロール本体１を１回
転させ、ロール表面３Ａに横一列に所定のピツチ
間隔を保つて１列目の所定個数のクレータ６が形
成されている。
次いで、ロール表面３Ａへのレーザパルスの投
射位置をロール軸方向に所定距離だけ相対移動さ
せてから、１列目と同様にレーザパルスを投射
し、２列目の所定個数のクレータ６が形成されて
いる。その場合の投射位置のロール軸方向への相
対移動は、レーザパルス投射装置の方をロール軸
方向に送つてよく、反対にコンダクタロール本体
１の方をロール軸方向へ逆送りするようにしても
よい。
射位置をロール軸方向に所定距離だけ相対移動さ
せてから、１列目と同様にレーザパルスを投射
し、２列目の所定個数のクレータ６が形成されて
いる。その場合の投射位置のロール軸方向への相
対移動は、レーザパルス投射装置の方をロール軸
方向に送つてよく、反対にコンダクタロール本体
１の方をロール軸方向へ逆送りするようにしても
よい。
ロールの軸方向に隣合うクレータ６の間隔（ロ
ール軸方向のピツチ間隔Ｐ）は、コンタルタロー
ル本体１に対する上記ロール軸方向への相対移動
距離を制御することにより任意に調節される。
ール軸方向のピツチ間隔Ｐ）は、コンタルタロー
ル本体１に対する上記ロール軸方向への相対移動
距離を制御することにより任意に調節される。
このようにして、個々のクレータ６の大きさと
各クレータ間のロール外周方向及びロール軸方向
の間隔を任意に調節することにより、中心線平均
粗さRa、最大高さRmax及び10点平均粗さRzを
任意に制御したコンダクタロールを形成すること
ができる。
各クレータ間のロール外周方向及びロール軸方向
の間隔を任意に調節することにより、中心線平均
粗さRa、最大高さRmax及び10点平均粗さRzを
任意に制御したコンダクタロールを形成すること
ができる。
そこで、中心線平均粗さRa、最大高さRmax
及び10点平均粗さRzを種々に変化させた複数個
のコンダクタロールを製作して、各ロール毎に帯
鋼の電気めつき処理を実施した。そして、その処
理過程で発生した帯鋼のめつき異常部（すなわち
アークスポツト）の発生率、並びに、ロール表面
形状（表面プロフイール）の凹凸が被めつき物で
ある帯鋼の柔らかいめつき面に転写されることに
よる帯鋼めつき面の疵発生率を各ロール毎に求め
た。その結果を、第３図ないし第５図に示す。
及び10点平均粗さRzを種々に変化させた複数個
のコンダクタロールを製作して、各ロール毎に帯
鋼の電気めつき処理を実施した。そして、その処
理過程で発生した帯鋼のめつき異常部（すなわち
アークスポツト）の発生率、並びに、ロール表面
形状（表面プロフイール）の凹凸が被めつき物で
ある帯鋼の柔らかいめつき面に転写されることに
よる帯鋼めつき面の疵発生率を各ロール毎に求め
た。その結果を、第３図ないし第５図に示す。
第３図において、実線は帯鋼のめつき異常発生
率とコンダクタロール表面の中心線平均粗さRa
との関係を表し、鎖線は帯鋼めつき面の疵発生率
とコンダクタロール表面の中心線平均粗さRaと
の関係を表している。
率とコンダクタロール表面の中心線平均粗さRa
との関係を表し、鎖線は帯鋼めつき面の疵発生率
とコンダクタロール表面の中心線平均粗さRaと
の関係を表している。
また、第４図において、実線は帯鋼のめつき異
常発生率とコンダクタロール表面粗度の最大高さ
Rmaxとの関係を表し、鎖線は帯鋼のめつき面の
疵発生率とコンダクタロール表面粗度の最大高さ
Rmaxとの関係を表している。
常発生率とコンダクタロール表面粗度の最大高さ
Rmaxとの関係を表し、鎖線は帯鋼のめつき面の
疵発生率とコンダクタロール表面粗度の最大高さ
Rmaxとの関係を表している。
また第５図において、実線は帯鋼のめつき異常
発生率とコンダクタロール表面の10点平均粗さ
Rzとの関係を表し、鎖線は帯鋼のめつき面の疵
発生率とコンダクタロール表面の10点平均粗さ
Rzとの関係を表している。
発生率とコンダクタロール表面の10点平均粗さ
Rzとの関係を表し、鎖線は帯鋼のめつき面の疵
発生率とコンダクタロール表面の10点平均粗さ
Rzとの関係を表している。
第３図から明らかなように、帯鋼のめつき異常
発生率とコンダクタロール表面の中線平均粗さ
Raとの関係については、中心線平均粗さRaが
1.0μｍを下回ると急激にめつき異常発生率が増加
して、平滑面では約0.09％に達し、1.0以上4.5μｍ
以下の範囲ではめつき異常発生は全く認められ
ず、4.5μｍを越えると再びめつき異常発生率が増
加している。一方、帯鋼のめつき面の疵発生率と
コンダクタロール表面の中心線平均粗さRaとの
関係については、中心線平均粗さRaが4.0μｍ以
下ではめつき面の疵発生は全く認められないが、
Raが4.0μｍを越えると次第にめつき面の疵発生
率は増加し、例えばRa＝5.0μｍでは0.2％を越え
ている。
発生率とコンダクタロール表面の中線平均粗さ
Raとの関係については、中心線平均粗さRaが
1.0μｍを下回ると急激にめつき異常発生率が増加
して、平滑面では約0.09％に達し、1.0以上4.5μｍ
以下の範囲ではめつき異常発生は全く認められ
ず、4.5μｍを越えると再びめつき異常発生率が増
加している。一方、帯鋼のめつき面の疵発生率と
コンダクタロール表面の中心線平均粗さRaとの
関係については、中心線平均粗さRaが4.0μｍ以
下ではめつき面の疵発生は全く認められないが、
Raが4.0μｍを越えると次第にめつき面の疵発生
率は増加し、例えばRa＝5.0μｍでは0.2％を越え
ている。
また、第４図から明らかなように、帯鋼のめつ
き異常発生率とコンダクタロール表面粗度の最大
高さRmaxとの関係については、最大高さRmax
が5μｍを下回ると急激にめつき異常発生率が増
加して、平滑面では約0.04％に達し、5.0以上
60.0μｍ以下の範囲ではめつき異常発生は全く認
められず、60μｍを越えると再びめつき異常発生
率が増加している。一方、帯鋼のめつき面の疵発
生率とコンダクタロール表面粗度の最大高さ
Rmaxとの関係については、最大高さRmaxが
60.0μｍ以下ではめつき面の疵発生は全く認めら
れないが、60μｍを越えると次第にめつき面の疵
発生率は増加し、例えばRmax＝65μｍでは0.2％
を越えている。
き異常発生率とコンダクタロール表面粗度の最大
高さRmaxとの関係については、最大高さRmax
が5μｍを下回ると急激にめつき異常発生率が増
加して、平滑面では約0.04％に達し、5.0以上
60.0μｍ以下の範囲ではめつき異常発生は全く認
められず、60μｍを越えると再びめつき異常発生
率が増加している。一方、帯鋼のめつき面の疵発
生率とコンダクタロール表面粗度の最大高さ
Rmaxとの関係については、最大高さRmaxが
60.0μｍ以下ではめつき面の疵発生は全く認めら
れないが、60μｍを越えると次第にめつき面の疵
発生率は増加し、例えばRmax＝65μｍでは0.2％
を越えている。
また、第５図から明らかなように、帯鋼のめつ
き異常発生率とコンダクタロール表面の10点平均
粗さRzとの関係については、10点平均粗さRzが
4μｍを下回ると急激にめつき異常発生率が増加
して、平滑面では約0.025％に達し、4.0以上57μ
ｍ以下の範囲ではめつき異常発生は全く認められ
ず、57μｍを越えると再びめつき異常発生率増加
している。一方、帯鋼のめつき面の疵発生率とコ
ンダクタロール表面の10点平均粗さRzとの関係
については、10点平均粗さRzが50.0μｍ以下では
めつき面の疵発生は全く認められないが、50μｍ
を越えると帯鋼めつき面の疵発生率は増加して、
例えばRmax＝65μｍでは0.58％に達している。
き異常発生率とコンダクタロール表面の10点平均
粗さRzとの関係については、10点平均粗さRzが
4μｍを下回ると急激にめつき異常発生率が増加
して、平滑面では約0.025％に達し、4.0以上57μ
ｍ以下の範囲ではめつき異常発生は全く認められ
ず、57μｍを越えると再びめつき異常発生率増加
している。一方、帯鋼のめつき面の疵発生率とコ
ンダクタロール表面の10点平均粗さRzとの関係
については、10点平均粗さRzが50.0μｍ以下では
めつき面の疵発生は全く認められないが、50μｍ
を越えると帯鋼めつき面の疵発生率は増加して、
例えばRmax＝65μｍでは0.58％に達している。
以上の結果から、帯鋼表面のめつき面における
めつき異常としてのアークスポツトの発生を防止
すると共に、めつき面における疵の発生をも防止
するには、コンダクタロールの表面粗度を、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲になるように、高密度エネルギー源を利用
して、１個ずつのクレータの大きさ及び各クレー
タ間のロール外周方向とロール軸方向の間隔を厳
密に制御しつつ形成するのが良い。
めつき異常としてのアークスポツトの発生を防止
すると共に、めつき面における疵の発生をも防止
するには、コンダクタロールの表面粗度を、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲になるように、高密度エネルギー源を利用
して、１個ずつのクレータの大きさ及び各クレー
タ間のロール外周方向とロール軸方向の間隔を厳
密に制御しつつ形成するのが良い。
上記のようにコンダクタロールの表面粗度の下
限を規制することにより、コンダクタロール表面
と帯鋼表面との接触面積を十分確保してアークス
ポツトの発生を防止できる。又同時に、上記のよ
うにコンダクタロールの表面粗度の上限を規制す
ることにより、帯鋼表面の軟質なめつき面に疵を
つけてしまい、大量の不良を発生する危険をも完
全に防止できるものである。
限を規制することにより、コンダクタロール表面
と帯鋼表面との接触面積を十分確保してアークス
ポツトの発生を防止できる。又同時に、上記のよ
うにコンダクタロールの表面粗度の上限を規制す
ることにより、帯鋼表面の軟質なめつき面に疵を
つけてしまい、大量の不良を発生する危険をも完
全に防止できるものである。
なお、高密度エネルギー源として、CO2ガスレ
ーザを用いた場合を述べたが、これに限らずCO
ガスレーザのような他の気体レーザ、或いは例え
ばYAG（イツトリウム・アルミニウム・ガーネツ
ト）レーザのような固体レーザを利用することも
できる。また、上記各種レーザ以外に、例えばプ
ラズマ或いは電子ビームなど、他の高密度エネル
ギー源を用いてもよい。
ーザを用いた場合を述べたが、これに限らずCO
ガスレーザのような他の気体レーザ、或いは例え
ばYAG（イツトリウム・アルミニウム・ガーネツ
ト）レーザのような固体レーザを利用することも
できる。また、上記各種レーザ以外に、例えばプ
ラズマ或いは電子ビームなど、他の高密度エネル
ギー源を用いてもよい。
なおまた、上述の範囲に表面粗度を規制したコ
ンダクタロールは、電気めつき処理のみでなく、
鋼板の化成処理、熱処理における通電ロールとし
ても好適に利用し得るものである。
ンダクタロールは、電気めつき処理のみでなく、
鋼板の化成処理、熱処理における通電ロールとし
ても好適に利用し得るものである。
以上説明したように、この発明によれば、コン
ダクタロールの表面粗度を、高密度エネルギー源
を用いて、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲に制御して形成したため、従来は被通電物
である帯鋼の処理表面に0.01％程度の発生率で生
じていたアークスポツトと呼ばれるめつき異常部
の発生を殆ど防止できると共に、帯鋼の処理表面
の疵の発生をも防止できるという効果が得られ
る。
ダクタロールの表面粗度を、高密度エネルギー源
を用いて、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲に制御して形成したため、従来は被通電物
である帯鋼の処理表面に0.01％程度の発生率で生
じていたアークスポツトと呼ばれるめつき異常部
の発生を殆ど防止できると共に、帯鋼の処理表面
の疵の発生をも防止できるという効果が得られ
る。
第１図はこの発明のコンダクタロールの構造を
説明する部分切欠き側面図、第２図は第１図の
部分の拡大断面図、第３図、第４図、第５図はそ
れぞれこの発明のコンダクタロールの表面粗度と
被通電物としての帯鋼表面におけるめつき異常部
（アークスポツト）発生率及び帯鋼めつき面の疵
の発生率との相関関係を説明するグラフ、第６図
は中心線平均粗さRaの定義を表す図、第７図は
最大高さRmaxの定義を表す図、第８図は10点平
均粗さRzの定義を表す図、第９図は従来のコン
ダクタロールにおけるロール表面と帯鋼表面との
接触態様を説明する拡大模式図である。 １はコンダクタロール本体、２Ａはコンダクタ
ロールの胴部表面、３はクロムめつき被覆層、３
Ａはロール表面である。
説明する部分切欠き側面図、第２図は第１図の
部分の拡大断面図、第３図、第４図、第５図はそ
れぞれこの発明のコンダクタロールの表面粗度と
被通電物としての帯鋼表面におけるめつき異常部
（アークスポツト）発生率及び帯鋼めつき面の疵
の発生率との相関関係を説明するグラフ、第６図
は中心線平均粗さRaの定義を表す図、第７図は
最大高さRmaxの定義を表す図、第８図は10点平
均粗さRzの定義を表す図、第９図は従来のコン
ダクタロールにおけるロール表面と帯鋼表面との
接触態様を説明する拡大模式図である。 １はコンダクタロール本体、２Ａはコンダクタ
ロールの胴部表面、３はクロムめつき被覆層、３
Ａはロール表面である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ ロール表面粗度が、高密度エネルギー源を用
いて、 (イ) 中心線平均粗さRaは 1.0≦Ra≦4.0 (ロ) 最大高さRmaxは 5.0≦Rmax≦60.0 (ハ) 10点平均粗さRzは 4.0≦Rz≦50.0 の範囲に制御して形成されていることを特徴とす
るコンダクタロール。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28884987A JPH01129996A (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | コンダクタロール |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28884987A JPH01129996A (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | コンダクタロール |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01129996A JPH01129996A (ja) | 1989-05-23 |
| JPH0335397B2 true JPH0335397B2 (ja) | 1991-05-28 |
Family
ID=17735543
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28884987A Granted JPH01129996A (ja) | 1987-11-16 | 1987-11-16 | コンダクタロール |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01129996A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2791286B1 (fr) | 1999-03-26 | 2001-05-04 | Lorraine Laminage | Procede de fabrication de bandes en acier au carbone par coulee continue entre deux cylindres |
| US7045043B1 (en) * | 2000-07-24 | 2006-05-16 | Pohang Iron And Steel Co., Ltd. | Method of reducing a band mark of an electroplating steel sheet |
| JP2005163197A (ja) * | 2003-11-28 | 2005-06-23 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 金属被覆炭素繊維の製造方法 |
| JP4886333B2 (ja) * | 2005-03-30 | 2012-02-29 | 東レ株式会社 | 給電ローラならびにめっき被膜付きフィルムの製造装置および方法 |
| JP5000384B2 (ja) * | 2007-06-05 | 2012-08-15 | 新日本製鐵株式会社 | 連続電気めっき装置用のコンダクターロール、金属鋼帯の連続電気めっき装置、電気めっき金属鋼帯、及び表面処理鋼板 |
| JP5388659B2 (ja) * | 2009-04-02 | 2014-01-15 | 新日鉄住金エンジニアリング株式会社 | 金属箔用通電ロール |
| JP5672809B2 (ja) * | 2010-07-21 | 2015-02-18 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 通電ロールの交換要否の判定方法 |
| JP5884181B2 (ja) * | 2013-03-21 | 2016-03-15 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 通電ロールのスリップ制御方法および電気めっき鋼板の製造方法 |
-
1987
- 1987-11-16 JP JP28884987A patent/JPH01129996A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01129996A (ja) | 1989-05-23 |
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Legal Events
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|---|---|---|---|
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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