JPH0334051B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0334051B2 JPH0334051B2 JP53075305A JP7530578A JPH0334051B2 JP H0334051 B2 JPH0334051 B2 JP H0334051B2 JP 53075305 A JP53075305 A JP 53075305A JP 7530578 A JP7530578 A JP 7530578A JP H0334051 B2 JPH0334051 B2 JP H0334051B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- weight
- recording layer
- recording
- laser
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 18
- 238000007639 printing Methods 0.000 claims description 17
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 14
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 14
- 150000008049 diazo compounds Chemical class 0.000 claims description 10
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 7
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 claims description 6
- IWLBIFVMPLUHLK-UHFFFAOYSA-N azane;formaldehyde Chemical compound N.O=C IWLBIFVMPLUHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 claims description 4
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 claims description 4
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000000016 photochemical curing Methods 0.000 claims 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 7
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000004922 lacquer Substances 0.000 description 5
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000010407 anodic oxide Substances 0.000 description 4
- -1 aromatic diazonium salt Chemical class 0.000 description 4
- 125000000664 diazo group Chemical group [N-]=[N+]=[*] 0.000 description 4
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical compound OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 3
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 3
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 3
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 3
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 238000002048 anodisation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N diphenylamine Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC1=CC=CC=C1 DMBHHRLKUKUOEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M hexanoate Chemical compound CCCCCC([O-])=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000976 ink Substances 0.000 description 2
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 2
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 238000009877 rendering Methods 0.000 description 2
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 2,4,6-trimethylbenzenesulfonate Chemical compound CC1=CC(C)=C(S([O-])(=O)=O)C(C)=C1 LXFQSRIDYRFTJW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 3,7-bis(dimethylamino)phenothiazin-5-ium Chemical compound C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 RBTBFTRPCNLSDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N Nicotinamide Chemical group NC(=O)C1=CC=CN=C1 DFPAKSUCGFBDDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930040373 Paraformaldehyde Natural products 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 239000011260 aqueous acid Substances 0.000 description 1
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 150000001728 carbonyl compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N eosin Chemical compound [Na+].OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=C2C=C(Br)C(=O)C(Br)=C2OC2=C(Br)C(O)=C(Br)C=C21 YQGOJNYOYNNSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-[3-(ethylamino)-6-ethylimino-2,7-dimethylxanthen-9-yl]benzoate;hydron;chloride Chemical compound [Cl-].C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=CC(=[NH+]CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC VYXSBFYARXAAKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQBKYSPXQYHTIP-UHFFFAOYSA-N ethyl n-butylcarbamate Chemical compound CCCCNC(=O)OCC BQBKYSPXQYHTIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N formamide Substances NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- WRUGWIBCXHJTDG-UHFFFAOYSA-L magnesium sulfate heptahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.[Mg+2].[O-]S([O-])(=O)=O WRUGWIBCXHJTDG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940061634 magnesium sulfate heptahydrate Drugs 0.000 description 1
- JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N melamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(N)=N1 JDSHMPZPIAZGSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 235000010755 mineral Nutrition 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002866 paraformaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 150000008379 phenol ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- 229920000151 polyglycol Polymers 0.000 description 1
- 239000010695 polyglycol Substances 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHIQPXBZDGYJOG-UHFFFAOYSA-N sodium silicate nonahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O PHIQPXBZDGYJOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229910000406 trisodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019801 trisodium phosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000080 wetting agent Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/016—Diazonium salts or compounds
- G03F7/021—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders
- G03F7/0212—Macromolecular diazonium compounds; Macromolecular additives, e.g. binders characterised by the polymeric binder or the macromolecular additives other than the diazo resins or the polymeric diazonium compounds
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
- G03F7/2051—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source
- G03F7/2053—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser
- G03F7/2055—Exposure without an original mask, e.g. using a programmed deflection of a point source, by scanning, by drawing with a light beam, using an addressed light or corpuscular source using a laser for the production of printing plates; Exposure of liquid photohardening compositions
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Manufacture Or Reproduction Of Printing Formes (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ジアゾ化合物を含有する記録層で被
覆されたアルミニウム支持体を画線に従つてレー
ザー光で照射し、それによつて記録層に親油性又
は不溶性の画像個所を生ぜしめる平板印刷板の製
造法に関する。
覆されたアルミニウム支持体を画線に従つてレー
ザー光で照射し、それによつて記録層に親油性又
は不溶性の画像個所を生ぜしめる平板印刷板の製
造法に関する。
米国特許第3664737号明細書には、アルミニウ
ム支持体にUV感光性層、有利にはジアゾ層を有
しかつレーザーで照射される印刷板が記載されて
いる。
ム支持体にUV感光性層、有利にはジアゾ層を有
しかつレーザーで照射される印刷板が記載されて
いる。
西ドイツ国特許第2448325号及び西ドイツ国特
許出願公開第2543820号明細書には、非感光性記
録層のレーザー照射による印刷版の製法が記載さ
れており、該方法には記録層の照射個所を永続的
に親油性、又は層が既に親油性である場合には、
適当な現像液中で不溶性にすることにより成る。
支持材料としては、なかんずく陽極酸化したアル
ミニウムが挙げられる。
許出願公開第2543820号明細書には、非感光性記
録層のレーザー照射による印刷版の製法が記載さ
れており、該方法には記録層の照射個所を永続的
に親油性、又は層が既に親油性である場合には、
適当な現像液中で不溶性にすることにより成る。
支持材料としては、なかんずく陽極酸化したアル
ミニウムが挙げられる。
更に、西ドイツ国特許出願第P2725308号明細
書には、場合により陽極酸化したアルミニウムか
ら成る支持体と、ネガチブ型のジアゾニウム化合
物を含有する感光性層とを有する前増感化した印
刷版をレーザー光線で画像形成する方法が提案さ
れている。
書には、場合により陽極酸化したアルミニウムか
ら成る支持体と、ネガチブ型のジアゾニウム化合
物を含有する感光性層とを有する前増感化した印
刷版をレーザー光線で画像形成する方法が提案さ
れている。
原発明(特公昭61−48418号公報)の目的は、
陽極酸化したアルミニウムよりなる層支持体と、
酸化物層上の記録層とを有する記録材をレーザー
光線を用いて画線に従つて照射し、これにより記
録層の照射部を親油性及び/又は不溶性にし、次
いで場合により非照射記録層部を現像液で洗浄除
去する、平版印刷板を製造する方法であつて、該
方法は層重量少なくとも3g/m2の酸化物層を有
する層支持体を使用することを特徴とする。
陽極酸化したアルミニウムよりなる層支持体と、
酸化物層上の記録層とを有する記録材をレーザー
光線を用いて画線に従つて照射し、これにより記
録層の照射部を親油性及び/又は不溶性にし、次
いで場合により非照射記録層部を現像液で洗浄除
去する、平版印刷板を製造する方法であつて、該
方法は層重量少なくとも3g/m2の酸化物層を有
する層支持体を使用することを特徴とする。
本発明の課題は、感光性層を有する原発明の記
録材料の、レーザー光線に対する感度及び/又は
それによつて製造された印刷版の印刷性能を高め
ることであつた。
録材料の、レーザー光線に対する感度及び/又は
それによつて製造された印刷版の印刷性能を高め
ることであつた。
本発明は、原発明の特許請求の範囲第1項記載
の平版印刷板の製造法から出発する。本発明方法
は、ネガチブ型の光硬化性ジアゾ化合物及びアミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂を含有する記録層を使
用することを特徴とする。
の平版印刷板の製造法から出発する。本発明方法
は、ネガチブ型の光硬化性ジアゾ化合物及びアミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂を含有する記録層を使
用することを特徴とする。
本発明方法で使用するために適当であるネガチ
ブ型の光硬化性ジアゾ化合物は、特にジアゾ樹脂
とも称されるジアゾニウム塩の重縮合生成物であ
る。適当な重縮合生成物は、強酸性媒体中で芳香
族ジアゾニウム塩、有利には場合により置換され
たジフエニルアミン−4−ジアゾニウム塩と、活
性カルボニル化合物、有利にはホルムアルデヒド
との縮合により得られる。この種の生成物は、例
えば西ドイツ国特許第1292001号明細書に記載さ
れている。特に有利には、ジアゾニウム塩単位
と、非感光性の縮合性第二成分、例えば芳香族ア
ミン、フエノール、チオフエノール、フエノール
エーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化水
素、芳香族複素環式化合物及び有機酸アミドの単
位から成る共縮合生成物である。この種の縮合生
成物は、米国特許第3849392号及び同第3867147号
明細書に記載されている。更に、例えば西ドイツ
国特許第1104824号明細書に記載されているよう
なP−ベンゾキノンジアジド及びP−イミノキノ
ンジアジド型のネガチブ型のジアゾ化合物が適当
である。
ブ型の光硬化性ジアゾ化合物は、特にジアゾ樹脂
とも称されるジアゾニウム塩の重縮合生成物であ
る。適当な重縮合生成物は、強酸性媒体中で芳香
族ジアゾニウム塩、有利には場合により置換され
たジフエニルアミン−4−ジアゾニウム塩と、活
性カルボニル化合物、有利にはホルムアルデヒド
との縮合により得られる。この種の生成物は、例
えば西ドイツ国特許第1292001号明細書に記載さ
れている。特に有利には、ジアゾニウム塩単位
と、非感光性の縮合性第二成分、例えば芳香族ア
ミン、フエノール、チオフエノール、フエノール
エーテル、芳香族チオエーテル、芳香族炭化水
素、芳香族複素環式化合物及び有機酸アミドの単
位から成る共縮合生成物である。この種の縮合生
成物は、米国特許第3849392号及び同第3867147号
明細書に記載されている。更に、例えば西ドイツ
国特許第1104824号明細書に記載されているよう
なP−ベンゾキノンジアジド及びP−イミノキノ
ンジアジド型のネガチブ型のジアゾ化合物が適当
である。
アミン樹脂としては、ホルムアルデヒドと尿
素、ウレタン(カルバミド酸エステル)、アニリ
ン又はメラミンとの縮合によつて生成するアミン
−ホルムアミド樹脂が有利に使用される。この種
の縮合生成物は公知でありかつ多くの実施態様で
市販製品として得られる。適当な代表的物質は、
例えば“クンストシユトツフ−ハンドブツホ
(Kunststoff−Handbuch)”第X巻、Vieweg
und Beclser in Carl Hanser出版社、ミユンヘ
ン在、1968年に記載されている。
素、ウレタン(カルバミド酸エステル)、アニリ
ン又はメラミンとの縮合によつて生成するアミン
−ホルムアミド樹脂が有利に使用される。この種
の縮合生成物は公知でありかつ多くの実施態様で
市販製品として得られる。適当な代表的物質は、
例えば“クンストシユトツフ−ハンドブツホ
(Kunststoff−Handbuch)”第X巻、Vieweg
und Beclser in Carl Hanser出版社、ミユンヘ
ン在、1968年に記載されている。
レーザー感光性記録材料を製造するためには、
使用されるジアゾ化合物を含有しかつ陽極酸化し
たアルミニウムを被覆するために役立つ溶液にア
ミン−ホルムアルデヒド樹脂を加える。樹脂の量
は、広い限界内で変動することができる。これは
一般に使用ジアゾ化合物の重量部に対して樹脂
0.1〜10重量部である。特に良好な結果は、ジア
ゾ化合物1重量部に対して樹脂を約0.6〜6.0の重
量部の量で添加した場合に得られる。
使用されるジアゾ化合物を含有しかつ陽極酸化し
たアルミニウムを被覆するために役立つ溶液にア
ミン−ホルムアルデヒド樹脂を加える。樹脂の量
は、広い限界内で変動することができる。これは
一般に使用ジアゾ化合物の重量部に対して樹脂
0.1〜10重量部である。特に良好な結果は、ジア
ゾ化合物1重量部に対して樹脂を約0.6〜6.0の重
量部の量で添加した場合に得られる。
本発明方法で使用される記録材料の層支持体
は、公知方法で製造される。アルミニウムは陽極
酸化前に機械的、科学的又は電解的に粗面化する
のが有利である。電解的粗面化と陽極酸化を組合
せるのが、連続的方法においては特に有利である
ことが立証された。粗面化は希釈した鉱酸水溶
液、例えば塩酸又は硝酸の浴内で直流又は交流を
使用して行う。
は、公知方法で製造される。アルミニウムは陽極
酸化前に機械的、科学的又は電解的に粗面化する
のが有利である。電解的粗面化と陽極酸化を組合
せるのが、連続的方法においては特に有利である
ことが立証された。粗面化は希釈した鉱酸水溶
液、例えば塩酸又は硝酸の浴内で直流又は交流を
使用して行う。
陽極酸化は、同様に酸水溶液、例えば硫酸又は
燐酸水溶液中で、有利には直流を使用して行う。
この場合に、電流密度及び陽極酸化は、所定の範
囲内の酸化物層厚さが得られるように調整する。
層重量は少なくとも3g/m2であるべきである。
層重量の上限には制限が無いが、一般に15g/m2
を越えると実質的な改良はもはや達成されない。
層厚さが著しく大きければ、約30g/m2を越えれ
ば、付加的に屈曲の際に酸化物層内に亀裂が形成
されるという危険が生じる。約5〜12g/m2の酸
化物層重量が一般に有利である。
燐酸水溶液中で、有利には直流を使用して行う。
この場合に、電流密度及び陽極酸化は、所定の範
囲内の酸化物層厚さが得られるように調整する。
層重量は少なくとも3g/m2であるべきである。
層重量の上限には制限が無いが、一般に15g/m2
を越えると実質的な改良はもはや達成されない。
層厚さが著しく大きければ、約30g/m2を越えれ
ば、付加的に屈曲の際に酸化物層内に亀裂が形成
されるという危険が生じる。約5〜12g/m2の酸
化物層重量が一般に有利である。
本発明によるUV感光性ジアゾ層は、レーザー
照射後にアルカリ性又は酸性水溶液で又は水自体
で現像される。平版印刷板に関して公知であるよ
うなラツカーエマルジヨン又はラツカーも適当で
ある。このようなラツカーエマルジヨン及びラツ
カーは、現像及びラツカー塗布のための工程で又
は現像後に水溶液で使用することができる。
照射後にアルカリ性又は酸性水溶液で又は水自体
で現像される。平版印刷板に関して公知であるよ
うなラツカーエマルジヨン又はラツカーも適当で
ある。このようなラツカーエマルジヨン及びラツ
カーは、現像及びラツカー塗布のための工程で又
は現像後に水溶液で使用することができる。
本発明の目的にとつては、妥当な出力の短波長
レーザー、例えばアルゴン・レーザー及びクリプ
トン・レーザーが適当であり、これらはその都度
の使用ミラーに基いてUV範囲内では0.5〜約25ワ
ツトのビーム出力で又は可視範囲内では1〜25ワ
ツトのビーム出力で放射される。本発明に基き使
用される層には、染料例えばローダミン、トリフ
エミルメタン染料、例えばクリスタルバイオレツ
ト;アストラゾンオレンジ、エオシン及びメチレ
ンブルーを加えるのが有利であり、これらは放射
範囲内で強度に吸収しかつ増感化作用効果を及ぼ
す。
レーザー、例えばアルゴン・レーザー及びクリプ
トン・レーザーが適当であり、これらはその都度
の使用ミラーに基いてUV範囲内では0.5〜約25ワ
ツトのビーム出力で又は可視範囲内では1〜25ワ
ツトのビーム出力で放射される。本発明に基き使
用される層には、染料例えばローダミン、トリフ
エミルメタン染料、例えばクリスタルバイオレツ
ト;アストラゾンオレンジ、エオシン及びメチレ
ンブルーを加えるのが有利であり、これらは放射
範囲内で強度に吸収しかつ増感化作用効果を及ぼ
す。
レーザー光線は、所定のプログラムされた線状
及び/又はラスタ運動によつて制御される。コン
ピユータによるレーザー光線の制御方法及び装置
並びに光線の収束、変調及び偏向は、本発明の目
的ではない;これらは、例えば西ドイツ国特許出
願第2318133号明細書、第3頁以後、同第2344233
号明細書第8頁以後及び米国特許第3751587号、
同第3745586号、同第3747117号、同第3475760号、
同第3506779号及び第3664737号明細書に記載され
ている。
及び/又はラスタ運動によつて制御される。コン
ピユータによるレーザー光線の制御方法及び装置
並びに光線の収束、変調及び偏向は、本発明の目
的ではない;これらは、例えば西ドイツ国特許出
願第2318133号明細書、第3頁以後、同第2344233
号明細書第8頁以後及び米国特許第3751587号、
同第3745586号、同第3747117号、同第3475760号、
同第3506779号及び第3664737号明細書に記載され
ている。
層は画線に従つて1〜10ワツトのアルゴンレー
ザーで照射するのが有利である。使用される層の
その都度の感度及び吸収能力に基いて1秒当り
110m以上の速度が達成される。対物レンズでレ
ーザー光線のピントを合せることにより、直径
50μm未満の硬化したスポツトが層上に生じる。
ザーで照射するのが有利である。使用される層の
その都度の感度及び吸収能力に基いて1秒当り
110m以上の速度が達成される。対物レンズでレ
ーザー光線のピントを合せることにより、直径
50μm未満の硬化したスポツトが層上に生じる。
本発明により、表面の極めて永続的な親油性化
が行なわれる、従つて高い印刷能力を得ることが
できる。更に、レーザー照射に対する使用記録材
料の感度が特に高い。
が行なわれる、従つて高い印刷能力を得ることが
できる。更に、レーザー照射に対する使用記録材
料の感度が特に高い。
次に実施例につき本発明を説明する、例中他に
ことわりのない限り「%」は「重量%」である。
容量部として1mlが選択される場合、重量部とし
ては1gが設定されるべきである。
ことわりのない限り「%」は「重量%」である。
容量部として1mlが選択される場合、重量部とし
ては1gが設定されるべきである。
例 1
圧延光沢化したAlロールを連続的に電解的に
粗面化しかつ40℃で75秒間9A/dm2の直流で、
1リツトル当り硫酸150gを含有する水溶液中で
陽極酸化する。この際に、53g/m2の厚さの陽極
酸化物層が形成される。次いで、70℃で30秒間ポ
リビニルホスホン酸の0.25%水溶液で処理しかつ
次いで乾燥させる。引続き、3−メトキシ−ジフ
エニルアミン−4−ジアゾニウムスルフエート1
モルと4,4′−ビスメトキシメチル−ジフエニル
エーテル1モルとを85%の燐酸中40℃で縮合させ
かつメタンスルホネートとして単離することによ
り製造したジアゾ重縮合生成物0.4%、イソブタ
ノール中の60%溶液中20℃でほぼ2500mPas(cP)
の動的粘度及び2未満の酸価を有する高活性の可
塑化されていない尿素樹脂(樹脂1)0.72%及び
ローダミン6GDN(C.I.45160)0.4%のエチレング
リコールモノエチルエーテル溶液で増感化する。
粗面化しかつ40℃で75秒間9A/dm2の直流で、
1リツトル当り硫酸150gを含有する水溶液中で
陽極酸化する。この際に、53g/m2の厚さの陽極
酸化物層が形成される。次いで、70℃で30秒間ポ
リビニルホスホン酸の0.25%水溶液で処理しかつ
次いで乾燥させる。引続き、3−メトキシ−ジフ
エニルアミン−4−ジアゾニウムスルフエート1
モルと4,4′−ビスメトキシメチル−ジフエニル
エーテル1モルとを85%の燐酸中40℃で縮合させ
かつメタンスルホネートとして単離することによ
り製造したジアゾ重縮合生成物0.4%、イソブタ
ノール中の60%溶液中20℃でほぼ2500mPas(cP)
の動的粘度及び2未満の酸価を有する高活性の可
塑化されていない尿素樹脂(樹脂1)0.72%及び
ローダミン6GDN(C.I.45160)0.4%のエチレング
リコールモノエチルエーテル溶液で増感化する。
UV範囲内で主として波長363及び351nmで放
射するAr:レーザーを用いて照射出力0.8ワツト
及び記録速度100m/secで照射する。光線に曝さ
れなかつた個所を、メタケイ酸ナトリウム・9水
和物0.65%及びベンジルアルコール3.8%の水溶
液で除層する。光線に当つた個所は親油性に硬化
しておりかつ油性インキを受容する。オフセツト
印刷機で、85000枚以上の良好な印刷物が得られ
る。
射するAr:レーザーを用いて照射出力0.8ワツト
及び記録速度100m/secで照射する。光線に曝さ
れなかつた個所を、メタケイ酸ナトリウム・9水
和物0.65%及びベンジルアルコール3.8%の水溶
液で除層する。光線に当つた個所は親油性に硬化
しておりかつ油性インキを受容する。オフセツト
印刷機で、85000枚以上の良好な印刷物が得られ
る。
上記尿素樹脂の代りに、下記の同じ量の可塑化
されていない尿素樹脂を使用した場合も同じ良好
な結果を得ることができる: 樹脂:酸価3未満;ブタノール/キシレン中
の65%溶液中20℃での動的粘度約6000mPas(cP) 樹脂:酸価3未満;イソブタノール中の60%
溶液中20℃での動的粘度約650mPas(cP) 例 2 陽極酸化物層3g/m2を有するポリビニルホス
ホン酸で前処理したAl板を、例1記載と同じで
あるが、メシチレンスルホネートとして単離した
ジアゾ重縮合生成物1.0%、樹脂1.8%及びクリス
タルバイオレツト0.4%のエチレングリコールモ
ノメチルエーテル溶液で被覆する。
されていない尿素樹脂を使用した場合も同じ良好
な結果を得ることができる: 樹脂:酸価3未満;ブタノール/キシレン中
の65%溶液中20℃での動的粘度約6000mPas(cP) 樹脂:酸価3未満;イソブタノール中の60%
溶液中20℃での動的粘度約650mPas(cP) 例 2 陽極酸化物層3g/m2を有するポリビニルホス
ホン酸で前処理したAl板を、例1記載と同じで
あるが、メシチレンスルホネートとして単離した
ジアゾ重縮合生成物1.0%、樹脂1.8%及びクリス
タルバイオレツト0.4%のエチレングリコールモ
ノメチルエーテル溶液で被覆する。
可視範囲内、主として波長488及び514nmで放
射したAr・レーザーで照射出力5ワツト及び記
録速度50m/secで照射する。光線が当らなかつ
た個所を硫酸マグネシウム・7水和物6%、n−
ブロバノール20%及び非イオン性湿潤剤(エチレ
ンフエノール−ポリグリコールエーテル)0.7%
の水溶液で除層する。光線が当たつた個所は、オ
フセツト印刷機内で油性インキを受容しかつ良好
な印刷能力を有する。
射したAr・レーザーで照射出力5ワツト及び記
録速度50m/secで照射する。光線が当らなかつ
た個所を硫酸マグネシウム・7水和物6%、n−
ブロバノール20%及び非イオン性湿潤剤(エチレ
ンフエノール−ポリグリコールエーテル)0.7%
の水溶液で除層する。光線が当たつた個所は、オ
フセツト印刷機内で油性インキを受容しかつ良好
な印刷能力を有する。
例 3
陽極酸化物層10g/m2を有するAl板を下記組
成の溶液で被覆する: エチレングリコールモノメチルエーテル80重量部 及び酢酸ブチル 20重量部 中の、 1−(4′−メチル−ベンゼンスルホニルイミノ)−
2−(2″,5″−ジメチルフエニルアミノスルホニ
ル)−ベンゾキノン−(1,4)ジアジド−(4)
2重量部 及び50%のエタノール溶液中20℃での動的粘度約
450mPas(cP)及び酸価1未満を有する可塑化さ
れていない高反応性のメラミン樹脂(樹脂)
0.7重量部 主として波長406〜423nmを有するUV範囲内
の、クリプトン・イオン−レーザーを用いて、照
射出力0.9ワツト及び記録速度度80m/secで照射
する。ケイ酸ナトリウム1.3%及び燐酸三ナトリ
ウム1.2%(両者とも水不含)の水溶液で現像し
かつ良好な印刷版が得られる。
成の溶液で被覆する: エチレングリコールモノメチルエーテル80重量部 及び酢酸ブチル 20重量部 中の、 1−(4′−メチル−ベンゼンスルホニルイミノ)−
2−(2″,5″−ジメチルフエニルアミノスルホニ
ル)−ベンゾキノン−(1,4)ジアジド−(4)
2重量部 及び50%のエタノール溶液中20℃での動的粘度約
450mPas(cP)及び酸価1未満を有する可塑化さ
れていない高反応性のメラミン樹脂(樹脂)
0.7重量部 主として波長406〜423nmを有するUV範囲内
の、クリプトン・イオン−レーザーを用いて、照
射出力0.9ワツト及び記録速度度80m/secで照射
する。ケイ酸ナトリウム1.3%及び燐酸三ナトリ
ウム1.2%(両者とも水不含)の水溶液で現像し
かつ良好な印刷版が得られる。
例 4
陽極酸化物層5g/m2を有するAl板を、テト
ラヒドロフラン50重量部、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル40重量部及び酢酸ブチル10重量
部中の、85%の燐酸中で製造したパラホルムアル
デヒド及びジフエニルアミン−4−ジアゾニウム
クロリドから成る粗製縮合生成物0.4重量部、20
℃での密度1.1及び20℃の動的粘度6〜20mPas
(cP)を有するブチルウレタン及びホルムアルデ
ヒドから成る液状ウレタン樹脂1重量部及びアス
トラゾンオレンジ(C.I.48040)0.2重量部の溶液
で被覆する。
ラヒドロフラン50重量部、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル40重量部及び酢酸ブチル10重量
部中の、85%の燐酸中で製造したパラホルムアル
デヒド及びジフエニルアミン−4−ジアゾニウム
クロリドから成る粗製縮合生成物0.4重量部、20
℃での密度1.1及び20℃の動的粘度6〜20mPas
(cP)を有するブチルウレタン及びホルムアルデ
ヒドから成る液状ウレタン樹脂1重量部及びアス
トラゾンオレンジ(C.I.48040)0.2重量部の溶液
で被覆する。
可視範囲内のアルゴンレーザーを用いて照射出
力5ワツト及び記録速度60m/secで照射する。
次いで、水で現像する。
力5ワツト及び記録速度60m/secで照射する。
次いで、水で現像する。
追加の関係
特許原(特許1377919号/特公昭61−48418号)
の発明は、層重量少なくとも3g/m2の酸化物層
を有する層支持体を使用することをその主要部と
する、陽極酸化したアルミニウムよりなる層支持
体と、酸化物層上の記録層を有する記録材をレー
ザー光線を用いて画線に従つて照射し、これによ
り記録層の照射部を親油性及び/又は不溶性に
し、次いで場合により非照射記録層部を現像液で
洗浄除去する、平版印刷版を製造する方法をその
目的とするものであるが、この発明も層重量少な
くとも3g/m2の酸化物層を有する層支持体を使
用することをその主要部とし、原発明の目的であ
る平版印刷版をその目的とする方法の発明であつ
て、特許法第31条第1号に該当するものである。
の発明は、層重量少なくとも3g/m2の酸化物層
を有する層支持体を使用することをその主要部と
する、陽極酸化したアルミニウムよりなる層支持
体と、酸化物層上の記録層を有する記録材をレー
ザー光線を用いて画線に従つて照射し、これによ
り記録層の照射部を親油性及び/又は不溶性に
し、次いで場合により非照射記録層部を現像液で
洗浄除去する、平版印刷版を製造する方法をその
目的とするものであるが、この発明も層重量少な
くとも3g/m2の酸化物層を有する層支持体を使
用することをその主要部とし、原発明の目的であ
る平版印刷版をその目的とする方法の発明であつ
て、特許法第31条第1号に該当するものである。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 酸化物重量3g/m2以上を有する陽極酸化し
たアルミニウムより成る層支持体と、酸化物層上
の感光性記録層とを有する記録材料をレーザー光
線を用いて画線に従つて照射し、これにより記録
層の照射部を少なくとも親油性あるいは不溶性に
し、次いで記録層の非照射部を現像液で洗浄除去
することにより平板印刷板を製造する方法におい
て、ネガチブ型の光硬化性ジアゾ化合物及びアミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂を含有する記録層を使
用することを特徴とする、レーザー光線を用いて
平板印刷板を製造する方法。 2 酸化物層重量5〜12g/m2を有する層支持体
を使用する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 ネガチブ型のジアゾ化合物1重量部当りアミ
ン−ホルムアルデヒド樹脂0.6〜6重量部を含有
する記録層を使用する特許請求の範囲第1項記載
の方法。 4 ネガチブ型のジアゾ化合物としてジアゾニウ
ム塩縮合生成物を使用する特許請求の範囲第1項
記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE2728947A DE2728947C2 (de) | 1977-06-27 | 1977-06-27 | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mit Laserstrahlen |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5412906A JPS5412906A (en) | 1979-01-31 |
JPH0334051B2 true JPH0334051B2 (ja) | 1991-05-21 |
Family
ID=6012478
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7530578A Granted JPS5412906A (en) | 1977-06-27 | 1978-06-21 | Method of making flat printing plate by laser ray |
Country Status (19)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5412906A (ja) |
AT (1) | AT373547B (ja) |
AU (1) | AU517940B2 (ja) |
BE (1) | BE868455A (ja) |
BR (1) | BR7804019A (ja) |
CA (1) | CA1103506A (ja) |
CH (1) | CH634666A5 (ja) |
DE (1) | DE2728947C2 (ja) |
DK (1) | DK285478A (ja) |
ES (1) | ES471136A2 (ja) |
FI (1) | FI782029A (ja) |
FR (1) | FR2396336A2 (ja) |
GB (1) | GB1583329A (ja) |
IT (1) | IT7849977A0 (ja) |
NL (1) | NL7806821A (ja) |
NO (1) | NO782197L (ja) |
SE (1) | SE7807169L (ja) |
SU (1) | SU963453A3 (ja) |
ZA (1) | ZA783641B (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0784233A1 (en) | 1996-01-10 | 1997-07-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
EP1655132A2 (en) | 1996-08-06 | 2006-05-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive lithographic printing plate |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2822887A1 (de) * | 1978-05-26 | 1979-11-29 | Hoechst Ag | Lichtempfindliches aufzeichnungsmaterial und verfahren zur herstellung von reliefaufzeichnungen |
DE3581115D1 (de) * | 1984-06-08 | 1991-02-07 | Fromson H A | Verfahren zur herstellung von lithographischen druckplatten und so hergestellte druckplatten. |
GB8703376D0 (en) * | 1987-02-13 | 1987-03-18 | Vickers Plc | Printing plate precursors |
DE3716848A1 (de) * | 1987-05-20 | 1988-12-01 | Hoechst Ag | Verfahren zur bebilderung lichtempfindlichen materials |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5015603A (ja) * | 1973-06-15 | 1975-02-19 | ||
JPS50102403A (ja) * | 1974-01-17 | 1975-08-13 | ||
JPS50102401A (ja) * | 1974-01-17 | 1975-08-13 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1125160A (en) * | 1965-01-02 | 1968-08-28 | Azoplate Corp | Light-sensitive materials for use in the production of printing plates and printing plates produced therefrom |
US3396020A (en) * | 1965-11-16 | 1968-08-06 | Azoplate Corp | Planographic printing plate |
DE1522503C3 (de) * | 1967-01-24 | 1978-11-09 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Druckformen |
US3664737A (en) * | 1971-03-23 | 1972-05-23 | Ibm | Printing plate recording by direct exposure |
JPS5120922B2 (ja) * | 1971-10-07 | 1976-06-29 |
-
1977
- 1977-06-27 DE DE2728947A patent/DE2728947C2/de not_active Expired
-
1978
- 1978-05-31 GB GB24956/78A patent/GB1583329A/en not_active Expired
- 1978-06-06 AU AU36875/78A patent/AU517940B2/en not_active Expired
- 1978-06-21 JP JP7530578A patent/JPS5412906A/ja active Granted
- 1978-06-22 SE SE7807169A patent/SE7807169L/xx unknown
- 1978-06-22 IT IT7849977A patent/IT7849977A0/it unknown
- 1978-06-23 CA CA306,085A patent/CA1103506A/en not_active Expired
- 1978-06-23 NO NO782197A patent/NO782197L/no unknown
- 1978-06-23 CH CH687978A patent/CH634666A5/de not_active IP Right Cessation
- 1978-06-23 NL NL7806821A patent/NL7806821A/xx not_active Application Discontinuation
- 1978-06-26 BR BR7804019A patent/BR7804019A/pt unknown
- 1978-06-26 FR FR7818952A patent/FR2396336A2/fr active Granted
- 1978-06-26 DK DK285478A patent/DK285478A/da unknown
- 1978-06-26 ES ES471136A patent/ES471136A2/es not_active Expired
- 1978-06-26 AT AT0463578A patent/AT373547B/de not_active IP Right Cessation
- 1978-06-26 BE BE188840A patent/BE868455A/xx not_active IP Right Cessation
- 1978-06-26 ZA ZA00783641A patent/ZA783641B/xx unknown
- 1978-06-26 SU SU782630253A patent/SU963453A3/ru active
- 1978-06-26 FI FI782029A patent/FI782029A/fi not_active Application Discontinuation
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5015603A (ja) * | 1973-06-15 | 1975-02-19 | ||
JPS50102403A (ja) * | 1974-01-17 | 1975-08-13 | ||
JPS50102401A (ja) * | 1974-01-17 | 1975-08-13 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0784233A1 (en) | 1996-01-10 | 1997-07-16 | Mitsubishi Chemical Corporation | Photosensitive composition and lithographic printing plate |
EP1655132A2 (en) | 1996-08-06 | 2006-05-10 | Mitsubishi Chemical Corporation | Positive photosensitive lithographic printing plate |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CH634666A5 (en) | 1983-02-15 |
DK285478A (da) | 1978-12-28 |
FI782029A (fi) | 1978-12-28 |
SE7807169L (sv) | 1978-12-28 |
JPS5412906A (en) | 1979-01-31 |
ZA783641B (en) | 1979-06-27 |
NO782197L (no) | 1978-12-28 |
DE2728947A1 (de) | 1979-01-18 |
DE2728947C2 (de) | 1983-10-20 |
NL7806821A (nl) | 1978-12-29 |
AU3687578A (en) | 1979-12-13 |
ES471136A2 (es) | 1979-02-01 |
BE868455A (fr) | 1978-12-27 |
FR2396336A2 (fr) | 1979-01-26 |
AU517940B2 (en) | 1981-09-03 |
GB1583329A (en) | 1981-01-28 |
IT7849977A0 (it) | 1978-06-22 |
AT373547B (de) | 1984-01-25 |
ATA463578A (de) | 1983-06-15 |
FR2396336B2 (ja) | 1983-08-12 |
SU963453A3 (ru) | 1982-09-30 |
BR7804019A (pt) | 1979-04-03 |
CA1103506A (en) | 1981-06-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
SU839438A3 (ru) | Способ изготовлени офсетных форм | |
US6514656B1 (en) | Positive type image forming material | |
JP3317574B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
JPS64686B2 (ja) | ||
JPH04365048A (ja) | 感光性組成物 | |
JPH039455B2 (ja) | ||
JPH0334051B2 (ja) | ||
EP0164128B1 (en) | Process for making lithographic printing plates, and printing plates made by the process | |
JPH0251732B2 (ja) | ||
JPH0428292B2 (ja) | ||
JP2006058796A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2000098603A (ja) | 光重合性組成物及び光重合性平版印刷版 | |
JP2668609B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP2668608B2 (ja) | 感光性組成物 | |
JP3815013B2 (ja) | 感光性平版印刷版 | |
JP2007283656A (ja) | 平版印刷版原版、平版印刷版原版の製造方法、および印刷方法 | |
EP0743560A1 (en) | Printing endurance of a lithographic printing plate obtained from a diazo-based imaging element | |
JPH06348039A (ja) | 感光性平版印刷版の製版方法 | |
JP2902382B2 (ja) | 向上した感度を有するジアゾベース画像形成要素 | |
JP4819230B2 (ja) | レーザー露光用印刷版及びその製版方法 | |
JPH10268517A (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
EP2098376B1 (en) | A method for making a lithographic printing plate support | |
JP2000199950A (ja) | 画像形成材料及びそれを用いた画像形成方法 | |
JPH0683047A (ja) | ポジ型感光性組成物 | |
JP2005004035A (ja) | 平版印刷版の製版方法、及びその製法にて作製された平版印刷版 |