JPH033323A - 耐熱性複合石英ガラス管 - Google Patents

耐熱性複合石英ガラス管

Info

Publication number
JPH033323A
JPH033323A JP13844089A JP13844089A JPH033323A JP H033323 A JPH033323 A JP H033323A JP 13844089 A JP13844089 A JP 13844089A JP 13844089 A JP13844089 A JP 13844089A JP H033323 A JPH033323 A JP H033323A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tube
quartz glass
outer layer
layer
glass tube
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13844089A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2522829B2 (ja
Inventor
Akira Fujinoki
朗 藤ノ木
Toshiyuki Kato
俊幸 加藤
Hiroyuki Nishimura
裕幸 西村
Hiroshi Koiida
小飯田 浩志
Hiroshi Kimura
博至 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Quartz Products Co Ltd filed Critical Shin Etsu Quartz Products Co Ltd
Priority to JP13844089A priority Critical patent/JP2522829B2/ja
Publication of JPH033323A publication Critical patent/JPH033323A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2522829B2 publication Critical patent/JP2522829B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1415Reactant delivery systems
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B19/00Other methods of shaping glass
    • C03B19/14Other methods of shaping glass by gas- or vapour- phase reaction processes
    • C03B19/1484Means for supporting, rotating or translating the article being formed
    • C03B19/1492Deposition substrates, e.g. targets
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/02Pure silica glass, e.g. pure fused quartz
    • C03B2201/03Impurity concentration specified
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/07Impurity concentration specified
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C03GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03BMANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
    • C03B2201/00Type of glass produced
    • C03B2201/06Doped silica-based glasses
    • C03B2201/20Doped silica-based glasses doped with non-metals other than boron or fluorine

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Glass Melting And Manufacturing (AREA)
  • Glass Compositions (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、半導体ウェハーの熱処理用として有用な石英
ガラス管に関し、特に、炉心管として、半導体ウェハー
の熱処理において変形せず、ウェハーの金属類による汚
染を抑制し得る実用的に極めて望ましい耐熱性の優れた
複合石英ガラス管に関する。
〔従来の技術〕
従来、半導体ウェハーの熱処理に使用される炉心管やウ
ェハー治具類は、例えば、 tooo〜1300℃の高
温領域で変形することがなく、また処理される半導体ウ
ェハーを金属不純物、特に、炉内雰囲気でのアルカリ金
属類による汚染から防護するために高純度の石英ガラス
が用いられている。
また、近年の半導体チップの高集積化に伴って、石英ガ
ラス自体及び炉心管外からのアルカリ金属等の汚染によ
る結晶欠陥等で代表される不良発生に対し、それをより
高度に防止する要求がでてきた。かかる要求に対し、従
来使用されている天然石英ガラスでは、天然水晶を原料
とするが故に微量の不純物の含有は避けられず、また炉
心管外の、例えば、ヒータやライナー管からのアルカリ
金属元素等の汚染物質の遮蔽効果も十分ではなかった。
〔発明が解決しようとする課題〕
従って1本発明の技術的課題ないし目的は、半導体ウェ
ハーの熱処理において、アルカリ金属類等による半導体
ウェハーの汚染を効果的に防止することができ、しかも
その熱処理高温条件下にも変形することのない、炉心管
等として好適に用いられる耐熱性の優れた複合石英ガラ
ス管を提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
本発明者らは、上記技術的課題を克服する方法について
試作研究を重ねた結果、異なった特定の二種の石英ガラ
スを重層形成してなる耐熱性及び耐汚染性の優れた複合
石英ガラス管を開発した。
すなわち、本発明は、ナトリウム、カリウム及びリチウ
ムをいずれも1 ppm以下含有し、且つ1,280℃
の温度において1012′4ポイズ以上の粘度を有する
天然石英ガラスの筒体を外層とし、ナトリウム、カリウ
ム及びリチウムをいずれも0.2pp@以下並びに塩素
を500〜4 、000ppm含有する合成石英ガラス
の筒体を内層として密に一体化して成る半導体ウェハー
熱処理用耐熱性複合石英ガラス管を提供する。
しかして、本発明の複合石英ガラス管を構成する外層は
、ナトリウム、カリウム及びリチウムのそれぞれの金属
成分としての含有量がいずれもlppm以下に低減され
、且つ1280℃における粘度が、1012・4ポイズ
以上の耐熱性をもつことが重要である。それらの金属成
分類の含有量が1 ppn+を超えるとウェハーが汚染
され易くなるので好ましくない。また、上記のような耐
熱性を満足するものはウェハーの熱処理用炉心管として
好適であり、長期にわたって安全に使用し得る。
他方1本発明複合管の内層としての合成石英ガラスには
、ナトリウム、カリウム及びリチウムのそれぞれの金属
成分としての含有量が0.2ρ凹以下であって、塩素含
有量が500〜4 、 OOOppmの範囲量含有され
ることが重要である。それらの金属成分が0.2pP−
を超えると、その成分が熱処理の間に拡散し、ウェハー
が汚染されるので好ましくない。
それらの金属成分の含有量は、好ましくは0.lppm
以下である。
また、塩素量が500ppm未満であると、ヒータやラ
イナー管からのアルカリ金属元素等の遮蔽効果に劣るよ
うになり、一方、特に4,000ppmを超えると高温
における粘度が低下し、耐熱性に劣るようになるので好
ましくない。塩素量の望ましい上限は、 3,500p
pmである。
上記のような外層に用いられる天然石英ガラスは、例え
ば水晶の粉砕物を精製し、これを溶融成形することによ
り得ることができる。また、内層に用いられる高純度合
成石英ガラスは、例えば。
通常知られたスート法やゾル・ゲル法によって石英ガラ
スを製造し、これを塩素ガスあるいは塩素化剤等の雰囲
気中で熱処理することによって所定量の塩素を含むもの
として得ることができる。
また、これらの外層管と内層管の一体化は1通常知られ
た方法によって容易に製造することができる。その−例
としては、例えば、外層筒体内に複合状に挿入し得るよ
うに形成された内J’ff筒体を挿入重合し、その一端
を封止して内外両層の間隙を減圧下に保持しながら、所
定の温度にコントロールされた加熱炉内を通過させて、
その封止端から他端に向けて加熱領域を移動させること
により両層を溶融し、その接合面を審理状に一体化して
複合管を形成することができる。
このような外層と内層を一体化して形成された炉心管用
複合管は、高温条件下における機能ないし作用効果を考
慮すれば、外層を主要成分とすることが好ましく、通常
、外層:内層の肉厚が、 50〜90 : 50〜10
の範囲割合となるように形成することが実用的である。
〔作用〕 このような構成を有する本発明の複合管は、半導体ウェ
ハーの熱処理において高い耐熱変形性を有し、且つ半導
体シリコンウェハーの金属類による汚染が効果的に抑制
ないし防止できる。
〔実施例〕
次に具体例により本発明を更に詳細に説明する。
実施例 1 外層用管の調製: 高純度精製天然水晶粉を平均粒径100μmに粉砕し、
タングステンるつぼ中にて溶融し、るつぼの下部より円
筒形の治具を通じて引き出し、外径φ120mm、肉厚
6ml、長さ1000m++の天然石英管を調製した。
得られた石英管の1280℃における粘度をビームベン
ディング法にて測定したところ、1oot・4ポイズで
あった。また、この管の純度に関して含有不純物を測定
した結果は、次の通りであった。
ナトリウム  0.5PPEl カリウム   0.5ppm リチウム   0.7ppm なお、上記アルカリ金属類の測定は、原子吸光法による
。(天然外層用管1) 内層用管の調製: 高純度に精製された四塩化珪素を酸水素火炎中で火炎加
水分解し、生成した煤状シリカ微粒子を堆積して円柱状
の多孔質体を作製した。この多孔質体を、塩素:ヘリウ
ムの容量比が20 : 80の混合ガス気流中で、 t
ooo℃の温度で8時間塩素処理を施した後、塩素ガス
の導入を停止し、ヘリウムガス中で1500℃以上の高
温に保持して円柱状透明ガラスを得た。得られたガラス
体を再度1600℃以上の高温窒素雰囲気中で融解させ
、グラファイト捧を貫入させて円筒状の合成石英管とし
、該管体を旋盤で延伸加工して、外径φ110I、肉厚
4mgm、長さ1000mの合成石英管を作成した。
得られた石英管の1280℃におけるビームベンディン
グ法により測定された粘度は、1011・5ポイズであ
った。
また、管の純度測定において測定された不純物の含有量
は、次の通りであった。
ナトリウム  O,ippm以下 カリウム    0.lppm以下 リチウム    0.1pp鴎以下 塩   素    2000pp■ アルカリ金属含有量の測定は、前記と同様に原子吸光法
で、また塩素量は、硝酸銀を用いる比濁法により測定し
た。(合成内層用管1)複合管の製造; 次に、上記で得られた外層管内に内層管を挿入し、一方
の端部を溶融封止して、他端における両管の間隙を真空
装置で減圧吸引状態に保持しながら、バーナで1900
℃以上に強熱し、同時に内層管内に圧力をかけて両管の
接触面を密着一体化させつつ延伸して、外径φ110m
、肉厚3.50I11、有効長2000noの複合石英
管を製造した。この管の外層と内層との肉厚比は、約3
=2である。(複合管1)添付図面の第1図は1本発明
に係る上記複合管1の輪切り断面図を模式的に示したも
のである。
図において、透明な複合管1は、天然石英ガラス外層2
と合成石英ガラス内層3とが重合状に一体に溶融形成さ
ている。
比較例 1 比較のための外層用天然石英管の調製:天然外層用管1
の調製に用いたのと同一の高純度精製天然水晶粉をベル
ソイ法にて溶融堆積させて円筒状の石英ガラス体を作製
した。次いで、これを1600℃以上の高温窒素雰囲気
炉中で融解させ、グラファイト捧を貫入して、円筒状の
石英ガラス管とし、該石英ガラス管を旋盤にて延伸加工
して、外径φ120m、肉厚6m、長さ1000nnの
天然石英ガラス管を作成した。
得られた石英管の1280℃における粘度は、ビームベ
ンディング法にて測定したところ、xo120ポイズで
あった。これは通常、半導体の熱処理に用いられている
天然石英ガラスと同等である。また、この管の純度に関
してその不純物を測定した結果は、次の通りであった。
ナトリウム  0.5ppm カリウム   0.5ppm リチウム   0.7ppm なお、上記アルカリ金属含有量の測定は、前記と同様に
原子吸光法による。(天然外層用管2)比較のための複
合管2の製造: 上記天然外層用管2と前記合成内層用管1を用い、実施
例1と同様に操作して溶融一体化された複合管2を製造
した。
得られた管の外径はφ110I、肉厚は3.5m、有効
長は2000+mで、外層と内層との肉厚の比は、約3
:2である。
これらの複合管について、熱処理条件下での耐熱性・及
び半導体熱処理における耐金属汚染性の影響を測定した
耐熱性の測定: 各管を長さ30cmのリングに切り出し、大気中で12
80℃の温度条件下に18時間保持して管の耐熱性を検
べる。耐熱性は、その加熱の間に管が上方がら押し潰さ
れた状態に扁平化する程度、すなわち垂直方向の管径の
減少が潰れ量(fil)として表示され、その値が小さ
いほど耐熱性は良好である。
耐金属汚染性の測定; 管を清浄な炉中で1150℃の温度に200時間加熱後
、内表面l■を削り取り、50%ふっ酸で表面をエツチ
ングし、原子吸光法で純度分析を行う。
上記複合管1(実施例1)及び複合管2(比較例1)に
ついての測定結果は、他の具体例と共に。
後記第1表にまとめて示す。
比較例2〜7 次のようにして各種石英管を調製した。
天然外層用管3; 平均粒径100μmに粉砕した高純度未精製天然水晶を
タングステンるつぼ中で溶融し、そのるつぼの下部より
円筒形の治具を通じて引き出し、外径φ120mn、肉
厚6m、長さ1000mmの天然石英管を得た。
得られた石英管の1280℃の温度における粘度は、1
0”1ポイズであった。また、この管の純度に関してそ
の不純物を測定した結果は、次の通りであった・ ナトリウム  1 、2PPDl カリウム   1.lppm リチウム   1 、0ppm+ 合成内層用管2; 合成内層−層管1の場合と同様に作製した煤状シリカ微
粒子を堆積して得た円柱状の多孔質体を、ヘリウムガス
中で、1500℃以上の高温条件に保持して円柱状の透
明な合成石英ガラス体を得た。次いで、該ガラス体を再
度1600℃以上の高温窒素雰囲気中で融解させ、グラ
ファイト棒を貫入して円筒状の合成石英管を形成させた
。該管体を旋盤にて延伸加工し、外径φ1l10l1、
肉厚4m及び長さ1000mmの合成石英管を作製した
得られた石英管の1280℃におけるビームベンディン
グ法により測定された粘度は、1011・5ポイズであ
った。
また、管の純度を検べるために測定した不純物は1次の
通りであった。
ナトリウム  0.lppm以下 カリウム    0.lppm以下 リチウム    0.lppm以下 塩   素    2oo  ppm 合成合成内層用管 台成内層用管1の場合と同様に作製した煤シリカ微粒子
を堆積して得た円柱状の多孔質体を、塩素:ヘリウムの
容量比が20 : 80の混合ガス気流中で、1000
℃の温度にて8時間塩素処理を施した後、そのまま15
00℃以上の高温に保持して円柱状透明ガラスを得た。
次いで、得られたガラス体を再度1600℃以上の高温
窒素雰囲気中で融解させ、グラファイト捧を貫入させて
円筒状の合成石英管をっくり、該管体を旋盤で延伸加工
して、外径φ110■、肉厚4■、長さ11000aの
合成石英管を得た。
得られた石英管の1280℃におけるビームベンディン
グ法による粘度は、1011・5ポイズであった。
また、管の純度を測定したところ、含有不純物は、次の
通りであった。
ナトリウム  0.lppm以下 カリウム   0. lppm以下 リチウム    0.lppm以下 塩   素    4500pp+s 複合管3: (本発明外) 前記天然外層用管3と合成内層用管1の複合管複合管4
: (本発明外) 前記天然外層用管1と合成内層用管2の複合管複合管5
: (本発明外) 前記天然外層用管1と合成内層用管3の複合管なお、こ
れら両管の一体複合化は、前記複合管1の場合と実質的
に同様に操作して行った。また。
これらの複合管の外層:内層の肉厚比は、いずれも、は
メ”3:2である。
これらの各複合管及び参考のために、前記天然外層用管
1と2及び合成内層用管1の各単一管について耐熱性と
耐金属汚染性を測定した。それらの結果を前記実施例1
及び比較例1の結果と共に。
下掲第1表及び第2表にまとめた。
第   1   表 実施例 比較例 比較例 比較例 比較例 比較例1 
  12345 管No、  複合管l  u管2−!管5天然管1  
tt管管台合成管1潰量  15.1  50.8  
30.5  2.0  23.6  89.3(止) 管No。
N a (ppm) K  (ppn+) L i (ppm) 第 実施例1 複合管1 0.1以下 0.1以下 0.1以下 比較例5 複合管3 0.3 0.1 0.1 表 比較例6 複合管4 0.2 0.1 0.1 実施例2 複合管5 0.1以下 0.1以下 0.1以下 第1表より、従来の半導体熱処理に用いられている天然
管2に比べて、本発明の複合管1は、潰れ量が非常に小
さく、望ましい耐熱性を有することが判る。
更に、第2表から、複合管3はその内層の塩素量が少な
すぎるために、また複合管4は外層の純度が悪すぎるた
めに、いずれも管内が汚染される危険性が高いことが理
解できる。
〔発明の効果〕
本発明の耐熱性複合石英ガラス管は、優れた耐熱性と半
導体熱処理における耐アルカリ金属汚染性に優れ、従来
のものに比べて、遥かに長期にわたって安定に使用し得
る高い実用的価値を有する。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の複合石英ガラス管の一例の輪切り断
面図である。 図中の符号: 1・・・複合管    2・・・天然石英外層3・・・
合成石英内層

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ナトリウム、カリウム及びリチウムをいずれも1p
    pm以下含有し、且つ1,280℃の温度において10
    ^1^2^.^4ポイズ以上の粘度を有する天然石英ガ
    ラスの筒体を外層とし、ナトリウム、カリウム及びリチ
    ウムをいずれも0.2ppm以下並びに塩素を500〜
    4,000ppm含有する合成石英ガラスの筒体を内層
    として密に一体化して成る半導体ウェハー熱処理用耐熱
    性複合石英ガラス管。 2、外層:内層の肉厚が、50〜90:50〜10の範
    囲割合である請求項1記載の石英ガラス管。
JP13844089A 1989-05-31 1989-05-31 耐熱性複合石英ガラス管 Expired - Lifetime JP2522829B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13844089A JP2522829B2 (ja) 1989-05-31 1989-05-31 耐熱性複合石英ガラス管

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13844089A JP2522829B2 (ja) 1989-05-31 1989-05-31 耐熱性複合石英ガラス管

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH033323A true JPH033323A (ja) 1991-01-09
JP2522829B2 JP2522829B2 (ja) 1996-08-07

Family

ID=15222041

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13844089A Expired - Lifetime JP2522829B2 (ja) 1989-05-31 1989-05-31 耐熱性複合石英ガラス管

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2522829B2 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2045217A1 (en) * 2006-06-26 2009-04-08 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Process for producing optical fiber base and apparatus therefor

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2045217A1 (en) * 2006-06-26 2009-04-08 Shin-Etsu Chemical Company, Ltd. Process for producing optical fiber base and apparatus therefor
EP2045217A4 (en) * 2006-06-26 2010-03-24 Shinetsu Chemical Co PROCESS FOR PRODUCING OPTICAL FIBER PREFORM AND APPARATUS THEREOF

Also Published As

Publication number Publication date
JP2522829B2 (ja) 1996-08-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5922649B2 (ja) 高純度合成シリカおよびその高純度合成シリカから製造されたジグなどの製品
JP5177979B2 (ja) 半導体製造用複合石英ガラス管
JP2011528651A (ja) 窒素をドープした石英ガラスを製造する方法、及びその方法を実行するのに好適な石英ガラス粒
JP2008208017A (ja) 熔融石英ガラスおよびその製造方法
JPH02293340A (ja) 光屈折性の異なる領域を有するガラス物体の製造方法
JP2810941B2 (ja) 多角柱状シリカガラス棒の製造方法
CN101426740A (zh) 在合成玻璃质二氧化硅中的大制品的制造
JP4181226B2 (ja) 高純度、高耐熱性石英ガラスの製造方法
JPH11310423A (ja) 合成石英ガラスおよびその製造方法
JPH033323A (ja) 耐熱性複合石英ガラス管
JP3393063B2 (ja) 不純物金属遮蔽用耐熱性合成シリカガラス及びその製造方法
JPS63236723A (ja) 半導体工業用石英ガラス製品
JP3268049B2 (ja) 石英ガラス材及びその製造法
US5063181A (en) Synthetic silica glass article for dopant-diffusion process in semiconductors
JP3434945B2 (ja) ファイバ用中空シリカガラス母材の製造方法
JP2610050B2 (ja) 半導体熱処理用石英ガラス管
JP3258175B2 (ja) ノンドープ若しくはドープシリカガラス体の製造方法
JP2522830B2 (ja) 半導体熱処理用石英ガラス材料及びその製造方法
JP3327364B2 (ja) シリカガラス加工品の製造方法
JP3114936B2 (ja) 高耐熱性合成石英ガラス
JP2777855B2 (ja) 半導体熱処理用複合石英ガラス管
JPS6272537A (ja) 高純度石英ガラスの製造方法
JP3260429B2 (ja) 石英ガラス質断熱材
JP4176872B2 (ja) 不透明シリカガラスおよびその製造方法並びにシリカガラス成形物
JP3110639B2 (ja) シリコン半導体素子熱処理治具用石英ガラス

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090531

Year of fee payment: 13

EXPY Cancellation because of completion of term