JPH0330212B2 - - Google Patents

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JPH0330212B2
JPH0330212B2 JP60027706A JP2770685A JPH0330212B2 JP H0330212 B2 JPH0330212 B2 JP H0330212B2 JP 60027706 A JP60027706 A JP 60027706A JP 2770685 A JP2770685 A JP 2770685A JP H0330212 B2 JPH0330212 B2 JP H0330212B2
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JP
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baking
magnetic
lubricant
post
temperature
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JP60027706A
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JPS61187124A (ja
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  • Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔発明の概要〕 本発明は、磁気デイスク媒体(以下「媒体」と
略す)と磁気ヘツドとの摺動時の磁気ヘツドや媒
体表面の損傷を防止するために、媒体表面の磁性
塗膜の前焼付および後焼付を遠赤外線で行うと共
に、前焼付温度を260℃以下とし、かつ前焼付温
度が後焼付温度より高くならないようにするもの
である。この方法によれば、磁性塗膜の硬度が増
し、かつ潤滑剤の含浸量(吸収量)が増え、磁気
ヘツドと媒体の摺動時の損傷が防止される。 〔産業上の利用分野〕 本発明は、磁気デイスク装置等に使用される磁
気デイスク媒体の製造方法、特にCSSタイプの浮
上磁気ヘツドを使用する磁気記録/再生装置用の
磁気デイスク媒体の製造方法に関する。 〔従来の技術〕 磁気デイスク媒体が高速回転する際の風力で磁
気ヘツドを浮上させた状態で情報の記録/再生を
行うCSS(Contact Start Stop)式の磁気記録/
再生装置は、媒体の回転開始および回転終了時に
は、浮上磁気ヘツドは媒体に接触し、摺動するこ
とになる。そのため媒体の磁気ヘツドが摺動接触
するヘツドランデイングゾーンの表面が摩耗し
て、摩耗粉が媒体の全面に飛散し、ヘツドクラツ
シユを引き起こす原因となる。 このような摺動時の摩耗を防止するために、従
来から媒体表面に潤滑剤を塗布し、磁気ヘツドス
ライダーの滑りを良くすることが行なわれてい
る。ところが潤滑剤を塗布すると、潤滑剤で磁気
ヘツドスライダーが媒体面に粘着し、媒体が回転
開始する際に、磁気ヘツドの支持手段であるジン
バルを破損したり、ヘツドクラツシユを招く恐れ
がある。この粘着は、潤滑剤が媒体面に大量に存
在するために起きるもので、媒体面に適度の潤滑
剤が存在している場合は発生しない。したがつて
媒体面に無数の間隙を形成して、その中に潤滑剤
を含浸させ、少量ずつ潤滑剤が表面ににじみ出す
ようにするのが有効である。 ところで従来の媒体の製造方法では、磁性塗膜
の焼付処理の条件が悪ため、磁性塗膜表面の潤滑
剤の含浸量が少なく、かつ表面固さも低いため
に、短時間に潤滑作用が消失し、かつ媒体面も損
傷し易く、磁気ヘツドの浮上量も小さい。 第5図は従来の媒体の製造方法を工程順に示す
図である。まず塗布工程1で、アルミニウムなど
の基板に磁性塗料を塗布し、次いで前焼付工程2
で熱風により前焼付処理を行う。そしてポリツシ
ユ工程3で磁性塗膜面をポリツシユ加工し、後焼
付工程4で再度温風で磁性塗膜の焼付を行なつた
後、バニツシユ工程5でバニツシユ加工して最終
仕上げする。そして単板試験工程6で、媒体とし
て欠陥が無いか、各媒体毎に単板試験が行なわれ
る。 〔発明が解決しようとする問題点〕 従来はこの前焼付および後焼付は、焼付炉に多
数の媒体を一斉に入れて、温風により行なつてい
る。そのため、充分な架橋温度が得られず、焼付
効果が不充分で、磁性塗膜の硬度が低く、ポリツ
ユ発生やバニツシユ加工の際に、表面が粗れた
り、傷が付いたりする。また温風で焼付すると、
炉内が焼付温度まで昇温するのに約1時間、焼付
時間が30分、常温まで低下するのに約1時間かか
る。このように焼付温度まで昇温するまでの時間
が長く、かつ焼付時間も長いので、磁性塗料が架
橋を起こす前に結合剤である合成樹脂が劣化する
ために、焼付後の磁性塗膜の強度が充分得られな
いものと考えられる。また潤滑剤の吸収量も更に
多い、長寿命の媒体が要請されている。 本発明の技術的課題は、従来の磁気デイスク媒
体製造方法におけるこのような問題を解消し、磁
性塗膜の強度が高く、かつ潤滑剤を充分含浸でき
る媒体を製造可能とすることにある。 〔問題点を解決するための手段〕 この問題点を解決するために講じた本発明によ
る技術的手段は、非磁性の基板に磁性塗料を塗布
して遠赤外線で前焼付を行なつた後、ポリツシユ
加工を施してから遠赤外線で後焼付を行う磁気デ
イスク媒体の製造方法であつて、 前焼付温度を260℃以下とし、かつ前焼付温度
が後焼付温度より高くならないようにする方法を
採つている。 〔作用〕 この技術的手段によれば、磁性塗膜の前焼付も
後焼付も遠赤外線で行なわれるので、従来の温風
焼付と違つて極めて短い時間に焼付を行うことが
可能で、磁性粉末の結合剤である合成樹脂の架橋
反応が短時間に進行し、合成樹脂が劣化する時間
が無いために、強度の極めて大きい磁性塗膜が得
られる。また遠赤外線による前焼付温度を遠赤外
線による後焼付温度以下とし、しかも前焼付温度
を260℃以下とすることで、潤滑剤の吸収量が増
加することが、第2図や表.1などのように実験
の結果確認された。これは前焼付温度はあまり高
過ぎない方が、間隙の数が増加するか、間隙の大
きさが大きくなるためと考えられる。このように
潤滑剤の吸収量が多いと、長期間使用することで
磁性塗膜表面の潤滑剤が消耗しても、間隙から潤
滑剤がしみ出して表面に供給されるので、潤滑剤
のもちがよく、媒体の寿命が長くなる。 〔実施例〕 次に本発明による磁気デイスク媒体の製造方法
が実際上どのように具体化されるかを実施例で説
明する。第1図は本発明による磁気デイスク媒体
の製造方法の実施例を示す工程図である。この図
から明らかなように、それぞれの工程の順序は従
来と同じであり、塗布工程1→遠赤外線による前
焼付工程2→ポリツシユ工程3→遠赤外線による
後焼付工程4→バニツシユ工程5→単板試験工程
6の順に処理される。本発明では、前焼付工程2
と後焼付4の処理条件が従来と異なる。すなわち
前焼付も後焼付も共に遠赤外線を使用して処理さ
れる。そしてその際の温度条件は、前焼付の温度
を後焼付の温度と同等かそれより低い温度で行な
われる。 第2図は前焼付温度と潤滑剤(フロロカーボ
ン)の飽和吸収量との関係を示す図で、後焼付温
度が260℃の例である。この図から明らかなよう
に、前焼付温度が、後焼付温度である260℃より
高くなると、フロロカーボンの飽和吸収量が極端
に減少し、260℃より低くなると大幅に増加して
いる。したがつて潤滑剤の吸収量を増加させるに
は、前焼付温度が後焼付温度より高くないことが
必要となる。 第3図は後焼付温度とフロロカーボンの飽和吸
収量との関係を示す図であり、前焼付温度が260
℃の例である。この図から明らかなように、後焼
付温度を変えてみても、潤滑剤の吸収量は殆ど変
化しない。 第4図は遠赤外線による前焼付時間と焼付温度
の関係を示す図で、遠赤外線で前焼付を行なつた
場合は、この図のように短時間に焼付温度まで昇
温し、少なくとも1分当たり50℃以上の速度で昇
温する。遠赤外線を使用して前焼付を行なうと、
このように短時間に焼付温度に達し、磁性粉末の
結合剤である合成樹脂が短時間に架橋反応を起こ
すので、合成樹脂が劣化するようなことはなく、
磁性塗膜の強度が向上する。 また第4図のの順に、前焼付温度が次第
に低下している。表.1は、この3つの実施例に
ついて、潤滑剤であるフロロカーボン(商標)の
飽和吸収量を測定した結果である。この表からも
明らかなように、前焼付温度が低いほど潤滑剤の
吸収量が増えている。したがつて、第2図の結果
と勘案すると、前焼付温度は、260℃程度以下と
することが必要である。
【表】 表.2は、遠赤外線を使用し前焼付温度および
後焼付温度を変えた場合、並びに従来の温風焼付
の場合の、磁性塗膜の強度を示す。
〔発明の効果〕
以上のように本発明よれば、前焼付温度を後焼
付温度以下とするとともに、前焼付温度を260℃
以下とし、かつ遠赤外線を使用して焼付処理する
ことで、潤滑剤の飽和吸収量が増加する。そのた
め経時的に潤滑剤が消耗しても、磁性塗膜の間隙
中から次々と潤滑剤がにじみ出して補充されるの
で、長期にわたつて最適の潤滑剤を磁性塗膜表面
に供給することができ、ヘツドクラツシユやジン
バルの損傷を未然に防止することができる。また
潤滑剤によつて摩耗を制御できることに加えて、
遠赤外線で短時間に前焼付処理することで、結合
剤である合成樹脂の架橋が短時間に進行し、充分
な強度が得られ、表面加工などの際に傷が付いた
りすることが防止される。赤外の前焼付で未反応
部分を残してフロロカーボンを吸収させ、最後の
焼付で架橋硬化させることによつて好適な媒体が
得られる。さらに遠赤外線を使用することで、前
焼付および後焼付に関連する所要時間が大幅に短
縮されるため、連続的に焼付処理でき、媒体製造
の自動化も容易に行なえる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による磁気デイスク媒体の製造
方法を工程順に示す図、第2図は前焼付温度とフ
ロロカーボンの飽和吸収量の関係を示す図、第3
図は後焼付温度とフロロカーボンの飽和吸収量の
関係を示す図、第4図は前焼付処理の焼付時間と
焼付温度との関係を示す図、第5図は従来の磁気
デイスク媒体の製造方法の工程を示す図である。 図において、1は磁性塗料の塗布工程、21は
遠赤外線による前焼付工程、3はポリツユ工程、
41は遠赤外線による後焼付工程、5はバニツシ
ユ工程をそれぞれ示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 非磁性の基板に磁性塗料を塗布して遠赤外線
    で前焼付を行なつた後、ポリツシユ加工を施して
    から遠赤外線で後焼付を行う磁気デイスク媒体の
    製造方法であつて、 前焼付温度を260℃以下とし、かつ前焼付温度
    が後焼付温度より高くならないようにすることを
    特徴とする磁気デイスク媒体の製造方法。
JP2770685A 1985-02-15 1985-02-15 磁気デイスク媒体の製造方法 Granted JPS61187124A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2770685A JPS61187124A (ja) 1985-02-15 1985-02-15 磁気デイスク媒体の製造方法

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JP2770685A JPS61187124A (ja) 1985-02-15 1985-02-15 磁気デイスク媒体の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS61187124A JPS61187124A (ja) 1986-08-20
JPH0330212B2 true JPH0330212B2 (ja) 1991-04-26

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ID=12228435

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JP2770685A Granted JPS61187124A (ja) 1985-02-15 1985-02-15 磁気デイスク媒体の製造方法

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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5136235A (ja) * 1974-06-04 1976-03-27 Dainippon Toryo Kk Suiseitoryonotosoho
JPS5283202A (en) * 1975-12-30 1977-07-12 Fujitsu Ltd Production of magnetic recording medium
JPS57189341A (en) * 1980-12-27 1982-11-20 Fujitsu Ltd Formation of coating film of magnetic recording medium

Patent Citations (3)

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JPS57189341A (en) * 1980-12-27 1982-11-20 Fujitsu Ltd Formation of coating film of magnetic recording medium

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JPS61187124A (ja) 1986-08-20

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