JPH03295039A - 光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、音声９画像、情報などの保存、記録再生をす
るのに好適な光ディスクに関する。

〔従来の技術〕

光ディスクは、サーボトランク用などの溝状または穴状
の凹凸を有するガラス、透明プラスチックなどの透明レ
プリカ基板上に、記録用金属膜を形成した処理基板２枚
を、記録用金属膜を向かい合わせにして一定間隔で接着
剤を用いて貼り合わせて形成されている。この光ディス
クに対し、記録する情報量の増大や処理速度の高速化な
どの要求が、近年急速に高まりつつある。この要求を満
足させるためには、記憶容量を増大し、かつ高速でディ
スクを回転させる必要がある。

しかし、従来の光ディスクにおいては、製造作業性の簡
素化、低コスト化などの理由により、上記処理基板を熱
可塑性ホットメルト系接着剤で貼り合わせて作製されて
いた。そのため、（１）貼り合わせ時の熱や圧力などに
より、ディスクに反りなどの変形が発生しやす＜、（２
）また、高速回転時には弾性変形が生じやす＜、（３）
さらに。

高温、高湿の雰囲気下では変形や剥がれが生じる。

などの問題があった。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の目的は、上述した従来技術における問題点を解
消するものであって、高速アクセス、高転送速度などの
高速回転を行っても塑性２弾性変形や剥離などが生じな
い、高剛性で高性能の信頼性の高い光ディスクを提供す
ることにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記本発明の目的を達成するために、使用する接着剤と
して、常温で固化または反応硬化し、接着剤層の二次転
移温度（Ｔｇ）が１００℃以上となる接着剤を用いるも
のである。接着剤層のＴｇが１００℃以上になるもので
あれば本発明の目的を達成することかでき、特に接着剤
の種類や成分組成範囲を限定するものではない。

本発明の光ディスクに用いられる接着剤としては９例え
ば、エポキシ接着剤、アクリル接着剤。

ウレタン接着剤、シリコン接着剤、フェノール接着剤、
メラミン接着剤、ポリエステル接着剤、酢酸ビニル接着
剤、エチレン・酢酸ビニル接着剤。

ポリイミド接着剤、ポリオレフィン接着剤、セルロース
系接着剤、飽和ポリエステル接着剤、不飽和ポリエステ
ル接着剤、および、上記接着剤の複合系などが挙げられ
る。なお、接着剤層の二次転移温度が高いほど、その温
度までのガラス状態の弾性率が大きく、高剛性を示すこ
とになる。

さらに２本発明の光ディスクに用いられるレプリカ基板
は、その吸水率が０．３重量％以下であればよく、特に
その種類を限定するものではない。

例えば、ガラス基板、ポリカーボネート基板、ポリオレ
フィン基板、エポキシ基板、エポキシとスチレンの共重
合基板などを好適に用いることができる。

さらに９本発明の光ディスクに用いられる補強部材は、
その熱膨張係数が、使用するレプリカ基板の熱膨張係数
の５０％変位以内であればよく、特にその種類を限定す
るものではない。例えば。

ＡＱ、ガラス、金属、およびガラス繊維２合成繊維、ア
スベストまたはガラスピーズなどを充填した複合強化プ
ラスチック（フェノール、ユリア。

メラミン、ポリエステル、ジアリルフタレート。

エポキシ、ケイ素またはアクリル樹脂等）などを好適に
用いることができる。

〔作用〕

上述した条件範囲の接着剤、レプリカ基板、および補強
部材を用いることにより、高速回転時の弾性変形および
高温、高湿雰囲気下での吸湿や熱膨張率の違いによる光
ディスクの変形や剥がれなどを低減もしくは、それをほ
とんど無くすることができる。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を挙げ２図面を引用して亡らに
詳ｒａ＋に説明する。

（実施例１） 第１図に示す断面構造の光ディスクを得るために、第１
表に示す構造の各種の熱可塑性樹脂を用いて２片面に凹
凸形状の案内溝やピントなどの情第１表 軸信号が形成されたレプリカ基板１（外径＝３００ａｍ
、中心孔径：　３５ｎ＋ｍ、厚さ：　１．２ｍｕ＋）を
射出成形法により作製した。ついで２作製したレプリカ
基板１の情報信号面に、ＳｉＮエンハンス膜２（厚さ：
　３００人）　＋　Ｔ　ｂ　Ｆ　ｅ　Ｃｏ磁性膜３（厚
さ＝３００人）、ＡΩＮ反射膜４（厚さ：　３００人）
、ＳｉＮ保護膜５（厚さ８３００人）を、スパッタ法に
より順次成膜して記録層６を有する記録層付きレプリカ
基板８を用意した。さらに、接着層７は、主剤としてエ
チレンオキサイドビスフェノールＡジグリシジルエーテ
ル、希釈剤としてブチルグリシジルエーテル、硬化剤と
してジエチルトリアミンを第２表に示すように配合し、
第２図に示す硬化物（接着剤層）の二次転移温度（Ｔｇ
）が異なる液状のエポキシ接着剤を用意した。

本発明の光ディスクは、記録層付きレプリカ基板８を２
枚、記録層６を向かい合わせにして接着剤で貼り合わせ
る。それは、一方の記録層付きレプリカ基板８の記録層
６上に接着剤をドーナツ状に滴下し、もう一方の記録層
付きレプリカ基板８第２表 を中心から徐々に貼り合わせて、室温（２５℃）で６時
間放置し硬化させた。上記各種のレプリカ基板１を用い
て作製した記録層付きレプリカ基板８と接着剤とを、そ
れぞれ組み合わせて作製した光ディスクを、８０℃９５
％ＲＨの条件下で１０００時間（ｈ）放置後の光ディス
クの反りを測定した。その結果を第３表に示す。

以下余白 第３表から明らかなごとく、吸水率が０．２重量％以下
の基板と＋Ｔｇが１００℃以上となる接着剤とを組み合
わせた本発明の実施例１〜１２の光ディスクは、高温、
高湿雰囲気中でも目標とする１００μｍ以下（２５〜８
４μｍ）の反りにとどまり。

良好な結果が得られた。これに対し、比較例１〜６で示
した光ディスクは、いずれも１６０μｍ以上の反りを示
し、また基板が剥離するものもあり。

高速回転には耐えられないものであった。

なお２反りの測定方法は、径３００ｍｍの光ディスクの
外周径２８０ｍｍの位置にレーザ光を照射し。

ディスクを回転させた時の周方向での反射光の変化量に
より測定した。

（実施例２） 第３図に示す断面構造の光ディスクを得るために、第１
表の１で示す構造のポリオレフィン樹脂と、ビスフェノ
ールＡポリカーボネート樹脂（分子量：　１５０００）
を用いて、実施例１と同様にしてレプリカ基板１を作製
し、さらに４層から成る記録層６を、レプリカ基板１上
に形成させた記録層付きレプリカ基板８を用意し、補強
部材９（外径＝３００＋ａｍ　、中心孔径：　３５ｍ１
Ｌ厚さ：　０．５ｍｍ）は、上記２種の樹脂からなる射
出成形円板およびビスフェノールＡグリシジルエーテル
と無水へキサヒドロフタル酸の５０　：　５０の混合物
に、径８μｍのガラス繊維を１０％添加して加熱硬化さ
せた注形円板を用意し、さらに接着層７の形成には第２
表の３，４で示される配合量の接着剤を用意した。

本実施例において作製する光ディスクは、上記の記録層
付きレプリカ基板８を２枚、記録層６を向かい合わせに
して補強部材９を介して接着剤を用いて貼り合わせる。

これは、まず一方の記録層付きレプリカ基板８の記録層
６上に接着剤をドーナツ状に滴下し、補強部材９を中心
部から徐々に貼り合わせ、さらにその補強部材９上に接
着剤をドーナツ状に滴下して、もう一方のディスクを中
心部から徐々に貼り合わせ、室温（２５℃）で約３時間
放置して硬化させた。

上記の各種レプリカ基板１を用いた記録層付きレプリカ
基板８と補強部材９および接着剤とを。

それぞれ組み合わせて作成した光ディスクを、　８０℃
９５％ＲＨ条件下に１０００時間（ｈ）放置後、実施例
１と同様にして反りを測定した。その結果を第４表に示
す。

第４表から明らかなごとく、レプリカ基板の熱膨張係数
の５０％変位以内の補強部材と、吸水率が０．３重量％
以内のレプリカ基板を、二次転移温度がｉ　ｏ　ｏ　’
ｃ以上となる接着剤を用いて貼り合わせた本発明の実施
例１３〜２０で示される光ディスクは、高温、高湿雰囲
気中においても目標とする１（１０μｍ以下（２４〜６
１μｍ）の反りに止どまるという極めて良好な結果が得
られた。これに対し。

比較例７〜１２で示される光ディスクは、いずれも１２
７μｍ以上の反りを示し、かつほとんどのものが基板剥
離するというものであり、全く高速回転には耐えられな
いものであった。

以下余白 〔発明の効果〕 以上詳細に説明したごとく９本発明の光ディスクは、二
次転移温度の高い接着剤と低吸水率の基板あるいは熱膨
張率が基板と同等の補強部材を用いることによって、光
ディスクの弾性率や剛性を顕著に向上させることができ
るので、高速回転に対応できる高性能で信頼性の高い光
ディスクが得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例１〜１２において例示した光デ
ィスクの断面構造を示す模式図、第２図は接着剤の希釈
剤添加量と二次転移温度との関係を示すグラフ、第３図
は本発明の実施例１３〜２ｏにおいて例示した光ディス
クの断面構造を示す模式図である。 １・　レプリカ基板、　　２・・ＳｉＮエンハンス膜、
３−ＴｂＦｅＣｏ磁性膜、４＝−ＡＱＮ反射膜、５・Ｓ
ｉＮ保脛膜　　　６パ記録層、 ７・・接着層、　　　８・・・記録層付きレプリカ基板
。 ９・補強部材。 Ａ７．・Ｊり射線 ｚｔ行ｉｎ　＝　Ｌ＝’ カ茅Ｔ、支、 ２　厘） 射道本Ｏ１（ｕｌ、　’７ｐ　）

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、情報パターン面に単層もしくは多層の記録膜を形成
   したレプリカ基板の一対を、上記情報パターン面を向か
   い合わせにして配置し接着剤層を介して貼り合わせて成
   る光ディスクにおいて、上記接着剤層の二次転移温度（
   Ｔｇ）が１００℃以上であることを特徴とする光ディス
   ク。 ２、請求の範囲第１項において、レプリカ基板の吸水率
   が０．２重量％以下であることを特徴とする光ディスク
   。 ３、情報パターン面に単層もしく多層の記録膜を形成し
   たレプリカ基板の一対を、上記情報パターン面を向かい
   合わせにして補強部材を介して接着剤層により貼り合わ
   せて成ることを特徴とする光ディスク。 ４、請求の範囲第３項において、補強部材の熱膨張係数
   が、レプリカ基板の熱膨張係数の５０％変位以内である
   ことを特徴とする光ディスク。 ５、請求の範囲第３項または第４項において、レプリカ
   基板の吸水率が０．４重量％以下であることを特徴とす
   る光ディスク。 ６、請求の範囲第３項、第４項または第５項において、
   接着剤層の二次転移温度（Ｔｇ）が１００℃以上である
   ことを特徴とする光ディスク。