JPH0329319Y2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0329319Y2
JPH0329319Y2 JP1984142325U JP14232584U JPH0329319Y2 JP H0329319 Y2 JPH0329319 Y2 JP H0329319Y2 JP 1984142325 U JP1984142325 U JP 1984142325U JP 14232584 U JP14232584 U JP 14232584U JP H0329319 Y2 JPH0329319 Y2 JP H0329319Y2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electrode
rotating shaft
cooling
water supply
guide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
JP1984142325U
Other languages
English (en)
Other versions
JPS6159662U (ja
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP1984142325U priority Critical patent/JPH0329319Y2/ja
Publication of JPS6159662U publication Critical patent/JPS6159662U/ja
Application granted granted Critical
Publication of JPH0329319Y2 publication Critical patent/JPH0329319Y2/ja
Expired legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

【考案の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本考案は、スパツタリング,スパツタエツチン
グ等の真空処理を行なう真空装置に於ける回転電
極装置に関する。
(従来の技術) 従来、前記真空装置に於いては、例えば実開昭
48−96236号公報に見られるように、真空室の室
壁を挿通して回転自在にスパツタリング電極等の
電極を設け、該電極の回転軸の周囲をOリングそ
の他のシール材でシールすることによりり真空室
内の真空漏れを防止している。またこの公報に
は、電極にその温度制御のための冷却水をさせる
ことが開示されている。
(考案が解決しようとする問題点) 真空装置の電極には、処理されるべき基板が取
付けられ、これを回転し乍らスパツタリング,エ
ツチング等の処理が施されるが、該基板は加熱或
いは冷却し乍らその処理を行なうことが多く、こ
のような場合、冷却パイプが電極の回転軸を通つ
て設けられるので、回転軸の冷却等のための手段
を更に設けることは難しく、そのため電極の温度
が回転軸にも伝わつてしまう。
その結果、電極の回転軸の周囲をシールするシ
ール材の温度も例えば130℃を越え、或いは−15
℃以下になり、合成樹脂で製作されることの多い
シール材は短時間で損傷し勝ちで、真空室内のリ
ーク事故を生ずる。
本考案は、冷却液を導く冷却パイプが設けられ
た回転電極をシールするシール材の電極温度によ
る損傷を防止することを目的とするものである。
(問題点を解決するための手段) 本考案では、真空室の室壁を挿通して、電極部
と中空の回転軸部とからなり、該回転軸部内に該
電極部を冷却するための冷却水供給パイプを有す
る電極を回転自在に設け、該回転軸部の周囲をO
リングその他のシール材でシールした回転電極装
置に於いて、該回転軸部内に該冷却水供給パイプ
を挿通する透孔を備え、外周に凹部を設けたガイ
ドを挿入し、該シール材と対向する箇所に該回転
軸部内壁と該ガイドの凹部とで流通空間を構成
し、該流通空間に該回転軸部の外周に装着した給
水ジヤケツトを介して冷却または加熱流体を供給
するようにした。
(作用) 真空室内の電極に基板を取付け、これにスパツ
タリングの処理を施す場合、該基板はその周囲の
ヒータにより加熱され、基板の温度は回転軸部内
をから電極部へ通る冷却水供給パイプの冷却水で
制御される。ヒータの熱で電極の回転軸の温度も
上昇するが、該電極の回転軸のシールと対向する
箇所には、外周に凹部を形成したガイドを挿通し
て該回転軸の内側に給水ジヤケツトから冷却液が
流通する空間を形成したので、伝熱面積を大きく
でき、該箇所の温度をシール材が損傷しない程度
に制御することが出来る。また基板を冷却し乍ら
処理する場合、該流通空間には温水を供給してシ
ール材が低温により硬化縮小することを防止出来
る。
(実施例) 本考案の実施例を図面につき説明するに、1は
真空室の室壁、2は該室壁1を挿通して軸受3に
より回転自在に支承した筒状のアースシールド、
4は該アースシールド2を挿通し且つこれと一体
に取付けした前方の電極部4aと後方の回転軸部
4bからなる電極を示し、該電極4の回転軸部4
bの周囲はOリング押え5,6により固定された
Oリング7,8によりシールされる。該アースシ
ールド2はこれに設けたベベルギア9を介して電
動機10に連結され、該アースシールド2が回転
されると電極4も同時に回転する。該電極4の真
空室内11側の電極部4aは、円板状に形成さ
れ、そこにスパツタリング等の処理を施す基板1
2が取付けられる。該基板12にスパツタリング
する場合、該電極部4aの周囲に設けたヒータ1
3により加熱し乍ら行われるが、該基板12が過
熱すると破損等の事故が生ずるので、給水ジヨイ
ントを介して冷却水を供給するパイプ15を設
け、該電極部4aの温度を制御する。スパツタリ
ングの場合、基板12は500℃程度の高温に達す
ることもあり、その熱は該電極部4aから離れた
回転軸部4bの外周のシール部にも大きく伝わる
が、筒状の回転軸部4bの該シール部と対向する
箇所には、内部に冷却水供給パイプ15を挿通す
る2つの透孔21,21を有し且つ外周に凹部1
6を形成したガイド17を挿入し、該回転軸部4
bの内側に流通空間18を構成させてそこに該回
転軸部4bの外周に装着した給水ジヤケツト19
を介して冷却液体を供給するようにし、該電極4
のシール部の温度が高まらないようにした。20
は電極4への給電部である。基板12を冷却しつ
つ処理する場合、シール部が低温化するので、給
水ジヤケツト19から流通空間18に温水を供給
してシール材7,8の低温化を防ぐ。
(考案の効果) このように本考案によるときは、電極部4aに
冷却する冷却水供給パイプ15が回転軸部4b内
を挿通した電極4に、該回転軸部4b内に該冷却
水供給パイプ15を挿通する透孔21を備え且つ
外周に凹部16を設けたガイド17を挿入し、該
回転軸部4b内壁と該凹部16とで形成される流
通空間18に外部から給水ジヤケツト19を介し
て冷却または加熱流体を供給するようにしたの
で、回転軸部4bのシール材7,8のシール箇所
を冷却水供給パイプ15の配設を妨げずに内側か
ら直接に冷却或いは加熱することができ、しかも
大面積を冷却、加熱することができ、シール材
7,8を適切な温度に制御してその耐久性を向上
させ得る等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
図面は本考案の実施例の截断側面図である。 1……室壁、4……電極、4a……電極部、4
b……回転軸部、7,8……シール材、15……
パイプ、17……ガイド、18……流通空間、1
9……給水ジヤケツト。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空室の室壁を挿通して、電極部と中空の回転
    軸部とからなり、該回転軸部内に該電極部を冷却
    するための冷却水供給パイプを有する電極を回転
    自在に設け、該回転軸部の周囲をOリングその他
    のシール材でシールした回転電極装置に於いて、
    該回転軸部内に該冷却水供給パイプを挿通する透
    孔を備え、外周に凹部を設けたガイドを挿入し、
    該シール材と対向する箇所に該回転軸部内壁と該
    カイドの凹部とで流通空間を構成し、該流通空間
    に該回転軸部の外周に装着した給水ジヤケツトを
    介して冷却または加熱流体を供給するようにして
    成る真空装置に於ける回転電極装置。
JP1984142325U 1984-09-21 1984-09-21 Expired JPH0329319Y2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984142325U JPH0329319Y2 (ja) 1984-09-21 1984-09-21

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP1984142325U JPH0329319Y2 (ja) 1984-09-21 1984-09-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS6159662U JPS6159662U (ja) 1986-04-22
JPH0329319Y2 true JPH0329319Y2 (ja) 1991-06-21

Family

ID=30700649

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1984142325U Expired JPH0329319Y2 (ja) 1984-09-21 1984-09-21

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH0329319Y2 (ja)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5812267B2 (ja) * 1979-04-04 1983-03-07 ヘミツシエ・ヴエルケ・ミユンヘン・オツト−・ベルロツヘルゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 金属セツケンの製造方法

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5220521Y2 (ja) * 1972-02-21 1977-05-12
JPS5812267U (ja) * 1981-07-14 1983-01-26 株式会社リコー 真空蒸着装置における支持体

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5812267B2 (ja) * 1979-04-04 1983-03-07 ヘミツシエ・ヴエルケ・ミユンヘン・オツト−・ベルロツヘルゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング 金属セツケンの製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
JPS6159662U (ja) 1986-04-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100250010B1 (ko) 종형 열처리장치
JPS56157238A (en) Rotary motor
CA2155286A1 (en) Seal cartridge for a rotatable magnetron
US4717338A (en) Heater drum for manufacturing process
JPH0329319Y2 (ja)
CN109423629B (zh) 圆盘类零件一次性全表面沉积用工件驱动装置及气相沉积炉
JPS6167701A (ja) 粉末混合装置
US4300292A (en) Heated mill drive system
JP2966025B2 (ja) 気相成長装置
KR950704032A (ko) 소형의 고형 물체를 코팅하기 위한 장치(Device for coating small solid bodies)
KR20220107049A (ko) 극저온 열 전달 시스템 및 이온 주입 시스템
JP2601570Y2 (ja) 磁性流体シール
CN220376769U (zh) 一种基于水冷旋转基片载台装置及真空镀膜系统
JPH0557530U (ja) 回転機軸受の油漏れ防止装置
JPH02119551A (ja) ヒートパイプ付回転電機
CN210420146U (zh) 辊轴装置
JPH0516207Y2 (ja)
JPS6133518Y2 (ja)
JPH0624612Y2 (ja) 軸封装置
JPH07126853A (ja) 回転軸
JPS6184373A (ja) 気相成長装置
JPS5624059A (en) Liquid cooling treatment apparatus of spherical shell
JP2005076758A (ja) 磁性流体シール装置
JPH068869U (ja) 軸封装置
JP2600215Y2 (ja) 射出成形機におけるノズルの温調装置