JPH0327854A - 連続鋳造鋳型用レベル計の自動設定装置 - Google Patents

連続鋳造鋳型用レベル計の自動設定装置

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JPH0327854A
JPH0327854A JP16314789A JP16314789A JPH0327854A JP H0327854 A JPH0327854 A JP H0327854A JP 16314789 A JP16314789 A JP 16314789A JP 16314789 A JP16314789 A JP 16314789A JP H0327854 A JPH0327854 A JP H0327854A
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JP
Japan
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mold
level meter
level
casting
continuous casting
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Pending
Application number
JP16314789A
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English (en)
Inventor
Kazuharu Hanazaki
一治 花崎
Tsuneo Yamada
恒夫 山田
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Sumitomo Metal Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は連続鋳造用鋳型の湯面を検出するレベル計に関
し、更に詳述すれば複数のレベル計を自動的に測定位置
に設定する装置に関する。
〔従来技術〕
連続鋳造設備においては、鋳型内の場面のプロフィール
(鋳型の鋳込幅方向における場面のレベル差の分布)を
測定することによって溶湯の流動異常を判断している。
従来、場面のプロフィールを測定するには、鋳型の鋳込
幅方向にレベル計を複数設置することによって行ってい
る。これは、鋳型の上部に距離計を固定しておき、湯面
までの距離を測定することによって行われており、距離
計として例えば、渦流式レベル計,レーザ距離計,超音
波距離計等が使用されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
ところで、レヘル計を鋳型に固定した場合は、鋳型の振
動により、測定値が変動してしまい、これを修正する必
要があるという問題がある。
また、一般に連続鋳造では鋳込中に鋳片の幅替がある為
、レベル計を鋳型に固定すると、変更された鋳込幅に対
して場面の測定位置が鋳込幅方向へ均一にならない状態
が生じ、例えば狭い幅に替えられた場合、移動される短
辺側の壁に配されたレベル計と、スライディングノズル
側に配されたレベル計とが接近する為、渦流式レヘル計
ではレベル計同士の干渉により、測定不能になる。
更にスライディングノズルからの溶湯の流出速度は鋳型
の鋳込幅と引抜き速度とによって決定される為、これが
定常的に作る場面の盛り上がりパターンも鋳込幅及び引
抜き速度の変更に応じて種々変化する。従って場面のレ
ベル差を管理するには幅替、引抜き速度の変更の都度、
測定位置を変更することが望ましいが、固定式ではそれ
が不可能である。
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、鋳型
の振動に影響されることなく、幅替及び引抜き速度の変
更に対応して測定位置及び測定状態の変更が可能な連続
鋳造鋳型用レベル計の自動設定装置の提供を目的とする
〔課題を解決するための手段〕
本発明に係る連続鋳造鋳型用レヘル計の自動設定装置は
、台車に配されたタンディッシュから流入される溶湯の
矩形断面を有する鋳型内におけるレベルを、鋳型の鋳込
幅方向の複数の位置で測定する測定位置を自動的に設定
する連続鋳造鋳型用レヘル計の自動設定装置であって、
前記台車に取付けられ、それらの先端に各別に備えたレ
ベル計を、それらの軸長方向を鉛直方向とした円筒座標
系で位置決め可能に移動する複数のマニピュレータと、
前記鋳型の鋳込幅及び鋳込速度に関するデータを入力す
る入力手段と、該入力手段の入力結果に応じて前記各マ
ニビュレータによる各レベル計の測定位置を決定する手
段とを具備することを特徴とする。
〔作用〕
鋳型の鋳込幅及び鋳込速度に関するデータが入力される
と、その入力結果に応して各レベル計の鋳型内における
測定位置が決定され、これらの測定位置に各レベル計を
位置させるように各マニピュレータが円筒座標系で駆動
される。
〔実施例〕
以下、本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に
説明する。第l図は本発明に係る連続鋳造鋳型用レベル
計の自動設定装置(以下、本発明装置という)の構威を
示す模式図、第2図は第1図の■−■線による縦断面図
である。図中1は上下に開口部を有し、長方形の断面を
有する鋳型の平面図であり、これの短辺側の壁1a, 
laはこれらの対向する方向、即ち鋳込幅方向へ移動可
能になっており、形威する鋳片の幅を変更することがで
きる。鋳型1の鋳込幅方向には図示しない同型の鋳型が
複数基並設してある。これらの鋳型の長辺側の壁と対向
する両側には、それらの長手方向を鋳型の鋳込幅方向と
したレール31.31が配設してあり、該レール31.
31上をタンディッシュ台車3が移動するようになって
いる。タンディッシュ台車3は第2図に示す如きタンデ
ィッシュ2を装備し、鋳造を行う鋳型lの上方にタンデ
ィッシュ2を適長離隔させて配した状態で停止される。
タンディッシュ2の下部には、これの底面にその上端を
開口させて、注湯ノズル(以下、ノズルという)21が
固設してあり、これの下端は鋳型1内に適長侵入させて
ある。ノズル2lは2つの吐出孔を備え、これらを夫々
鋳型lの短辺側の壁1a+laに各別に対向させて配設
される。ノズル21の中途には図示しないスライディン
グゲートが配設してあり、クンディッシュ2の注湯量を
調節するようになっている。
連続鋳造時、タンディッシュ2から鋳型l内へ注入され
る溶湯22は、鋳型1にて1次冷却されて外側部分に凝
固シェルを有する鋳片となる。この鋳片は鋳型1の下方
に設けられた2次冷却帯C図示せず)にて更に冷却され
て凝固シェルの厚さを増しながら、図示しないピンチロ
ールの回転によって引抜かれることにより下方へ送られ
、連続的に形成される。
タンディッシュ台車3には、鋳型lに臨む内側の壁3a
に渦流レベル計51〜54を各別にそれらの先端部に装
備するマニピュレータ41〜44が、鋳型1の鋳込幅方
向へ相互に適長離隔して取付けてある。
同一構造をなすマニピュレータ41〜44は円筒座標系
の動作機構を有し、例えばマニピュレータ4lはZ軸に
鉛直方向へ移動する軸41aを、またθ軸に3つの回転
部4lb,4Lc,41dを備える。マニピュレータ4
lは前記軸41aの支持部材をタンディッシュ台車3に
鉛直方向へ取付け、軸41aの下端部に回転部4lbを
同軸上に取付けてある。回転部4lb, 41c,41
dはこれらの回転軸を鉛直方向へ向けて配してあり、回
転部4lbには軸41aと直交する水平方向へ延長させ
たアーム41eの基端部が取付けてあり、該アーム41
eの先端部に前記回転部41cを取付けてある。回転部
41cには同様に水平方向へ延長させたアーム41fの
基端部が取付けてあり、該アーム41fの先端部に前記
回転部41dを取付けてある。
回転部41dの回転部分の下部には、前記渦流レベル計
51が取付けてある。
つまり、マニピュレータ41は回転部4lb及び41c
の回転により、アーム41e及び41fを水平方向へ伸
縮させて先端の渦流レベル計51を鋳型1の設定幅に応
じた適切な測定位置へ移動でき、更に軸41aの駆動に
より渦流レベル計51を鉛直方向へ移動させて湯面まで
の距離を調節することができる。また、回転部41dの
回転により、渦流レベル計5lの磁束の拡散方向を、湯
面レベルの測定に支障のない最適な方向へ向けて渦流レ
ベル計51を配設することができ、渦流レベル計同士の
干渉による測定不能を防止できる。
各マニピュレータ41〜44は、マニピュレータ制御部
9にて駆動制御されるようになっており、マニピュレー
タ制御部9には測定位置演算部8の出力信号が与えられ
ている。
測定位置演算部8には、鋳型1の操業条件を設定する操
業条件設定部10から幅替信号,引抜き速度信号,溶湯
内のノズル深さ及び吐出角度等のデータが与えてあり、
測定位置演算部8はこれらのデータに基づいて湯面プロ
フィールを測定する為の鋳型l内の鋳込幅方向における
渦流レベル計5l〜54の各測定位置を算出し、この結
果を前記マニビュレー夕制御部9及び湯面プロフィール
演算部7へ送る。
これにより、マニビュレー夕制御部9はマニピュレータ
41〜44を駆動し、渦流レベル計5l〜54を各測定
位置に移動し、設定する。
渦流レベル計51〜54の各出力信号は、信号変換器6
を介して場面プロフィール演算部7に入力してあり、該
場面プロフィール演算部7は渦流レベル計51〜54の
測定結果、並びに測定位置演算部8から与えられる測定
位置及び操業条件の各データから鋳型l内の鋳込幅方向
の場面レベルの分布データを演算出力する。
次に上述の如く構成された本発明装置の制御内容を第3
図に示すフローチャートに基づいて説明する。まず、測
定位置演算部8は操業条件設定部IOから鋳込幅W及び
引抜き速度Vcのデータを取り込み(ステップSl )
 、このデータ.に基づいて渦流レベル計51〜54の
各測定位置を後述するように算出する(ステップS2 
)。
次のステップS3ではマニピュレータ制御部9がマニピ
ュレータ4l〜44を駆動し、各渦流レベル計51〜5
4を算出された測定位置に設定する。
これにより、測定準備が完了し、ステソプs4で湯面レ
ベルの多点同時計測を開始する。
ステ・2プS5では場面プロフィール演算部7が計測デ
ータを所定タイミング毎に取込み、場面プロフィールを
演算出力する。
そしてステップS6で鋳込作業が終了したかどうかを判
定し、終了していない場合は、次に幅替の有無、即ち鋳
込幅が変更されたか否かを判定する(ステップS7 )
。鋳込幅が変更されていない場合はステップS4へ戻っ
て計測を継続して行ない、また鋳込幅が変更された場合
はステップs1へ戻り、変更された鋳込幅及び引抜き速
度を取り込んで、新たな測定位置を算出して渦流レベル
計の測定位置を変更した後、同様に計測を開始して場面
プロフィールを演算出力する。
渦流レベル計51〜54の最適測定位置は次のようにし
て決定される。ノズル21の吐出流速は鋳込幅W,引抜
き速度Vc及びその他の操業条件によって決定される為
、場面の盛り上がりパターン、即ち湯面プロフィールは
、正常時、左右対称(ノズルを中心として鋳込幅方向の
両側へ対称)であるとして次の(1)式に示す如く6次
の多項式で近似できる。
h(xl=a: ・x”(x−W/4)” (x +W
/4)”+βつまり、第4図のグラフに示すように鋳型
1内の場面は、±W/4及びOで極値をとる6次曲線と
なり、ノズル21と短辺側の壁1a, laとの各中間
、及び短辺側の壁1a, laの近傍において測定位置
■〜■を決定する。
(11式における係数α,βは次のようにして求める。
まず、短辺側の壁1aの近傍における場面の盛り上り高
さをh1とすると、これは測定位置■における湯面レベ
ルを基準レベルとした場合、測定位置■と■との測定レ
ベルの差によって得られる。
第5図は引抜き速度Vc =1.0  (m/分)以上
における短辺近傍の場面の盛り上り高さh1を種々の鋳
込幅について測定した結果を示すグラフである。この図
より短辺盛り上り高さh1は、hl=12.5 (Vc
  1.0)2+10   ・・・(21と近似できる
一方、ノズル21近傍の場面盛り上り高さをh2とする
と、これは同様に測定位置■における湯面レベルを基準
レベルとした場合、ノズル21近傍に・・・(11  
もレベル計を配設し、これの測定レベルと測定位置■に
おける測定レベルとの差によって得られる。
第6図はノズル近傍の盛り上り高さh2を種々の鋳込幅
について測定した結果を示すグラフである。ノズル近傍
の盛り上り高さh2は各鋳込幅共、引抜き速度に関係な
く略一定であり、鋳込幅が1.2m以上であれば、鋳込
幅に比例し、 h2= 2.5 (W−1200) /1000+10
  ・・・(3)と近似できる。
さて、短辺盛り上り高さh1は、(11弐より、W h,=h(     ) 2 となり、またノズリ近傍の盛り上り高さh2様に(11
式より、 h2=h(0)=β  ・・・{5} 従って β−2.5(W − 1.2) +10は同 9 x Wb 32 0.28125  xwh として求められる。
以上の如く、鋳型幅W,引抜き速度Vcが決れば、それ
に応じた正常時の場面プロフィールが(1)式により決
定される。そこで、鋳込中に変更された鋳込幅W,引抜
き速度Vcに応じて理想的な場面プロフィールを予測す
ることができ、予all+された湯面の極小値と、短辺
側の壁1aの近傍とに夫々+10} +10} レベル計51〜54の測定位置を定める。そして、予測
値と、実際に測定される場面レベルとを比較することに
より、ノズル詰り等による溶湯の流動変動が生している
か、否かを判定できるのである。
なお、引抜き速度Vcと、各レベル計の測定位置との関
係は、Vcを1.2〜2.0 m/分の範囲に限定すれ
ば、鋳込幅Wのみを考慮すれば良いことが実験的に判明
した。しかし、引抜き速度Vcが高くなると、これの影
響を無視することはできないが、2.0 〜3.0 m
/分、又は3.0〜3.5 m/分のように、引抜き速
度Vcをある狭い範囲に限定し、その範囲毎に測定位置
を、±W/2,±(W/4−7)とし、Tを実験的に求
めることとすれば十分実用可能である。
また、本実施例においては、渦流レベル計の個数を4基
としてあるが、何らこれに限定されるものではなく、増
設しても良い。
〔効果〕
以上の如く本発明に係る連続鋳造鋳型用レベル計の自動
設定装置においては、まず、レベル計がタンディッシュ
台車に固定され、鋳型に固定されていない為、鋳型の振
動の影響を受けず、測定値を修正する必要がない。また
、レベル計は、鋳込輻及び引抜き速度の変更に応じて場
面プロフィールを求める為の最適な測定位置に円筒座標
系で自動的に設定される為、常に鋳型の鋳込幅方向にお
ける測定位置を均一に設定できると共に、渦流レベル計
を用いる場合のレベル計同士の干渉による測定不能も回
避できる。これにより、場面プロフィールを連続して正
確に測定でき、高桔度に湯面レベルを管理することが可
能である等、本発明は優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第l図は本発明に係る連続鋳造鋳型用レベル計の自動設
定装置の構成を示す模式図、第2図は第1図のu−n線
による縦断面図、第3図は制御内容を示すフローチャー
ト、第4図は場面プロフィールの理想状態を示すグラフ
、第5図は短辺近傍の盛り上り高さと鋳型幅との関係を
示すグラフ、第6図はノズル近傍の盛り上り高さと鋳型
幅との関係を示すグラフである。 l・・・鋳型 2・・・タンディッシュ 3・・・タン
ディッシュ台車 7・・・場面プロフィール演算部 8
・・・測定位置演算部 9・・・マニピュレータ制御部
 1o・・・操業条件設定部 41〜44・・・マニピ
ュレータ 51〜54・・・渦流レベル計

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、台車に配されたタンディッシュから流入される溶湯
    の矩形断面を有する鋳型内におけるレベルを、鋳型の鋳
    込幅方向の複数の位置で測定する測定位置を自動的に設
    定する連続鋳造鋳型用レベル計の自動設定装置であって
    、前記台車に取付けられ、それらの先端に各別に備えた
    レベル計を、それらの軸長方向を鉛直方向とした円筒座
    標系で位置決め可能に移動する複数のマニピュレータと
    、 前記鋳型の鋳込幅及び鋳込速度に関するデータを入力す
    る入力手段と、 該入力手段の入力結果に応じて前記各マニピュレータに
    よる各レベル計の測定位置を決定する手段と を具備することを特徴とする連続鋳造鋳型用レベル計の
    自動設定装置。
JP16314789A 1989-06-26 1989-06-26 連続鋳造鋳型用レベル計の自動設定装置 Pending JPH0327854A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5339885A (en) * 1993-05-07 1994-08-23 Wagstaff Inc. Integrated non-contact molten metal level sensor and controller
EP3760340A1 (de) * 2019-07-03 2021-01-06 Refractory Intellectual Property GmbH & Co. KG Einrichtung zum manipulieren vorzugsweise eines giessrohrs bei einer wechselvorrichtung am ausguss eines metallurgischen behälters

Cited By (3)

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EP3760340A1 (de) * 2019-07-03 2021-01-06 Refractory Intellectual Property GmbH & Co. KG Einrichtung zum manipulieren vorzugsweise eines giessrohrs bei einer wechselvorrichtung am ausguss eines metallurgischen behälters
WO2021001279A1 (de) * 2019-07-03 2021-01-07 Refractory Intellectual Property Gmbh & Co. Kg Einrichtung zum manipulieren vorzugsweise eines giessrohrs bei einer wechselvorrichtung am ausguss eines metallurgischen behälters

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