JPH038545A - 連続鋳造機の自動鋳込開始制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は連続鋳造機において、鋳型内への溶湯の注入か
ら、引抜きを開始するまでの鋳込開始動作を自動制御す
る装置に関する。

〔従−来技術〕

連続鋳造機においては、タンディツシュから鋳型内への
溶湯の注入開始後、鋳型内で上昇する溶湯の湯面レベル
を測定し、これを一定のレベルに制御した状態で鋳片の
引抜きを自動的に開始する装置が開発されている。

このような装置において湯面レベルを測定するには、鋳
型内のなるべく低い位置から湯面を測定できるように広
い測定レンジを有する放射線式のレベル計が利用されて
いる。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで、放射線式のレベル計は、測定レンジが広いと
いう利点はあるものの、その精度及び応答性に関しては
、優れているとはいえない。この為、断面積が小さい鋳
型、つまり湯面上昇速度が速い鋳造設備においては、自
動鋳込開始制御を高精度に行うのが不可能であった。つ
まり、湯面上昇速度は、経年溶解によるノズル径の変化
、ノズル装着時の取付は精度の悪さ、又はノズル詰り等
が原因となってノズルの流量特性が変化することによっ
て速くなる場合がある。また、湯面の上昇速度が通常の
速度でも、ダミーバーヘッドの設定高さにバラツキが生
じる為、高めに設定された場合、溶湯の注入開始後、短
時間で湯面が制御レベルに達するので、結果的に湯面の
上昇速度が速いということと等しくなる。この為、湯面
上昇速度の高低にかかわらず、常に短時間で湯面レベル
を一定レベルに制御するノズルの調節が要求されるが、
精度及び応答性が低い放射線式のレベル計では対処でき
ないのである。

そこで、精度及び応答性に優れる渦流レベル計を使用す
ることが考えられるが、渦流レベル計は測定レンジが狭
く、上昇する湯面レベルを鋳型内の低い位置から測定す
ることができない。また、渦流レベル計の測定レンジを
補う方法として、レベル計を湯面の上昇に追従させて鋳
型内を上昇させながら測定することも考えられるが、上
昇させる為の装置を必要とし、それの保守及び鞄対精度
を維持するのが困難であり、一般に導入されていない。

本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、鋳込
開始時の湯面の測定を行うのに、放射線式のレベル計を
使用せず、渦流レベル計を簡単な構成で測定レンジを拡
大して使用できるようにし、その測定値を用いてノズル
の流量特性の変化及び、ダミーバーヘッドの設定高さの
バラツキに対応して精度の高い自動鋳込開始制御を可能
とする連続鋳造機の自動鋳込開始制御装置の提供を目的
とする。

〔課題を解決するための手段〕

本発明に係る連続鋳造機の自動鋳込開始制御装置は、底
部にダミーパーへ・シトを挿入配設する矩形の鋳型内へ
、タンディツシュに設けられたノズルから溶湯を注入し
、この湯面を測定して所定レベルに達すると、前記ダミ
ーバーヘッドを鋳型から引抜き、前記ノズルの開度を調
節しつつ、湯面を一定レベルに維持した状態で鋳片を連
続的に製造する連続鋳造機の自動鋳込開始制御装置にお
いて、前記ノズルと、鋳型の短辺側の壁との間に、それ
らの拡散磁束をノズル及び前記短辺側の壁に各別に対向
させて配設され、湯面レベルを測定する第１の渦流レベ
ル計と、前記短辺側の壁と反対側の短辺側の壁、又はこ
れの近傍に配設され、それらの拡散磁束を長辺側の両方
の壁に各別に対向させて配設され、湯面レベルを測定す
る第２の渦流レベル計と、前記第１の渦流レベル計の測
定結果に基づく湯面の上昇速度から前記ノズルの流量特
性を求める流量特性算出手段と、前記第１及び第２の渦
流レベル計の測定結果に基づいて前記ダミーバーヘッド
の鋳型内の設定高さを求めるダミーバーヘッド高さ算出
手段と、前記流量特性算出手段及びダミーバーヘッド高
さ算出手段の算出結果に基づいて引抜き開始時期、引抜
き開始時のノズル開度及び引抜き開始速度を調節する手
段とを具備することを特徴とする。

〔作用〕

鋳型内へ注入されて上昇する溶湯の湯面レベルは、第１
の渦流レベル計で測定され、この測定結果に基づく湯面
の上昇速度から流量特性算出手段はノズルの流量特性を
求める。第１の渦流レベル計は短辺側の壁とノズルとの
間の位置に、拡散磁束が短辺側の壁とノズルとに各別に
対向するように配設されることにより、長辺側の壁の影
響を受けずに広い測定レンジで湯面の上昇を測定する。

第２の渦流レベル計は短辺側の壁、又はこれの近傍に設
置され、拡散磁束が長辺側の両方の壁と各別に対向する
ように配設されることにより、短辺側の壁の影響を受け
ずに、メニスカス近傍の大きく変動する短辺側の湯面レ
ベルを測定する。

ダミーバーヘッド高さ算出手段は第１及び第２の渦流レ
ベル計の測定結果に基づいて鋳型内におけるダミーバー
ヘッドの設定高さを求め、この算出結果と流量特性の算
出結果とに基づいて引抜き開始時期、引抜き開始時のノ
ズル開度及び引抜き開始速度が調節される。

〔実施例〕

以下、本発明をその実施例を示す図面に基づき具体的に
説明する。第１図は本発明に係る連続鋳造機の自動鋳込
開始制御装置（以下、本発明装置という）の構成を示す
模式図である。図中１はタンディツシュであり、これの
下方には上下に開口部を有し、長方形の断面形状を成す
鋳型２が適長離隔させて配設しである。タンディツシュ
１の下部には、これの底面にその上端を開口させて、注
湯ノズル３が固設してあり、これの下端は鋳型２内部に
適長侵入させである。

注湯ノズル３の中途には、注湯量を調節する為のスライ
ディングゲート４が配設しである。スライディングゲー
ト４は、シリンダ４１の駆動力により開度が調節される
ようになっており、その開度は開度検出器４２によって
検出されてサーボアンプ４３ヘフイードバツクされる。

サーボアンプ４３は鋳込開始動作を制御する制御部８の
出力信号が与えられてシリンダ４１へ駆動信号を出力す
る。

鋳型２の下側開口部にはダミーパー７のダミーバーヘッ
ド７１が適長挿入してあり、該ダミーバーへソド７１に
よって下側の開口部が封止された鋳型２内にクンデイツ
シュ１内の溶湯９が注湯ノズル３から注入されようにな
っている。鋳型２内に注入された溶湯は、鋳型２にて１
次冷却されて外側部分に凝固シェルを有する鋳片となる
。この鋳片は鋳型２の下方に設けられた２次冷却帯（図
示せず）にて更に冷却されて凝固シェルの厚さを増しな
がら、ピンチロール１０の回転によってダミーハーフが
引抜かれることにより下方へ送られ、連続的に形成され
る。

ピンチロール１０は、制御部８の出力信号が与えられる
ビンチロール駆動モータ１１によって駆動されるように
なっており、制＜Ｉｒ１部８はタコジェネレータ１２が
検出するピンチロール駆動モータ１１の回転速度を入力
してダミーバー７の引抜き速度を調節する。

鋳型２内の溶湯の湯面は、本発明に係る２つの渦流レベ
ル計５及び６にて測定されるようになっている。第２図
は渦流レベル計の鋳型２における配設位置を示す平面図
である。

前記第１の渦流レベル計たる渦流レベル計５は上昇中の
湯面レベルを検出する為に、また第２の渦流レベル計た
る渦流レベル計６は湯面制御用のものとして夫々配設し
である。一般に渦流レベル計の磁束の特性は、図中の破
線に示すように平面内で相反する２方向へ大きな拡がり
を持つ。そこで湯面制御用のレベル計としては、レベル
変動の大きい鋳型２の短辺側の壁２ｂ、又はその近傍に
設置すると共に、その磁束が拡がる方向を壁２ｂの影響
、即ち鋳型の幅替え動作の影響を受けない鋳型２の長辺
方向に向けて配する。このように取付けられた渦流レベ
ル計６は測定時に長辺側の壁２ａの影響を受ける為、例
えば厚さ１００　ａｍ、幅１０００頗の鋳片を製造する
鋳型にあっては、測定レンジが０〜１００龍程度である
が、湯面制御用としては十分である。

一方、測定レンジがＯ〜１００　ｍｍでは、上昇中の湯
面レベルを検出す・るのに不十分なので、この測定レン
ジを拡張するように取付けたのが渦流レベル計５である
。渦流レベル計５は、使用されるのが鋳込開始時のみで
、幅替え動作の影響を考える必要がない為、反対側の短
辺側の壁２ｂとノズル３との間の位置に、その磁束が拡
がる方向を長辺側の壁２ａの影響がない方向、即ち壁２
ｂ及びノズル３方向へ向けて配設する。更にノズル３内
の溶湯の影響を回避する為にノズル３との間にステンレ
ス鋼製の板２１を介在させて電磁的なシールドを形成す
るようにしである。このように取付けられた渦流レベル
計５では、０〜２００龍程度まで測定可能であり、上昇
中の湯面レヘルを検出するのに十分である。なお、板２
１はステンレス鋼に限定されず、導電体であれば良く、
また、ノズル３側だけでなく、壁２ｂ側にも配設しても
良い。更に板２１は鋳込開始と共に溶解してしまうので
、回収する必要がなく、その為の装置も不要である。

各渦流レベル計５及び６は各々信号変換部５０及び６０
を介して制御部８と接続してあり、制御部８へ夫々の測
定信号が入力される。

第３図は本発明装置の制御内容を示すブロック線図であ
る。上昇中の湯面レベル検出用の渦流レベル計５の出力
は、前記信号変換部５０へ入力され、該信号変換部５０
は湯面レベル信号５１を第２適応制御部８２及びレベル
フィードバック切換部９２へ出力する一方、湯面レベル
に基づいて鋳型２内の湯面の上昇速度を演算した上昇速
度信号５２を第１適応制御部８１．第２適応制御部８２
及び目標上昇速度ＶＬＯとの偏差をとる比較器へ出力す
る。該比較器は湯面上界速度の実測値ＶＬＡと、湯面上
昇速度のパターンテーブル８３に入っている目標上昇速
度ＶＬＯとの偏差ΔＶを比例制御部８９へ出力する。

該比例制御部８９は第１適応制御部８１がノズル３の流
量特性を求めている間は、信号を出力しないようになっ
ている。

第１適応制御部８１は、次に示す流量特性８５及び流量
ゲインＫＧを備えてなり、前述した原因によって変化し
ているノズル３の流量特性を求め、湯面上昇速度を前記
パターンテーブル８３の内容に一致するように制御する
。流量特性８５は前記パターンテーブル８３のデータに
よって構成されるノズル開度Ｘと、目標湯面上昇速度Ｖ
ＬＯとの関係によって示され、このデータを用いて流量
ゲインＫＧを修正する。

第１適応制御部８１の制御内容を、第４図に示す流量特
性８５のグラフを用いて説明する。図中縦軸はノズル開
度、横軸は湯面上界速度であり、細線はパターンテーブ
ル８３に入っている特性、太線は実際の特性の一例であ
る。まず、ノズルの流量特性が変化していない正常な状
態であれば、目標湯面上昇速度ＶＬＯは、ノズル開度が
ＳＶＬの場合に得られるようになっている。ところが、
上述の理由により流量特性が変化していると、ノズル開
度が同じＳＶＬであっても、実際の湯面上昇速度はＶＬ
Ａ（＜ＶＬＯ）となっている。このような場合には、目
標湯面上昇速度ＶＬＯが得られるようにノズル開度をＳ
ＶＡに修正するのである。このＳＶＡは次式によって求
められる。

５ＶＡ−（ＶＬＯ／ＶＬＡ）　　・５ＶＬ＝ＫＧ−３Ｖ
Ｌ ここでＫＧ、即ち流量ゲインの値は正常のとき１である
。ＫＧは、給湯を開始してから引抜き開始前までの一定
の時間、つまり鋳型内の鋳片の凝固シェルが十分に発達
する為に必要な時間ＬＡ内に所定の制御タイミングｉで
検出される各値の平均７「をとる。「は次式によって求
められる。

Σ　Ｖ　ＬＯ／　Ｖ　ＬＡ（１） ここでＶ　ＬＯ／　Ｖ　ＬＡ（１）は市１１？卸タイミ
ングｉにおける目標湯面上昇速度に対する実際の湯面上
昇速度の割合、ＮはｔＡのときのカウント値である。

前記信号変換部５０の湯面レベル信号５１が入力しであ
るレベルフィードバック切換部９２には、湯面レベル制
御用の渦流レベル計６の信号変換部６０の湯面レベル信
号６１も入力してあり、レベルフィードバック切換部９
２は、湯面の上昇中は渦流レベル計５の湯面レベル信号
５１を出力し、湯面レベルが渦流レベル計６の測定レン
ジ内に入って上昇速度が安定すると、渦流レベル計６の
湯面レベル信号６１を出力するように切換ねる。

さて、第２適応制御部８２は、湯面レベル信号５１及び
上昇速度信号５２を用いて鋳型２内におけるダミーパー
へラド７１の設定高さを求める。つまり、ダミーバーヘ
ッド７１の基準の設定高さにおいて予め求めである引抜
き速度上昇パターンテーブル９０のデータに基づき、実
際に設定されているダミーバーヘンドア１の高さに対応
して鋳片の引抜き開始タイミング及び、引抜き開始速度
を修正するのである。これは引抜き速度上昇パターンテ
ーブル９゜のデータによって構成され、ノズル開度Ｘと
、目標引抜き速度ＶＣとの関係により示される流量特性
８６の流量ゲインＫＧを修正することによって行われる
。

第５図は引抜き速度上昇パターンテーブル９ｏのデータ
に基づいた湯面レベルのタイミングチャートの一例であ
る。図中Ａ、は基準パターンを示してあり、Ｌ５は渦流
レベル計５の測定レンジ内における所定レベル、即ち鋳
辺の引抜きを開始するレベルであり、その時期をｔＢｌ
としである。また、Ｌ６は渦流レベル計６の測定レンジ
内における所定レベル、即ち実際に指令された引抜き速
度になるレベルであり、その時期をｔＢ２としてあり、
この間の遅れ時間は１秒以内で充分応答する。

さて、実際に設定されるダミーバーヘッド７１の高さは
、前述の寸法例の鋳型にあっては１００　ａｍ程度の範
囲でバラツキがあり、更にノズルの流量特性も前述した
第１適応制御部８１で修正するように基準パターンと一
致しない場合が多い為、第２適応制御部８２では実際に
検出される流量変化に基づいて引抜き開始タイミング及
び引抜き開始速度を修正するのであるが、その場合、次
の２通りのケースが考えられる。

まず、図中Ａ２に示すように流量が少なく、ｔＢｌの時
点になっても、レベルＬ５に流量が満たない場合であり
、これはダミーバーヘッド７１が基準の高さよりも深い
位置に設定されている場合も同様である。もう１つは図
中Ａ３に示すように流量が多く、ｔＢｌの時点よりも前
に湯面レベルがレベルＬ５に到達する場合であり、これ
はダミーバーヘッド７１が基準の高さよりも浅い位置に
設定されている場合も同様である。

なお、第１適応制御部８１によってノズル３の流量調節
が行われているときは、第２適応制御部８２ではダミー
バーヘッド７１の設定高さそのものを求めることになる
。

さて、上記Ａ２．Ａ：Ｉのように基準パターンと一致し
ない場合には、まず、湯面の上昇速度を計算する。これ
は、渦流レベル計５がレベルＬ５で湯面を検出する時点
をｔｌとし、（１がら一定時間経過したｔ２の時点にお
けるレベルＬ２を検出することによって求める（第５図
ではＡ２の場合について示しである）。つまり、湯面の
上昇速度Ｖはｔｌ及びｔ２の各時点で上昇速度信号５２
の入力がある場合は、それらの平均を算出することによ
って求め、また入力がない場合は、 （Ｌ２−ｔ、５　）　／Δｔを算出する。

このようにして湯面の上昇速度Ｖが求まると、次に引抜
き開始時期ｔ３を決定する。第６図はその説明図であり
、ｔ２の時点のレベルＬ２と、引抜き開始後、指令され
た引抜き速度になる時点の湯面レベルとの間の距離を２
、引抜き開始後の遅れ時間中の湯面上昇速度をＶ　ｃｕ
ｐφとし、ｔ２がらα時間経過後の時点ｔ３を引抜き開
始時期、Ｓを遅れ時間とすることにより、次式が成立す
る。

！！　　−５Ｖｃｕｐ　　φ　（ｔ）　　・　ｄ　　む
　＝ｃｘ−Ｖ依って ｏｔ＝　　（１−５Ｖｃｕｐ　　φ（ｔｌ・　ｄｔｌ／
ｖこのように遅れ時間Ｓ中の引抜き速度の応答特性から
求められる湯面上界速度Ｖ　ｃｕｐ　φ（ｔｌを積分し
て求める。ところが遅れ時間Ｓは短いのでＶｃｕｐψ（
１）は応答特性により決まる定数として設定できるので
、ｃｔ＝　（／　−ｃｏｎｓｔ　）　／Ｖとして求めら
れ、引抜き開始時３ｔＪＪ　ｊ　３が求まる。

また、引抜き開始時に指令される引抜き速度Ｖｃｕｐは
、引抜き速度上昇パターンテーブル９０の値を用いて次
式によって修正される。

ここで、ＶＬＩＯ及びＶ　Ｌ２０は各々ｔ１及びｔ２に
おけるテーブル値である。

なお、上記Ａ３の場合のように流量が多いか、又はダミ
ーバーへラド７１が基準の高さよりも浅い位置に設定さ
れている場合には、引抜き速度Ｖ　ｃｕｐが大きく変化
することもあり得るので、引抜き速度の上限よりも算出
されたＶｃｕｐＯ値が大きいときは、Ｖ　ｃｕｐを引抜
き速度の上限値とし、不足分はノズル開度を絞るように
して調節する。

さて、前記レベルフィードバック切換部９２は、前述し
た如く湯面の上昇中は、渦流レベル計５の湯面レベル信
号５１が出力されるようになっており、このとき目標レ
ベルの出力が与えられた信号線に介装されている接点９
３ｂがオンしていることにより、湯面レベル信号５１は
目標レベルと比較され、その偏差ΔＬがＰＩＤ制御部９
１へ入力される。また、レベルフィードバック切換部９
２の出力は、後述するように前記接点９３ｂがオフ状態
にあるときは湯面上昇速度パターンテーブル８３の値を
積分する積分器９４の出力と比較されるように構成され
ており、積分器９４の出力信号線にスイッチ９３及び接
点９３ａが介装しである。接点９３ａ及び９３ｂは通常
９３ａがオンで、９３ｂがオフとなっており、これらは
次のようなロジックにより切換えられる。

レベルフィードバック切換部９２には湯面レベル信号５
１及び６１の信号切換の他に、９３ａ−９３ｂの切換レ
ベルが設けてあり、湯面レベル信号６１に信号が切換わ
ってもある程度の時間、９３ａがオンのままで、上記タ
イミングにより９３ｂがオンとなる。

従ってスイッチ９３がオンであれば、渦流レベル計６の
湯面レベル信号６１は当初、９３ａがオンの間は、湯面
上昇速度パターンテーブル８３の値を積分したものと比
較され、その偏差がＰＩＤ制御部９１へ入力される。つ
まり、湯面の上昇速度だけでなく湯面レベルも整定され
る。また、スイッチ９３がオフであれば、湯面の上昇速
度のみ整定することになる。

そして９３ｂがオン（９３ａがオフ）されると、渦流レ
ベル計６の湯面レベル信号６１は、要求される目標値と
比較される。

さて、制御対象であるシリンダ４１のサーボアンプ４３
へは前記流量ゲインＫＧ　、比例制御部８９及びＰＩＤ
制御部９１の各出力が加算された信号が与えられており
、その信号出力に応じてシリンダ４１が駆動されてノズ
ル開度が調節される。つまり、第１適応制御部８１及び
第２適応制御部８２によるノズル３の流量特性及びダミ
ーバーヘッド７１の設定高さが求められている間は、流
量ゲインＫＧ及びＰＩＤ制御部９１の出力が加算された
ものがサーボアンプ４３へ与えられており、このときＰ
ＩＤ制御部９１へ入力される偏差ΔＬは渦流レベル計５
による湯面レベルの測定値と目標値との偏差である。

そして、各適応制御部によってノズル３の流量特性及び
ダミーバーへソド７１の設定高さが求まると、サーボア
ンプ４３へは上述の信号に比例制御部８９の信号が加算
され、更に湯面レベルが渦流レベル計６の測定レンジ内
に入り、接点９３ａがオフ、９３ｂがオンに切換わると
、ＰＩＤ制御部９１へ人力される偏差ΔＬは目標（値）
レベルと、渦流レベル計６の測定値との偏差となり、湯
面レベルが所定のレベルに保持されるようにノズル３の
開度が調節されると共に、第２適応制御部８２で修正さ
れたタイミング及び引抜き速度による引抜きが開始され
る。

第７図は自動鋳込開始の制御状態を示すタイミングチャ
ートの一例であり、上から順に湯面上昇速度、ノズル開
度、引抜き速度、湯面レベルを夫々示す。図中ｔＡは給
湯開始後から鋳型内の鋳片の凝固シェルが十分に発達す
るのに要する時間であり、この時期まで湯面上昇速度及
びノズル開度は夫々一定の値を保持している。つまり、
ノズル開度は通常、全開であり、この期間にノズル３の
流量特性が求められる。そして口の経過と共にノズルが
閉じられてゆき、この間にダミーバーヘッド７１の設定
高さが求められ、湯面レベルがレベル制御用の渦流レベ
ル計６の測定レンジ内に入った後のｔＢｌのタイミング
で鋳片の引抜き指令が発せられる。

この引抜き指令の後、実際に引抜き速度が指令された速
度になる時期がｔＢ２であり、ｔＢ２以後、湯面上昇速
度は略０となり、湯面レベルは目標レベルに保持される
。

〔効果〕

以上の如く本発明に係る連続鋳造機の自動鋳込開始制御
装置においては、渦流レベル計を２台使用し、そのうち
の１台を給湯開始後、上昇する湯面レベルの測定用とし
て、またもう１台を引抜き開始後の目標レベルに対する
測定用として夫々専用に用いることにより、夫々対象範
囲のレベルに応じて鋳型の壁の影古を受けないように渦
流レベル計の配設位置及び取付は状態を設定できる為、
欠点であった測定レンジの狭さを解決でき、湯面を鋳型
内の低い位置から目標レベルまで精度良く、また応答性
も良好に測定することができる。

また、これらの測定値からノズルの流量特性及びダミー
バーヘッドの設定高さを求め、その結果に基づいて引抜
き開始時期、引抜き開始時のノズル開度及び引抜き開始
速度が調節されるので、小断面の湯面上昇速度が速い鋳
造設備にあっても、自動鋳込開始制御を高精度に行うこ
とができる等、本発明は優れた効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る連続鋳造機の自動鋳込開始制御装
置の構成を示す模式図、第２図は渦流レベル計の配設位
置を示す平面図、第３図は制御内容を示すブロック線図
、第４図はノズル開度及び湯面上昇速度によって示され
る流量特性のグラフ、第５図は湯面レベルのタイミング
チャート、第６図は引抜き開始時期を決定する為の説明
図、第７図は自動鋳込開始の制御状態を示すタイミング
チャートである。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、底部にダミーバーヘッドを挿入配設する矩形の鋳型
   内へ、タンディッシュに設けられたノズルから溶湯を注
   入し、この湯面を測定して所定レベルに達すると、前記
   ダミーバーヘッドを鋳型から引抜き、前記ノズルの開度
   を調節しつつ、湯面を一定レベルに維持した状態で鋳片
   を連続的に製造する連続鋳造機の自動鋳込開始制御装置
   において、 前記ノズルと、鋳型の短辺側の壁との間に、それらの拡
   散磁束をノズル及び前記短辺側の壁に各別に対向させて
   配設され、湯面レベルを測定する第１の渦流レベル計と
   、 前記短辺側の壁と反対側の短辺側の壁、又はこれの近傍
   に配設され、それらの拡散磁束を長辺側の両方の壁に各
   別に対向させて配設され、湯面レベルを測定する第２の
   渦流レベル計と、 前記第１の渦流レベル計の測定結果に基づく湯面の上昇
   速度から前記ノズルの流量特性を求める流量特性算出手
   段と、 前記第１及び第２の渦流レベル計の測定結果に基づいて
   前記ダミーバーヘッドの鋳型内の設定高さを求めるダミ
   ーバーヘッド高さ算出手段と、 前記流量特性算出手段及びダミーバーヘッド高さ算出手
   段の算出結果に基づいて引抜き開始時期、引抜き開始時
   のノズル開度及び引抜き開始速度を調節する手段と を具備することを特徴とする連続鋳造機の 自動鋳込開始制御装置。