JPH03270202A - Magnetic alloy - Google Patents
Magnetic alloyInfo
- Publication number
- JPH03270202A JPH03270202A JP2071285A JP7128590A JPH03270202A JP H03270202 A JPH03270202 A JP H03270202A JP 2071285 A JP2071285 A JP 2071285A JP 7128590 A JP7128590 A JP 7128590A JP H03270202 A JPH03270202 A JP H03270202A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic
- alloy
- magnetic alloy
- atomic
- coercive force
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910001004 magnetic alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 claims 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 9
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 8
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 8
- 230000035699 permeability Effects 0.000 abstract description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 14
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 12
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000010408 film Substances 0.000 description 5
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001337 iron nitride Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910000702 sendust Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910020641 Co Zr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020520 Co—Zr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003322 NiCu Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000979 O alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 argon ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 229940110728 nitrogen / oxygen Drugs 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高密度磁気記録用の磁気ヘッドに適する磁性
合金に関する。DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a magnetic alloy suitable for a magnetic head for high-density magnetic recording.
（従来の技術）
近年、磁気記録の高密度化や店帯域化の必要性が高まり
、磁気記録媒体に高い抗磁力を有する磁性材料を使用し
て記録トラック幅を狭くすることにより、高密度磁気記
録再生を実現している。そして、この高い抗磁力をもつ
磁気記録媒体に記録再生するための磁気ヘッド材料とし
て、飽和磁束密度Ｂｓの高い磁性合金が必要とされてお
り、センダスト合金やＣｏ−Ｚｒ系非晶質合金等をコア
の一部または全部に使用した磁気ヘッドが提案されてい
る。(Conventional technology) In recent years, the need for higher density magnetic recording and wider bandwidth has increased, and high-density magnetic Realizes recording and playback. Magnetic alloys with high saturation magnetic flux density Bs are required as magnetic head materials for recording and reproducing on magnetic recording media with high coercive force, and Sendust alloys, Co-Zr amorphous alloys, etc. A magnetic head using part or all of the core has been proposed.
然しながら、磁気記録媒体の高抗磁力化が一段と進み、
磁気記録媒体の抗磁力か２００００ ｅ以上になるとセ
ンダスト合金やＣｏ−Ｚｒ系非晶質合金を使用した磁気
ヘッドでは良好な磁気記録再生が困難になった。However, as the coercive force of magnetic recording media continues to increase,
When the coercive force of the magnetic recording medium exceeds 20,000 e, it becomes difficult to perform good magnetic recording and reproduction with magnetic heads using Sendust alloys or Co--Zr amorphous alloys.
又、磁気記録媒体の長手方向ではなく、厚さ方向に磁化
して記録する垂直磁化記録方式も提案されているが、こ
の垂直磁化記録方式を良好に行うには、磁気ヘッドの主
磁極の先端部の厚さを０．５μｍ以下にする必要があり
、比較的抗磁力の低い磁気記録媒体に記録するにも、高
い飽和磁束密度を持つ磁気ヘッド用磁性合金が必要にな
る。Also, a perpendicular magnetization recording method has been proposed in which the magnetic recording medium is magnetized in the thickness direction rather than in the longitudinal direction, but in order to perform well with this perpendicular magnetization recording method, the tip of the main pole of the magnetic head must be The thickness of the magnetic head must be 0.5 μm or less, and a magnetic alloy for a magnetic head with a high saturation magnetic flux density is required even for recording on a magnetic recording medium with relatively low coercive force.
そして、センダスト合金やＣｏ−Ｚｒ系非晶質合金より
も飽和磁束密度の高い磁性合金として、窒化鉄やＦｅ−
５ｉ系合金等の鉄を主成分とした磁性合金が知られてい
る。Iron nitride and Fe-
Magnetic alloys containing iron as a main component, such as 5i-based alloys, are known.
（発明が解決しようとする課題）
ところが、従来より知られている、これらの高Ｂｓ磁性
合金は保磁力Ｈｃか大きく、そのままでは磁気ヘッドの
材料としては不十分であるのでセンダスト合金やパーマ
ロイ等の保磁力の小さい磁性材料を層間膜として使用し
た多層構造の磁気ヘッドが提案されている。(Problem to be Solved by the Invention) However, these conventionally known high Bs magnetic alloys have a large coercive force Hc and are not sufficient as materials for magnetic heads as they are, so sendust alloys, permalloy, etc. A magnetic head with a multilayer structure using a magnetic material with a low coercive force as an interlayer film has been proposed.
然しなから、多層構造にするには工数やコストがかかり
、信頼性を保つのも難しいという問題点があった。特に
数μｍ以上の膜厚にする為には、場合によっては１００
層以上の多層構造とする必要があり、使用範囲も限られ
ていた。However, creating a multilayer structure requires a lot of man-hours and costs, and it is difficult to maintain reliability. In particular, in order to obtain a film thickness of several μm or more, it may be necessary to
It required a multilayer structure with more than one layer, and the range of use was limited.
この問題点を解決するために、本発明穴等は、Ｆｅ−Ｎ
−０合金によって、多層構造にしない単層て高Ｂｓ・低
Ｈｃの磁性合金が得られることを提案したが、熱安定性
の面からガラスモールド工程には適さないという問題点
かあった。In order to solve this problem, the holes etc. of the present invention are made of Fe-N
It was proposed that a high Bs, low Hc magnetic alloy could be obtained using a -0 alloy in a single layer without a multilayer structure, but there was a problem that it was not suitable for the glass molding process from the viewpoint of thermal stability.
そこで、本発明は多層構造にしなくても高飽和磁束密度
を持ち、保磁力か小さく、熱安定性に優れた磁性合金を
提供することを目的とする。Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic alloy that has a high saturation magnetic flux density without having a multilayer structure, has a small coercive force, and has excellent thermal stability.
（課題を解決するための手段）
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので
あり、Ｆ ｅ Ｕ ＮＶ ＯＷ Ｓ Ｉ Ｘ Ｍｙなる
組成式で表され、Ｌｌ、Ｖ、Ｗ、Ｘ、ｙて示される原子
％か
１≦ｖ≦２０ ０．１≦Ｗ≦ｌＯ
ｏ ＜ｘ＜８ ｏ ＜ｙ＜６
０５≦ｘ＋ｙ≦６
ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ−１００
なる関係を有する磁性合金。（但しＭはＢ，Ａｌ，Ｇａ
、Ｃ，Ｇｅからなる群の中から選ばれた少なくとも１種
類以上の元素）または、ＦｅｕＮｖＯｗＳｉｘＭＹＬ２
なる組成式で表され、Ｌｌ、Ｖ、Ｗ、Ｘ、ｙ、ｚで示さ
れる原子％が１≦Ｖ≦２０ ０．１≦Ｗ≦ｔ。(Means for Solving the Problems) The present invention has been made to solve the above problems, and is represented by the composition formula F e U NV OW S I X My, Ll, V, W, X , y is a magnetic alloy having the following relationships: 1≦v≦20 0.1≦W≦lO o <x<8 o <y<6 05≦x+y≦6 u+v+w+x+y-100. (However, M is B, Al, Ga
, C, Ge) or FeuNvOwSixMYL2
It is represented by the following compositional formula, and the atomic % represented by Ll, V, W, X, y, and z is 1≦V≦20, 0.1≦W≦t.
０ ＜ｘ＜６ ０ ＜ｙ＜６
０．５≦ｘ＋ｙ≦６０３≦２≦６
ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ ＝１００
なる関係を有する磁性合金。（但しＭはＢ，Ａｌ，Ｇａ
、Ｃ，Ｇｅからなる群の中から選ばれた少なくとも１種
類以上の元素であり、ＬはＴｉ、ＶＣｒ Ｃｏ、
Ｎｉ、 Ｃｕ、 Ｙ、 Ｚｒ、 Ｎｂ、
Ｍｏ。A magnetic alloy having the following relationships: 0 <x<6 0 <y<6 0.5≦x+y≦603≦2≦6 u+v+w+x+y+z =100. (However, M is B, Al, Ga
, C, Ge, and L is Ti, VCr Co,
Ni, Cu, Y, Zr, Nb,
Mo.
Ｒｕ Ｒｈ、 Ｐｄ、 Ａｇ、 Ｓｎ、
Ｓｂ、 Ｈｆ。Ru Rh, Pd, Ag, Sn,
Sb, Hf.
Ｔａ、 Ｗ、 Ｒｅ、 Ｏｓ、 Ｉ ｒ、
Ｐｔ、 Ａｕ、 Ｐｂからなる群の中から選ばれ
た少なくとも１種類以上の元素）をそれぞれ提供するも
のである。Ta, W, Re, Os, Ir,
At least one element selected from the group consisting of Pt, Au, and Pb).
（実施例）
本発明になる磁性合金の製造装置の一実施例を第１図に
示す。(Example) An example of the magnetic alloy manufacturing apparatus according to the present invention is shown in FIG.
一対のターゲット５．５は鉄（Ｆｅ）とＳｉ。A pair of targets 5.5 are iron (Fe) and Si.
Ａ１等の合金ターゲットか、或いは適当な凹部を設けた
純鉄のターゲットの凹部にチップ状の５ｉＡ１等をはめ
込んた複合ターゲットである。このターゲット５．５は
ターゲットホルダ９によって支えられており、このター
ゲット５とターゲットホルダリには、直流電源１３より
マイナス電位が印加され、更にこのターゲットホルダ９
の周囲にはシールド４が取り付けである。It is either an alloy target such as A1, or a composite target in which chip-shaped 5iA1 or the like is fitted into the recess of a pure iron target with an appropriate recess. This target 5.5 is supported by a target holder 9, a negative potential is applied to this target 5 and the target holder from a DC power supply 13, and furthermore, this target holder 9
A shield 4 is attached around the .
又、このターゲットホルダ９の内部には、両ターゲット
５．５間にプラズマ１４を集束するための磁石６．６が
挿入され、かつターゲット５の表面の加熱を防ぐために
冷却水８が流入している。Further, inside this target holder 9, a magnet 6.6 for focusing the plasma 14 is inserted between both targets 5.5, and cooling water 8 flows in to prevent the surface of the target 5 from being heated. There is.
そして、接地された真空槽１５の左右に、２個のターゲ
ットホルダ９が絶縁体７によって絶縁されて設けられて
いる。Two target holders 9 are provided on the left and right sides of the grounded vacuum chamber 15 and are insulated by an insulator 7.
又、この真空槽１５の上部より、窒素（Ｎ２）酸素（０
２）アルゴン（Ａｒ）がそれぞれ流量計１〜３により、
所定の流量に調節されて導入されている。Also, from the upper part of this vacuum chamber 15, nitrogen (N2) and oxygen (0
2) Argon (Ar) is supplied by flowmeters 1 to 3, respectively.
It is introduced at a predetermined flow rate.
なお、アルゴンはターゲット５をスパッタすると同時に
成膜する磁性合金膜中の窒素と酸素の量を調節するため
のものである。Note that argon is used to adjust the amount of nitrogen and oxygen in the magnetic alloy film formed at the same time as sputtering the target 5.
そして、真空槽１５の下部には基板ホルダ１２上に基板
１１が置かれ、不純物を防ぐためのシャッタ１０が基板
１１を覆っている。A substrate 11 is placed on a substrate holder 12 at the bottom of the vacuum chamber 15, and a shutter 10 for preventing impurities covers the substrate 11.
このようなスパッタ装置において、直流電源１３により
、左右のターゲットホルダ９に支えられたターゲット５
．５の間にプラズマ１４を発生させると、ターゲット５
はマイナス電位であるので、プラズマ１４中のアルゴン
イオン（Ａｒ’）がターゲット５に衝突し、ターゲット
５の鉄原子及びＳＬ、ＡＩ等の原子が飛び出す。In such a sputtering apparatus, the target 5 supported by the left and right target holders 9 is powered by the DC power supply 13.
．． When the plasma 14 is generated between 5 and 5, the target 5
Since is at a negative potential, argon ions (Ar') in the plasma 14 collide with the target 5, and iron atoms and atoms of SL, AI, etc. of the target 5 fly out.
そして、ターゲット５から飛び出した鉄と５ｉ１Ａ１等
の原子とプラズマ中の窒素および酸素の原子または分子
が結合して基板１１の上に成長していく。Then, atoms of iron, 5i1A1, etc. ejected from the target 5 combine with nitrogen and oxygen atoms or molecules in the plasma to grow on the substrate 11.
なお、スパッタ開始後の数分間は、シャッタ１０を閉じ
て基板１１を覆うことにより、ターゲット５の表面の不
純物が基板１１の上に付かないようにし、その後でシャ
ッタ１０を開けるようにする。Note that for several minutes after the start of sputtering, the shutter 10 is closed to cover the substrate 11 to prevent impurities on the surface of the target 5 from adhering to the substrate 11, and then the shutter 10 is opened.
そして、流量計１〜３にて窒素・酸素及びアルゴンの導
入量を調整することにより、所望の窒素及び酸素を含ん
だＦ ｅ ｇ Ｎｖ ＯｗＳ ｉ Ｘ Ｍｙ合金を得る
ことができる。By adjusting the amounts of nitrogen, oxygen, and argon introduced using the flowmeters 1 to 3, it is possible to obtain a Fe g Nv OwS i X My alloy containing desired nitrogen and oxygen.
このようにして得たＦ ｅＵＮｙ Ｏｗ Ｓ ｉ ｚ
Ｍｙ合金の窒素・酸素及びＳｉ、Ａ１等の含有量と飽和
磁束密度Ｂｓ、保磁力Ｈｃの関係を表１に示す。F eUNy Ow S i z obtained in this way
Table 1 shows the relationship between the content of nitrogen, oxygen, Si, A1, etc. in the My alloy, the saturation magnetic flux density Bs, and the coercive force Hc.
（以下余白）
表 １
表１は窒素・酸素及びＳｉ、ＡＩ等の含有量と飽和磁束
密度（Ｂｓ）、保磁力（Ｈｃ）との関係を示すものであ
り、含有量はＥＳＣＡ（Ｘ線光電子分光分析法） 、Ｅ
ＰＭＡ （Ｘ線マイクロアナライザ法）等による定量分
析で原子％て表しているが、±２０％程度の誤差が見込
まれる。保磁力は真空中での熱処理を行った時の値であ
り、熱処理温度はこごでは４００° Ｃである。この内
、試料番号ｌはＦｅに窒素のみを含有させた時の結果で
ある。(Margin below) Table 1 Table 1 shows the relationship between the content of nitrogen/oxygen, Si, AI, etc., saturation magnetic flux density (Bs), and coercive force (Hc). spectroscopy), E
It is expressed in atomic % by quantitative analysis using PMA (X-ray microanalyzer method), etc., but an error of about ±20% is expected. The coercive force is the value when heat treatment is performed in a vacuum, and the heat treatment temperature is 400°C in the oven. Among these, sample number 1 is the result when Fe contains only nitrogen.
試料番号２〜１０は本発明の磁性合金である。窒素の含
有量が１原子％未満であると、顕著な窒素の効果が見ら
れずＨｃはほとんど低下しない。Sample numbers 2 to 10 are magnetic alloys of the present invention. When the nitrogen content is less than 1 atomic %, no significant effect of nitrogen is observed and Hc hardly decreases.
また第４図に示したように、窒素の含有量が２０原子％
以下であるとＢｓが１０ｋＧ以上の磁性合金が得られる
。従って、窒素の含有量が１〜２０原子％さらに好まし
くは１〜ｌＯ原子％である時、高ＢＳで低Ｈｃの磁性合
金が得られる。窒素含有量が１−１０原子％の時はＢｓ
が１５ｋＧ以上の磁性合金が得られる。In addition, as shown in Figure 4, the nitrogen content is 20 at%
If it is below, a magnetic alloy with Bs of 10 kG or more can be obtained. Therefore, when the nitrogen content is 1 to 20 atomic %, more preferably 1 to 10 atomic %, a magnetic alloy with high BS and low Hc can be obtained. Bs when nitrogen content is 1-10 at%
A magnetic alloy with a force of 15 kG or more can be obtained.
酸素の含有量が０．１原子％未満であると、顕著な酸素
の効果が見られず磁気特性の改善がほとんど見られない
。また、酸素の含有量が１０原子％を越えるとＨｅが増
大する。When the oxygen content is less than 0.1 atomic %, no significant oxygen effect is observed and almost no improvement in magnetic properties is observed. Furthermore, when the oxygen content exceeds 10 atomic %, He increases.
従って、酸素の含有量が０．１〜ＩＯ原子％である時、
高Ｂｓ、低Ｈｃて特に透磁率の高い磁性合金が得られる
。Therefore, when the oxygen content is 0.1 to IO atomic percent,
A magnetic alloy with high Bs and low Hc and especially high magnetic permeability can be obtained.
第２図は、本発明になる磁性合金と従来例である窒化鉄
（ＦｅＮ）合金の、熱処理温度による保磁力（Ｈｃ）の
変化を示す。窒化鉄は熱処理温度８００°Ｃの時は比較
的Ｈｃは低いが、３００ ＠ｃ以上にすると急激にＨｅ
が増大する。これに対し本発明になる磁性合金は、Ｈｅ
が小さく熱安定性にも優れていることが解る。ここでＳ
ｉ、Ａ１等の元素の合計の含有量が０．５原子％未満で
あると、熱安定性の向上に対する顕著な効果は見られず
、６原子％を越えるとＨｅの増大が生じる。従って、Ｓ
ｔとＢ、Ａ１．Ｇａ、Ｃ，Ｇｅからなる群の中から選ば
れた少なくとも１種類以上の元素の合計の含有量が０．
５〜６原子％の時、高Ｂｓ・低Ｈｃで熱安定性にも優れ
た磁性合金を得ることができる。FIG. 2 shows the change in coercive force (Hc) of the magnetic alloy according to the present invention and a conventional iron nitride (FeN) alloy depending on the heat treatment temperature. Iron nitride has a relatively low Hc when the heat treatment temperature is 800°C, but when the heat treatment temperature exceeds 300°C, the He
increases. On the other hand, the magnetic alloy of the present invention is He
is small and has excellent thermal stability. Here S
If the total content of elements such as i and A1 is less than 0.5 atomic %, no significant effect on improving thermal stability will be observed, and if it exceeds 6 atomic %, an increase in He will occur. Therefore, S
t and B, A1. The total content of at least one element selected from the group consisting of Ga, C, and Ge is 0.
When the content is 5 to 6 at%, a magnetic alloy with high Bs, low Hc and excellent thermal stability can be obtained.
また第３図は、膜厚を２μｍとした時の本発明になる磁
性合金の透磁率μと周波数の関係を示す。Further, FIG. 3 shows the relationship between the magnetic permeability μ and frequency of the magnetic alloy according to the present invention when the film thickness is 2 μm.
比較例としてＦｅＮ５ｉＡ１合金のμを記す。As a comparative example, μ of FeN5iA1 alloy is shown.
本発明になる磁性合金は、透磁率μがＦｅＮ５ｉＡ１合
金の３０００よりも高（５０００以上であるので、より
高性能の磁気デバイスに適した磁性合金が得られる。Since the magnetic alloy of the present invention has a magnetic permeability μ higher than 3000 of the FeN5iA1 alloy (5000 or more), a magnetic alloy suitable for higher performance magnetic devices can be obtained.
（以下余白）
表 ２
表２は、Ｔｉ、Ｃｒ等の元素が耐蝕性の向上に寄与する
ことを示したものである。実験は試料を６０°ｃ−９０
％の高温高湿中に放置し、１０００時間経過後に腐蝕痕
か見られないものを○、腐蝕痕か生じたものをＸとして
耐蝕性を示した。試料番号２］は、比較例であるＦｅＮ
合金、試料番号２２〜４４は、Ｆｅ−Ｎ−０−３１−Ａ
１合金にＴｉ、Ｃｒ等の元素を添加した合金であり、試
料番号２２〜４４は、本発明になる磁性合金である。(The following is a blank space) Table 2 Table 2 shows that elements such as Ti and Cr contribute to improving corrosion resistance. In the experiment, the sample was heated to 60°C-90
%, and after 1000 hours, no corrosion marks were observed as ○, and those with corrosion marks as X, indicating corrosion resistance. Sample number 2] is a comparative example of FeN
Alloy, sample numbers 22 to 44 are Fe-N-0-31-A
Sample numbers 22 to 44 are magnetic alloys according to the present invention.
ここで、Ｔｉ、Ｃｒ等の合計の含有量が０，３原子％未
満であると、耐蝕性に対する顕著な効果が見られず、６
原子％を越えると磁気特性の劣化が生しる。従って、Ｔ
ｔ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｏ、ＮｉＣｕ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ
、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ。Here, if the total content of Ti, Cr, etc. is less than 0.3 at%, no significant effect on corrosion resistance will be observed, and 6
If it exceeds atomic %, the magnetic properties will deteriorate. Therefore, T
t, V, Cr, Co, NiCu, Y, Zr, Nb, Mo
, Ru, Rh, Pd.
Ａｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ。Ag, Sn, Sb, Hf, Ta, W, Re, Os.
Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、Ｐｂからなる群の中から選ばれた少
なくとも１種類以上の元素の合計の含有量が０．３〜Ｂ
原子％である時、磁気特性と耐蝕性に優れた磁性合金が
得られる。The total content of at least one element selected from the group consisting of Ir, Pt, Au, and Pb is 0.3 to B
At %, a magnetic alloy with excellent magnetic properties and corrosion resistance can be obtained.
（発明の効果）
本発明は、以上のような組成の磁性合金とすることによ
り、高飽和磁束密度を有し、保磁力が小さく、透磁率が
大きく、更に熱安定性と耐蝕性に優れた磁気ヘッド等の
磁気デバイス用磁性合金が得られる。従って、本発明の
磁性合金を用いれば、高保磁力媒体への良好な記録再生
が行える他、高性能の薄膜磁気ヘッド等を作成すること
ができ、高密度な磁気記録再生が実現できる。(Effects of the Invention) The present invention provides a magnetic alloy having the composition described above, which has high saturation magnetic flux density, low coercive force, high magnetic permeability, and excellent thermal stability and corrosion resistance. A magnetic alloy for magnetic devices such as magnetic heads is obtained. Therefore, by using the magnetic alloy of the present invention, it is possible to perform good recording and reproducing on a high coercive force medium, and also to create a high-performance thin film magnetic head and the like, and realize high-density magnetic recording and reproducing.
第１図は、本発明になる磁性合金膜を製造する装置の一
実施例であるスパッタ装置の概略図、第２図は、熱処理
温度によるＨｃの変化を表わす図、第３図は、透磁率μ
と周波数の関係を示す図、第４図は、ＦｅＮ合金におけ
る窒素含有量と飽和磁束密度（Ｂｓ）の関係を示す図で
ある。FIG. 1 is a schematic diagram of a sputtering apparatus which is an embodiment of the apparatus for manufacturing a magnetic alloy film according to the present invention, FIG. 2 is a diagram showing changes in Hc depending on heat treatment temperature, and FIG. 3 is a diagram showing magnetic permeability. μ
FIG. 4 is a diagram showing the relationship between nitrogen content and saturation magnetic flux density (Bs) in FeN alloy.
Claims (1)
で表され、ｕ，ｖ，ｗ，ｘ，ｙで示される原子％が１≦
ｖ≦２０、０．１≦ｗ≦１０ ０＜ｘ＜６、０＜ｙ＜６ ０．５≦ｘ＋ｙ≦６ ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＝１００ なる関係を有する磁性合金。（但しＭはＢ，Ａｌ，Ｇａ
，Ｃ，Ｇｅからなる群の中から選ばれた少なくとも１種
類以上の元素） （２）Ｆｅ＿ｕＮ＿ｖＯ＿ｗＳｉ＿ｘＭ＿ｙＬ＿ｚなる
組成式で表され、ｕ，ｖ，ｗ，ｘ，ｙ，ｚで示される原
子％が １≦ｖ≦２０、０．１≦ｗ≦１０ ０＜ｘ＜６、０＜ｙ＜６ ０．５≦ｘ＋ｙ≦６、０．３≦ｚ≦６ ｕ＋ｖ＋ｗ＋ｘ＋ｙ＋ｚ＝１００ なる関係を有する磁性合金。（但しＭはＢ，Ａｌ、Ｇａ
，Ｃ，Ｇｅからなる群の中から選ばれた少なくとも１種
類以上の元素であり、ＬはＴｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｃｏ，Ｎｉ
，Ｃｕ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａ
ｇ，Ｓｎ，Ｓｂ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｒｅ，Ｏｓ，Ｉｒ，
Ｐｔ，Ａｕ，Ｐｂからなる群の中から選ばれた少なくと
も１種類以上の元素）[Claims] (1) Represented by the composition formula Fe_uN_vO_wSi_xM_y, where the atomic % represented by u, v, w, x, y is 1≦
A magnetic alloy having the following relationships: v≦20, 0.1≦w≦10 0<x<6, 0<y<6 0.5≦x+y≦6 u+v+w+x+y=100. (However, M is B, Al, Ga
, C, Ge) (2) It is represented by the composition formula Fe_uN_vO_wSi_xM_yL_z, and the atomic % represented by u, v, w, x, y, z is 1≦ A magnetic alloy having the following relationships: v≦20, 0.1≦w≦10 0<x<6, 0<y<6 0.5≦x+y≦6, 0.3≦z≦6 u+v+w+x+y+z=100. (However, M is B, Al, Ga
, C, and Ge, and L is Ti, V, Cr, Co, and Ni.
, Cu, Y, Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Pd, A
g, Sn, Sb, Hf, Ta, W, Re, Os, Ir,
At least one element selected from the group consisting of Pt, Au, and Pb)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2071285A JPH03270202A (en) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | Magnetic alloy |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2071285A JPH03270202A (en) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | Magnetic alloy |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03270202A true JPH03270202A (en) | 1991-12-02 |
Family
ID=13456280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2071285A Pending JPH03270202A (en) | 1990-03-20 | 1990-03-20 | Magnetic alloy |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03270202A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5617275A (en) * | 1994-05-02 | 1997-04-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Thin film head having a core comprising Fe-N-O in a specific atomic composition ratio |
-
1990
- 1990-03-20 JP JP2071285A patent/JPH03270202A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5617275A (en) * | 1994-05-02 | 1997-04-01 | Sanyo Electric Co., Ltd. | Thin film head having a core comprising Fe-N-O in a specific atomic composition ratio |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5154983A (en) | Magnetic alloy | |
| US5478416A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH03270202A (en) | Magnetic alloy | |
| JP2668590B2 (en) | Magnetic alloy for magnetic head | |
| JPH03270203A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH03250706A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH02199027A (en) | Magnetic alloy | |
| JP2569828B2 (en) | Magnetic alloys for magnetic devices | |
| JPH03288410A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH04187745A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH0817032A (en) | Magnetic recording medium and its production | |
| JPH03270204A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH03239312A (en) | Magnetic alloy | |
| JP2689512B2 (en) | Magnetic alloy for magnetic head | |
| JPH07113140B2 (en) | Magnetic alloy | |
| Katori et al. | Soft magnetic properties for Fe-Al-Nb-NO films | |
| JPH03116910A (en) | Magnetic alloy film | |
| JPH03240209A (en) | Magnetic alloy | |
| JP3087265B2 (en) | Magnetic alloy | |
| JPH02175618A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH03134138A (en) | Magnetic alloy | |
| JPH03129805A (en) | Magnetic alloy film | |
| JPH06240417A (en) | Magnetic alloy | |
| JP2522284B2 (en) | Soft magnetic thin film | |
| JPH02175619A (en) | Magnetic alloy |