JPH03266399A - Ｘ線照射装置 - Google Patents
Ｘ線照射装置Info
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- JPH03266399A JPH03266399A JP2063269A JP6326990A JPH03266399A JP H03266399 A JPH03266399 A JP H03266399A JP 2063269 A JP2063269 A JP 2063269A JP 6326990 A JP6326990 A JP 6326990A JP H03266399 A JPH03266399 A JP H03266399A
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70808—Construction details, e.g. housing, load-lock, seals or windows for passing light in or out of apparatus
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
Ｘ線照射装置、特に真空室よりＸ線を取り出すベリリウ
ム窓に関し、 その環境耐性を改善せしめることを目的とし、Ｘ線源を
収容した真空室に設けられたＸ線取り出し用ベリリウム
窓の外表面に、酸化ベリリウム層が形成されてなること
を特徴と構成する。
ム窓に関し、 その環境耐性を改善せしめることを目的とし、Ｘ線源を
収容した真空室に設けられたＸ線取り出し用ベリリウム
窓の外表面に、酸化ベリリウム層が形成されてなること
を特徴と構成する。
本発明はＸ線照射装置、特にＸ線源を収容した真空室よ
りＸ線を取り出すベリリウム窓の改良に関する。
りＸ線を取り出すベリリウム窓の改良に関する。
短波長のＸ線を利用したＸ線露光装置およびＸ線分析装
置において、真空室に設けられたＸ線源が発生するＸ線
は、一般にヘリリウムにてなる窓から真空室外に取り出
される。
置において、真空室に設けられたＸ線源が発生するＸ線
は、一般にヘリリウムにてなる窓から真空室外に取り出
される。
半導体装置の製造において、紫外線より１かに短波長で
あり高解像度が達成されるＸ線を利用したＸ線露光装置
は、０．１μｍのパターン転写を可能ならしめる次世代
リソグラフィーの一つとして注目されている。
あり高解像度が達成されるＸ線を利用したＸ線露光装置
は、０．１μｍのパターン転写を可能ならしめる次世代
リソグラフィーの一つとして注目されている。
第４図は従来のＸ線照射装置の要部を示す概略図である
。
。
第４図において、Ｘ線照射装置要部は真空室１にＸ線源
２を収容し、真空室ｌには厚さ２５μｍ程度のベリリウ
ム窓３が設けられ、Ｘ線源２より出射したＸ線４は、ベ
リリウム窓３を通り真空室１の外に取り出されるように
なる。
２を収容し、真空室ｌには厚さ２５μｍ程度のベリリウ
ム窓３が設けられ、Ｘ線源２より出射したＸ線４は、ベ
リリウム窓３を通り真空室１の外に取り出されるように
なる。
真空室１は、１０− ’Ｔｏｒｒ以上の高真空にされる
。
。
［発明が解決しようとする課題］
従来のＸ線照射装置において、ベリリウム窓３はＸ線照
射下における環境耐性が悪く、Ｘ線４を真空室１より大
気中に取り出して利用するとき、ベリリウム窓３の外表
面が大気中の酸素、水分と反応してコロ−ジョンが発生
（腐食）する。
射下における環境耐性が悪く、Ｘ線４を真空室１より大
気中に取り出して利用するとき、ベリリウム窓３の外表
面が大気中の酸素、水分と反応してコロ−ジョンが発生
（腐食）する。
その結果、真空リークを引き起こし真空室１の高真空が
維持できないようなる。
維持できないようなる。
第５図は前記コロ−ジョン対策が施された従来のＸ線照
射装置要部の一例を示す概略図である。
射装置要部の一例を示す概略図である。
第５図において、ベリリウム窓３の外側に不活性であり
比較的Ｘ線透過率がよいヘリウムガス５の流通路６と、
ポリイミド膜等にてなるＸ線透過窓７を設ける。
比較的Ｘ線透過率がよいヘリウムガス５の流通路６と、
ポリイミド膜等にてなるＸ線透過窓７を設ける。
このような装置では、ヘリウムガス５がへゾリウム窓３
の外表面を覆うため、ベリリウム窓３にコロ−ジョンが
発生し難くなる。
の外表面を覆うため、ベリリウム窓３にコロ−ジョンが
発生し難くなる。
しかし、高価なヘリウムガス５の流出防止、用通路６を
設けることによって装置構成が複雑化される、Ｘ線透過
窓７によってＸ線強度が減衰するという欠点があった。
設けることによって装置構成が複雑化される、Ｘ線透過
窓７によってＸ線強度が減衰するという欠点があった。
装置構成が複雑化しＸ線強度が減衰する前記欠点の除去
を目的とした本発明のＸ線照射装置は、その実施例を示
す第１図によれば、Ｘ線源２を収容した真空室１に設け
られたＸ線取り出し用へゾリウム窓１１の外表面に、酸
化ベリリウム層１２が形成されてなることを特徴とする
。
を目的とした本発明のＸ線照射装置は、その実施例を示
す第１図によれば、Ｘ線源２を収容した真空室１に設け
られたＸ線取り出し用へゾリウム窓１１の外表面に、酸
化ベリリウム層１２が形成されてなることを特徴とする
。
上記手段によれば、ベリリウム窓の外表面に酸化ベリリ
ウム層を形成したことにより、ベリリウム窓の環境耐性
が向上し、Ｘ線強度が確保されるようになる。そして、
それらは装置構成を変えることな〈実施できる。
ウム層を形成したことにより、ベリリウム窓の環境耐性
が向上し、Ｘ線強度が確保されるようになる。そして、
それらは装置構成を変えることな〈実施できる。
以下に、図面を用いて本発明の実施例によるＸ線照射装
置を説明する。
置を説明する。
第１図は本発明の一実施例によるＸ線照射装置の要部を
示す概略図、第２図は第１図に示すベリリウム窓の斜視
図、第３図は第１図に示すベリリウム窓の製造例の工程
図である。
示す概略図、第２図は第１図に示すベリリウム窓の斜視
図、第３図は第１図に示すベリリウム窓の製造例の工程
図である。
前出の第４図と共通部分に同一符号を使用した第１図に
おいて、Ｘ線照射装置要部は真空室１にＸ線源２を収容
し、真空室１には厚さ２５μｍ程度のベリリウム窓１１
が設けられ、Ｘ線源２より出射したＸ線４は、ベリリウ
ム窓１１を通り真空室１の外に取り出されるようになる
。
おいて、Ｘ線照射装置要部は真空室１にＸ線源２を収容
し、真空室１には厚さ２５μｍ程度のベリリウム窓１１
が設けられ、Ｘ線源２より出射したＸ線４は、ベリリウ
ム窓１１を通り真空室１の外に取り出されるようになる
。
ベリリウム窓１１は、外表面にヘリルと俗称される酸化
ベリリウムＪ’ｉ１２が形成され、第２図に示す如く例
えばステンレスにてなる環状フランジエ３に気密保持さ
れる。
ベリリウムＪ’ｉ１２が形成され、第２図に示す如く例
えばステンレスにてなる環状フランジエ３に気密保持さ
れる。
第３図（イ）において、ベリリウム板１４は従来のベリ
リウム窓３と同様に製造される。
リウム窓３と同様に製造される。
第３図（Ｉｌｌ）において、ベリリウム板１４の表面に
酸素のイオン・インプラチージョン、例えば８０ＫＶ程
度の高エネルギが与えた酸素イオン１５をベリリウム板
１４に注入させると、第３図（ハ）に示す如く厚さ０．
１μｍ程度の酸化ベリリウム層１２が形成され、−、ゾ
リウム窓１１が完成する。
酸素のイオン・インプラチージョン、例えば８０ＫＶ程
度の高エネルギが与えた酸素イオン１５をベリリウム板
１４に注入させると、第３図（ハ）に示す如く厚さ０．
１μｍ程度の酸化ベリリウム層１２が形成され、−、ゾ
リウム窓１１が完成する。
かかる酸化ベリリウム層１２は、ベリリウム窓１１のＸ
線透過率を損なうことなく、大気中の酸素および水分に
対し安定であり、従来のベリリウム窓３におけるコロ−
ジョンが発生しないようになる。
線透過率を損なうことなく、大気中の酸素および水分に
対し安定であり、従来のベリリウム窓３におけるコロ−
ジョンが発生しないようになる。
以上説明したよう日本発明によれば、Ｘ線透過率を損な
うことなくベリリウム窓の環境耐性が向上し、ｘＨ強度
が確保されるようになり、構成を変えることなくＸ線照
射装置の安定使用が可能になる効果を存する。
うことなくベリリウム窓の環境耐性が向上し、ｘＨ強度
が確保されるようになり、構成を変えることなくＸ線照
射装置の安定使用が可能になる効果を存する。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の一実施例によるＸ線照射装置の要部、
第２図は第１図に示すベリリウム窓の斜視図、第３図は
第１図に示すベリリウム窓の製造例の工程図、 第４図は従来のＸ線照射装置の要部、 第５図はベリリウム窓のコロ−ジョン対策が施された従
来のＸ線照射装置の要部、 である。 図中において、 １は真空室、 ２はＸ線源、 １１はベリリウム窓、 １２は酸化ベリリウム層、 を示す。 オ発明カー実た帝ＩＥよろＸ糸駆領射装置のヤ部王 １
目 ′＃２ 虱３
第１図に示すベリリウム窓の製造例の工程図、 第４図は従来のＸ線照射装置の要部、 第５図はベリリウム窓のコロ−ジョン対策が施された従
来のＸ線照射装置の要部、 である。 図中において、 １は真空室、 ２はＸ線源、 １１はベリリウム窓、 １２は酸化ベリリウム層、 を示す。 オ発明カー実た帝ＩＥよろＸ糸駆領射装置のヤ部王 １
目 ′＃２ 虱３
Claims (1)
- Ｘ線源（２）を収容した真空室（１）に設けられたＸ線
取り出し用ベリリウム窓（１１）の外表面に、酸化ベリ
リウム層（１２）が形成されてなることを特徴とするＸ
線照射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2063269A JPH03266399A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | Ｘ線照射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2063269A JPH03266399A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | Ｘ線照射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03266399A true JPH03266399A (ja) | 1991-11-27 |
Family
ID=13224411
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2063269A Pending JPH03266399A (ja) | 1990-03-14 | 1990-03-14 | Ｘ線照射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03266399A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2015111504A (ja) * | 2013-12-06 | 2015-06-18 | 株式会社東芝 | Ｘ線管及びｘ線管の製造方法 |
| JP2020521303A (ja) * | 2017-05-19 | 2020-07-16 | イマジン サイエンティフィック，インコーポレイテッド | 単色ｘ線撮像システム及び方法 |
| US11744536B2 (en) | 2018-02-09 | 2023-09-05 | Imagine Scientific, Inc. | Monochromatic x-ray imaging systems and methods |
| US11903754B2 (en) | 2009-04-16 | 2024-02-20 | Imagine Scientific, Inc. | Monochromatic X-ray methods and apparatus |
-
1990
- 1990-03-14 JP JP2063269A patent/JPH03266399A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US11903754B2 (en) | 2009-04-16 | 2024-02-20 | Imagine Scientific, Inc. | Monochromatic X-ray methods and apparatus |
| JP2015111504A (ja) * | 2013-12-06 | 2015-06-18 | 株式会社東芝 | Ｘ線管及びｘ線管の製造方法 |
| JP2020521303A (ja) * | 2017-05-19 | 2020-07-16 | イマジン サイエンティフィック，インコーポレイテッド | 単色ｘ線撮像システム及び方法 |
| US11833369B2 (en) | 2017-05-19 | 2023-12-05 | Imagine Scientific, Inc. | Monochromatic x-ray imaging systems and methods |
| US11744536B2 (en) | 2018-02-09 | 2023-09-05 | Imagine Scientific, Inc. | Monochromatic x-ray imaging systems and methods |
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