JPH03264544A - 1,1,1,3,3,3‐ヘキサフルオロプロパン‐2‐d‐2‐オール‐dの製造法 - Google Patents

1,1,1,3,3,3‐ヘキサフルオロプロパン‐2‐d‐2‐オール‐dの製造法

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JPH03264544A
JPH03264544A JP2063450A JP6345090A JPH03264544A JP H03264544 A JPH03264544 A JP H03264544A JP 2063450 A JP2063450 A JP 2063450A JP 6345090 A JP6345090 A JP 6345090A JP H03264544 A JPH03264544 A JP H03264544A
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JP
Japan
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deuterium
reaction
hexafluoroacetone
transition metal
metal catalyst
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Toshimichi Maruta
丸田 順道
Katsuyoshi Murata
村田 勝義
Toru Nakasora
中空 徹
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Central Glass Co Ltd
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Central Glass Co Ltd
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    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
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  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、樹脂に特異な溶解能力を有する1、1゜1.
3,3.3−へキサフルオロ−2−プロパツール(以下
HFIPという)の特性を利用したNMRによる樹脂分
析において、重水素化溶媒として用いられるフッ素化重
水素化アルコールの製造法に関する。
[従来技術] J、Chem、Soc、Fraday Trans、2
,68.1642(1972)によれば1.Ll3,3
.3−へキサフルオロアセトン(以下HFAという)を
テトラヒドロフラン溶媒中においてリチウムアルミニウ
ムシュウテライドを用いて還元し、−旦LLL3,3.
3−ヘキサフルオロプロパン−2−d−2−オールとし
た後、これを重水中から4度蒸留することで純度95%
のCI、L3,3.3へ−r−tフルオロプロパンー2
−d−2−オール−d(以下HF I P−d2という
)を得ているが、大量合成には不向きであり、また高純
度のものは得られ難い。
[問題点を解決するための具体的手段]本発明者らはか
かる問題点に鑑み鋭意検討の結果本発明に到達したもの
である。すなわち本発明は遷移金属触媒の存在下に重水
素を用いてヘキサフルオロアセトンを還元することを特
徴とするHFIP−d2の製造法および遷移金属触媒の
存在下に重水素を用いてヘキサフルオロアセトンを重水
中において還元することを特徴とするHFIPd2の製
造法である。
本発明において使用する遷移金属触媒としてはニッケル
、パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウムより選ばれ
る少なくとも1種であり、活性炭、アルミナ等の担体へ
の担持量は使用する金属により異なるが、0.1〜50
重量%の範囲で使用できる。反応は気相法、液相法等、
特に限定されるものではないが、比較的高価な重水素の
転化率を考慮すれば液相法が有利である。
気相法で実施する場合、ニッケル触媒・とじては例えば
日揮化学@製N−111等を単独で、あるいは活性炭、
活性アルミナ等の混合物として使用することが可能であ
り、反応温度としては50℃〜150°C1接触時間と
しては5〜10秒の範囲が好ましい。パラジウム触媒と
しては例えば日本エンゲルハルト−製0.5%活性炭あ
るいは活性アルミナ担持触媒をそのまま用いることが可
能で反応温度としては130〜200°C1接触時間と
しては5〜15秒が好ましく、白金触媒としては例えば
日本エンゼルハルト■製0.5%活性炭あるいは活性ア
ルミナ担持触媒をそのまま用いることが可能で、反応温
度としては80〜200’C。
接触時間としては10〜40秒が好ましく、ロジウム触
媒としては例えば日本エンゲルハルト−製0.5%活性
炭あるいは活性アルミナ担持触媒をそのまま用いること
が可能で、反応温度としては150〜200℃、接触時
間としては10〜30秒が好ましい。ルテニウム触媒と
しては例えば日本エンゲルハルト−製0.5%活性炭あ
るいは活性アルミナ担持触媒をそのまま用いることが可
能である。反応温度としては70〜15.0℃、接触時
間としては5〜15秒が好ましい。HFAは単独あるい
は重水溶液として反応管に供することが可能であり、重
水溶液として供する場合は発熱の制御が容易となる利点
がある。重水溶液として供する場合のHFA組成は特に
限定されないが6099重量%が好ましい。HFAと重
水素との供給比は特に限定されないが重水素/HFA比
が0゜5〜10が好ましく、さらに好ましくは1〜6で
ある。0.5より小さい場合はHFAの転化率が著しく
低くかつ重水素の添加率も大きくない。また10より大
きい場合はHFAの転化率は100%であるが重水素の
ロスが大きすぎる。
反応を開始するに際しては触媒および担体に吸着されて
いる水分を除去するために、窒素気流下200〜300
℃で前処理し、水分除去をなし終えた後、重水素に切り
替えて反応温度において触媒の活性化を図ることが純度
向上のために好ましい。
液相法で実施する場合は、HFAの重水溶液を用い、こ
の溶液のHFA組成としては特に限定されないが60〜
90重量%が好ましい。触媒としては活性炭、活性アル
ミナ、ゼオライト等に担持されたパラジウム、還元ニッ
ケル、ルテニウム、白金、ロジウムあるいはラネー・ニ
ッケルを用いることができる。ラネー・ニッケルを用い
る場合は通常展開した溶液を十分重水で置換したものを
供する。
反応圧力としては大気圧以上であればよ<10K g 
/ cJ以上では反応終了時におけるロス分が大きくな
るため、好ましくは6〜10 K g /cJである。
反応温度は50〜150℃の範囲が好ましく、さらに好
ましくは80〜110℃である。
実施例1 磁気攪拌子を入れた100m1ガラス製耐圧容器に5%
Pd/C2,3g、重水15.0gを仕込み密閉後、H
FA41.Ogを圧入した後、系内を重水素で置換した
。油浴に浸し、内温が90°Cになるように加熱攪拌し
、内圧6 K g / caになるように重水素を連続
添加した。4時間後には吸収が認められなくなり、さら
に1時間反応させた後分析したところHFAの転化率は
100%であり、選択率は99.9%であった。次に反
応液をそのまま窒素気流下に蒸留塔に仕込み蒸留して沸
点610〜61°Cの留分37.7g(収率89.7m
1%)を得た。GLCおよび’Hn m r分析により
HFIP−d2純度は99.8%であった。
実施例2 内径12mmφ、長さ500mmのパイレックス製ガラ
ス管に0.5%Pd/Al□03ペレッ)30mlを充
填し、窒素を流しながら電気炉により反応管内温度を2
50°Cまで昇温した。触媒に吸着された水分の発生が
認められなくなった時点で反応管の温度を170°Cに
下げ、重水素を流して(30c c/m1n)15分間
活性化をおこなった。反応ガス回収系をパージラインか
ら水浴、ドライアイス−メタノール浴で冷却した回収ラ
インへ切り替えHFAの供給を開始した。水浴中に補修
された粗HF I P−d2を蒸留して純HFIP−d
2を得た。
重水素/HFAモル比3.3、接触時間13秒で5時間
反応させたところHFAの消費量は0゜352mo I
、重水素の消費量は1.16molであり、粗HFIP
−d2の収量は59.0g。
蒸留後の純HF■P−d2は55.5gでその重水素基
準収率は28.5%、HFA基準収率は93.8%であ
った。同様にモル比1.0、接触時間8秒で反応させた
ところ重水素基準収率43゜5%、HFA基準収率43
.5%でHF I P−d2を得た。
[発明の効果] 本発明の方法によれば樹脂のNMR分析における重水素
化溶媒等として有用な1.LL、3,3.3−ヘキサフ
ルオロプロパン−2−d−2−オール−dを容易かつ収
率よく製造することができるものである。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)遷移金属触媒の存在下に重水素を用いてヘキサフ
    ルオロアセトンを還元することを特徴とする1,1,1
    ,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−d−2−
    オール−dの製造法。
  2. (2)遷移金属触媒の存在下に重水素を用いてヘキサフ
    ルオロアセトンを重水中において還元することを特徴と
    する1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン
    −2−d−2−オール−dの製造法。
JP2063450A 1990-03-14 1990-03-14 1,1,1,3,3,3‐ヘキサフルオロプロパン‐2‐d‐2‐オール‐dの製造法 Expired - Fee Related JPH075490B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06184025A (ja) * 1992-12-21 1994-07-05 Central Glass Co Ltd 1,1,1,3,3,3−ヘキサフルオロプロパン−2−オ−ルの製造法

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JPS56139433A (en) * 1980-04-03 1981-10-30 Central Glass Co Ltd Preparation of 1,1,1,3,3,3,-hexafluoropropan-2-ol
JPS60237034A (ja) * 1984-05-08 1985-11-25 Nippon Sheet Glass Co Ltd 重水素を含む芳香族化合物及びその製造方法
JPS63198638A (ja) * 1987-01-17 1988-08-17 ヘキスト・アクチエンゲゼルシャフト 重水素化した有機化合物の製造方法

Patent Citations (3)

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