JPH03258476A - レーザ切断方法 - Google Patents
レーザ切断方法Info
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- JPH03258476A JPH03258476A JP2055324A JP5532490A JPH03258476A JP H03258476 A JPH03258476 A JP H03258476A JP 2055324 A JP2055324 A JP 2055324A JP 5532490 A JP5532490 A JP 5532490A JP H03258476 A JPH03258476 A JP H03258476A
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Classifications
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/50—Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece
- B23K26/53—Working by transmitting the laser beam through or within the workpiece for modifying or reforming the material inside the workpiece, e.g. for producing break initiation cracks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
- C03B33/08—Severing cooled glass by fusing, i.e. by melting through the glass
- C03B33/082—Severing cooled glass by fusing, i.e. by melting through the glass using a focussed radiation beam, e.g. laser
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23K—SOLDERING OR UNSOLDERING; WELDING; CLADDING OR PLATING BY SOLDERING OR WELDING; CUTTING BY APPLYING HEAT LOCALLY, e.g. FLAME CUTTING; WORKING BY LASER BEAM
- B23K26/00—Working by laser beam, e.g. welding, cutting or boring
- B23K26/60—Preliminary treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B33/00—Severing cooled glass
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はレーザ光を用いたガラスの切断方法および装置
に関するものである。
に関するものである。
従来の技術
以下図面を参照しながら、上述した従来のガラスのレー
ザ切断方法および装置について説明する。
ザ切断方法および装置について説明する。
第5図は従来のガラスのレーザ切断方法および装置の構
成図を示す。第5図において、14はレーザ発振器、1
5はレーザ・ビーム、16は反射鏡、17は集光レンズ
、18はガラス板、19はX−Yテーブル、20は切断
線である。レーザ発振器14から出射されたレーザ・ビ
ーム15は集光レンズ17によってガラス板18上に集
光され、同時にX−Yテーブル19によって移動される
。レーザ発振器14に炭酸ガス・レーザを用いた場合、
ガラス材料は、このレーザの波長10.6μmに対する
吸収率が高いため、ガラス板18のレーザ光15が照射
された部分は溶融し切断される。また、レーザ発振器1
4にYAGレーザを用いた場合、このレーザの波長1.
06μmに対するガラスの吸収率は一般に低いが、黒部
ら(昭和63年度精密工学会春季大会学術講演会講演論
文集、P853)によると、ソーダ石炭ガラスを割断で
きることが示されている。
成図を示す。第5図において、14はレーザ発振器、1
5はレーザ・ビーム、16は反射鏡、17は集光レンズ
、18はガラス板、19はX−Yテーブル、20は切断
線である。レーザ発振器14から出射されたレーザ・ビ
ーム15は集光レンズ17によってガラス板18上に集
光され、同時にX−Yテーブル19によって移動される
。レーザ発振器14に炭酸ガス・レーザを用いた場合、
ガラス材料は、このレーザの波長10.6μmに対する
吸収率が高いため、ガラス板18のレーザ光15が照射
された部分は溶融し切断される。また、レーザ発振器1
4にYAGレーザを用いた場合、このレーザの波長1.
06μmに対するガラスの吸収率は一般に低いが、黒部
ら(昭和63年度精密工学会春季大会学術講演会講演論
文集、P853)によると、ソーダ石炭ガラスを割断で
きることが示されている。
発明が解決しようとする課題
しかしながら上記従来法のうち、炭酸ガス・レーザを用
いたガラスの切断方法では、ガラス材料がレーザ光を吸
収し、熱加工によって、溶融し切断される。したがって
所定の切断幅を必要とし、また切断部周辺にだれや熱影
響部が生しるため、加工精度が十分でなく、さらに残留
熱応力によって切断部周辺に割れが発生するという課題
を有していた。
いたガラスの切断方法では、ガラス材料がレーザ光を吸
収し、熱加工によって、溶融し切断される。したがって
所定の切断幅を必要とし、また切断部周辺にだれや熱影
響部が生しるため、加工精度が十分でなく、さらに残留
熱応力によって切断部周辺に割れが発生するという課題
を有していた。
またYAGレーザを用いた方法では、ガラスのレーザ吸
収率が一般に低いため、エネルギー効率か悪く、切断可
能なガラス材料が限られてくる。
収率が一般に低いため、エネルギー効率か悪く、切断可
能なガラス材料が限られてくる。
また、裏面に蒸着膜等の他層か存在する場合には、ガラ
スを透過したレーザ光によって、蒸着膜か加工されると
いう課題のあることか判明した。
スを透過したレーザ光によって、蒸着膜か加工されると
いう課題のあることか判明した。
本発明は上記課題に鑑み、切断幅を要することなくガラ
スを任意の形状に精度良く切断することができ、しかも
裏面に他層が存在する場合も不必要な加工を施さないガ
ラスのレーザ切断方法を提供するものである。
スを任意の形状に精度良く切断することができ、しかも
裏面に他層が存在する場合も不必要な加工を施さないガ
ラスのレーザ切断方法を提供するものである。
課題を解決するための手段
上記問題点を解決するために本発明のガラスのレーザ切
断方法は、ガラスの少くとも片方の面に連続した罫書き
線を形威し、罫書き線上にレーザ光を照射しガラスを切
断するもので、罫書きとレーザ切断を一台の装置で行な
うために、罫書き点の移動に追従してレーザ光が罫書き
線上で移動するように、罫書き装置と集光装置と移動装
置とを備えたものである。
断方法は、ガラスの少くとも片方の面に連続した罫書き
線を形威し、罫書き線上にレーザ光を照射しガラスを切
断するもので、罫書きとレーザ切断を一台の装置で行な
うために、罫書き点の移動に追従してレーザ光が罫書き
線上で移動するように、罫書き装置と集光装置と移動装
置とを備えたものである。
作 用
本発明は上記した構成によって、レーザ光は照射部近傍
のガラスにすへて吸収され、局所的に温度か上昇し、温
度勾配に寄因した弾性的ひずみエネルギーが増大する。
のガラスにすへて吸収され、局所的に温度か上昇し、温
度勾配に寄因した弾性的ひずみエネルギーが増大する。
その結果、ガラスが溶融せずとも罫書き線を発生点とし
たき裂が厚さ方向に発生し、レーザ光の移動にともなっ
てき裂は伝播し、ガラスを精度良く切断することが出来
る。また、ガラス材料は、BH3が波長2,9μm以上
、石英が4.3μm以上でそれぞれ透過率が0%になる
ので、4μm以上の波長を有すレーザ発振器を選択する
ことによって、裏面に他層が存在する場合の不必要な加
工を防ぐことが出来る。
たき裂が厚さ方向に発生し、レーザ光の移動にともなっ
てき裂は伝播し、ガラスを精度良く切断することが出来
る。また、ガラス材料は、BH3が波長2,9μm以上
、石英が4.3μm以上でそれぞれ透過率が0%になる
ので、4μm以上の波長を有すレーザ発振器を選択する
ことによって、裏面に他層が存在する場合の不必要な加
工を防ぐことが出来る。
実 施 例
以下本発明の実施例におけるガラスのレーザ切断方法お
よび装置について、図面を参照しながら説明する。
よび装置について、図面を参照しながら説明する。
第1図は本発明の第1の実施例におけるガラスのレーザ
切断方法の構成図を示すものである。第1図において、
lは連続発振の炭酸ガス・レーザ発振器、2はレーザ光
、3は反射鏡、4は集光レンズ、5はガラス板、6は罫
書き線、7はX−Yテーブル、8は切断線である。炭酸
ガス・レーザ発振器1から出たレーザ光2は、反射鏡3
によって集光レンズ4に入射され、ガラス板5上に照射
される。目的の形状の罫書き線6上にレーザ・スポット
が来るようにX−Yテーブルを移動させることによって
、ガラス板5を所定の形状に切断することができる。ガ
ラス板5の厚さが1 mmの場合、加工点のパワー密度
を25〜50w/cfflとすると、切断速度10mm
/秒を得ることが出来た。
切断方法の構成図を示すものである。第1図において、
lは連続発振の炭酸ガス・レーザ発振器、2はレーザ光
、3は反射鏡、4は集光レンズ、5はガラス板、6は罫
書き線、7はX−Yテーブル、8は切断線である。炭酸
ガス・レーザ発振器1から出たレーザ光2は、反射鏡3
によって集光レンズ4に入射され、ガラス板5上に照射
される。目的の形状の罫書き線6上にレーザ・スポット
が来るようにX−Yテーブルを移動させることによって
、ガラス板5を所定の形状に切断することができる。ガ
ラス板5の厚さが1 mmの場合、加工点のパワー密度
を25〜50w/cfflとすると、切断速度10mm
/秒を得ることが出来た。
切断線8はレーザ・スポットの移動により進行するが、
切断の機構か局部的温度上昇にともなう弾性的ひずみに
寄因するものであるため、き裂の伝播はレーザ照射位置
よりも後方で発生する。罫書き線の形成方法としては機
械的手段による方か残留ひずみによる効果で、き裂の発
生が容易となる傾向がみられた。また、レーザ光の照射
方向は、罫書き線上に照射した方が、裏面から照射する
よりもき裂の発生が容易となる傾向がみられた。
切断の機構か局部的温度上昇にともなう弾性的ひずみに
寄因するものであるため、き裂の伝播はレーザ照射位置
よりも後方で発生する。罫書き線の形成方法としては機
械的手段による方か残留ひずみによる効果で、き裂の発
生が容易となる傾向がみられた。また、レーザ光の照射
方向は、罫書き線上に照射した方が、裏面から照射する
よりもき裂の発生が容易となる傾向がみられた。
第2図は本発明の第2の実施例におけるガラスレーザ切
断装置の構成図を示すものである。第2図において、9
はダイヤモンド・カッターである。ダイヤモンド・カッ
ター9の罫書き点にレーザ加工点が追従するようにX−
Yテーブル7を図中の矢印の方向に移動させると、ダイ
ヤモンド・カッター9によって罫書き線6が形威され、
さらに罫書き線6上に照射されるレーザ光2によって直
線の切断線8が形威されることとなる。
断装置の構成図を示すものである。第2図において、9
はダイヤモンド・カッターである。ダイヤモンド・カッ
ター9の罫書き点にレーザ加工点が追従するようにX−
Yテーブル7を図中の矢印の方向に移動させると、ダイ
ヤモンド・カッター9によって罫書き線6が形威され、
さらに罫書き線6上に照射されるレーザ光2によって直
線の切断線8が形威されることとなる。
以上のように、罫書き点にレーザ加工点が追従するよう
にガラス板を移動させることで、罫書きとレーザ切断と
を一工程で行える。
にガラス板を移動させることで、罫書きとレーザ切断と
を一工程で行える。
また、第2の実施例において、移動装置としてX−Yテ
ーブルでガラス板を移動させたが、罫書き装置とレーザ
集光装置を移動させる方式でも良く、この場合には曲線
の切断も可能となる。
ーブルでガラス板を移動させたが、罫書き装置とレーザ
集光装置を移動させる方式でも良く、この場合には曲線
の切断も可能となる。
第3図は本発明の第3の実施例におけるガラスのレーザ
切断装置の構成図を示すものである。第3図において、
10は回転機構、11と12は反射鏡である。炭酸ガス
・レーザ発振器1から出たレーザ光2は、反射鏡3によ
って回転機構10の中心に設置された反射鏡11に入射
され、さらに回転機構10の外周上に設置された反射鏡
12によって集光レンズ4に入射される。回転中心から
罫書き点までの距離とレーザ加工点までの距離とが等し
く、かつ回転方向(図中の矢印)に対してレーザ加工点
よりも前方にダイヤモンド・カッター9を設置すること
によって、罫書き線6上にレーザ光を照射することが出
来、ガラス板5上に円孤状の切断線8を形成することか
出来る。
切断装置の構成図を示すものである。第3図において、
10は回転機構、11と12は反射鏡である。炭酸ガス
・レーザ発振器1から出たレーザ光2は、反射鏡3によ
って回転機構10の中心に設置された反射鏡11に入射
され、さらに回転機構10の外周上に設置された反射鏡
12によって集光レンズ4に入射される。回転中心から
罫書き点までの距離とレーザ加工点までの距離とが等し
く、かつ回転方向(図中の矢印)に対してレーザ加工点
よりも前方にダイヤモンド・カッター9を設置すること
によって、罫書き線6上にレーザ光を照射することが出
来、ガラス板5上に円孤状の切断線8を形成することか
出来る。
第4図は本発明の第4の実施例におけるガラスのレーザ
切断装置の構成図を示すものである。第4図において、
13はガラス管である。第4の実施例が第3の実施例と
異なるのは、罫書き点とレーザ加工点の描く軌跡か回転
面に平行になるように集光レンズ4とダイヤモンド・カ
ッター9を配置した点で、このような構成によって、ガ
ラス管を内面から切断することが出来る。
切断装置の構成図を示すものである。第4図において、
13はガラス管である。第4の実施例が第3の実施例と
異なるのは、罫書き点とレーザ加工点の描く軌跡か回転
面に平行になるように集光レンズ4とダイヤモンド・カ
ッター9を配置した点で、このような構成によって、ガ
ラス管を内面から切断することが出来る。
発明の効果
以上のように本発明は、ガラスの少くとも片方の面に連
続した罫書き線を形威し、罫書き線上にレーザ光を照射
しガラスを切断するもので、罫書きとレーザ切断を一台
の装置で行うために、罫書き点の移動に追従してレーザ
光か罫書き線上で移動するように、罫書き装置と集光装
置と移動装置とを備えることによって、切断幅を要する
ことなくガラスを任意の形状に精度良く切断することが
でき、しかも裏面に他層が存在する場合も不必要な加工
を施さずガラスを切断することができる。
続した罫書き線を形威し、罫書き線上にレーザ光を照射
しガラスを切断するもので、罫書きとレーザ切断を一台
の装置で行うために、罫書き点の移動に追従してレーザ
光か罫書き線上で移動するように、罫書き装置と集光装
置と移動装置とを備えることによって、切断幅を要する
ことなくガラスを任意の形状に精度良く切断することが
でき、しかも裏面に他層が存在する場合も不必要な加工
を施さずガラスを切断することができる。
第1図は本発明の第1の実施例におけるガラスのレーザ
切断方法の構成図、第2図は本発明の第2の実施例にお
けるガラスのレーザ切断装置の構成図、第3図は本発明
の第3の実施例におけるガング、5・・・・・・ガラス
板、6・・・・・・罫書き線、8・・・・・・切断線、
9・・・・・・ダイヤモンド・カッター 10・・・・
・・回転機構、11・・・・・・反射鏡、13・・・・
・・ガラス管。
切断方法の構成図、第2図は本発明の第2の実施例にお
けるガラスのレーザ切断装置の構成図、第3図は本発明
の第3の実施例におけるガング、5・・・・・・ガラス
板、6・・・・・・罫書き線、8・・・・・・切断線、
9・・・・・・ダイヤモンド・カッター 10・・・・
・・回転機構、11・・・・・・反射鏡、13・・・・
・・ガラス管。
Claims (7)
- (1)ガラスの少くとも片方の面に連続した罫書き線を
形成し、罫書き線上にレーザ光を照射するレーザ切断方
法。 - (2)ガラス表面が溶触する前にレーザ・スポットを移
動させる特許請求の範囲第1項記載のレーザ切断方法。 - (3)前記レーザの波長が4μm以上である特許請求の
範囲第1項記載のレーザ切断方法。 - (4)前記罫書き線は機械的手段によって形成される特
許請求の範囲第1項記載のレーザ切断方法。 - (5)前記レーザ光は連続発振レーザ源から出射される
特許請求の範囲第1項記載のレーザ切断方法。 - (6)罫書き線を形成した面とは反対の方向からレーザ
を照射する特許請求の範囲第1項記載のレーザ切断方法
。 - (7)ガラス表面に罫書き線を形成する罫書き装置と、
レーザ光の集光装置と、罫書き点の移動に追従してレー
ザ光が罫書き線上で移動する移動装置とを備えたレーザ
切断装置。(8)前記罫書き装置と集光装置は中心から
の距離が等しくなるように回転機構上に設けられた特許
請求の範囲第7項記載のレーザ切断装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2055324A JP2712723B2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | レーザ切断方法 |
US07/665,215 US5138131A (en) | 1990-03-07 | 1991-03-05 | Laser cutting method and apparatus for effecting said method |
KR1019910003675A KR940000235B1 (ko) | 1990-03-07 | 1991-03-07 | 레이저 절단장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2055324A JP2712723B2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | レーザ切断方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03258476A true JPH03258476A (ja) | 1991-11-18 |
JP2712723B2 JP2712723B2 (ja) | 1998-02-16 |
Family
ID=12995365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2055324A Expired - Lifetime JP2712723B2 (ja) | 1990-03-07 | 1990-03-07 | レーザ切断方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5138131A (ja) |
JP (1) | JP2712723B2 (ja) |
KR (1) | KR940000235B1 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026435A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 硬質脆性板の割断方法 |
US6864947B2 (en) | 2000-02-01 | 2005-03-08 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Method of fabricating liquid crystal display substrate and the same |
JP2009126757A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Tosoh Quartz Corp | ガラス管の切断方法 |
JP2017202686A (ja) * | 2014-03-31 | 2017-11-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 脆性材料基板のクラックライン形成方法 |
Families Citing this family (41)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2024441C1 (ru) * | 1992-04-02 | 1994-12-15 | Владимир Степанович Кондратенко | Способ резки неметаллических материалов |
US5387776A (en) * | 1993-05-11 | 1995-02-07 | General Electric Company | Method of separation of pieces from super hard material by partial laser cut and pressure cleavage |
JP3159593B2 (ja) * | 1994-02-28 | 2001-04-23 | 三菱電機株式会社 | レーザ加工方法及びその装置 |
US5871134A (en) * | 1994-12-27 | 1999-02-16 | Asahi Glass Company Ltd. | Method and apparatus for breaking and cutting a glass ribbon |
DE69629704T2 (de) * | 1995-08-31 | 2004-07-08 | Corning Inc. | Verfahren und vorrichtung zum zerbrechen von sprödem material |
JPH10128567A (ja) * | 1996-10-30 | 1998-05-19 | Nec Kansai Ltd | レーザ割断方法 |
MY120533A (en) * | 1997-04-14 | 2005-11-30 | Schott Ag | Method and apparatus for cutting through a flat workpiece made of brittle material, especially glass. |
JP3498895B2 (ja) * | 1997-09-25 | 2004-02-23 | シャープ株式会社 | 基板の切断方法および表示パネルの製造方法 |
KR100539971B1 (ko) * | 1998-08-26 | 2006-04-28 | 삼성전자주식회사 | 엘씨디 글래스 절단 장치, 엘씨디 글래스 절단방법 및 이를이용한 대형 평판 표시 소자 제조 방법 |
US6259058B1 (en) | 1998-12-01 | 2001-07-10 | Accudyne Display And Semiconductor Systems, Inc. | Apparatus for separating non-metallic substrates |
US6420678B1 (en) | 1998-12-01 | 2002-07-16 | Brian L. Hoekstra | Method for separating non-metallic substrates |
US6252197B1 (en) | 1998-12-01 | 2001-06-26 | Accudyne Display And Semiconductor Systems, Inc. | Method and apparatus for separating non-metallic substrates utilizing a supplemental mechanical force applicator |
US6297869B1 (en) * | 1998-12-04 | 2001-10-02 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate and a liquid crystal display panel capable of being cut by using a laser and a method for manufacturing the same |
US6795274B1 (en) | 1999-09-07 | 2004-09-21 | Asahi Glass Company, Ltd. | Method for manufacturing a substantially circular substrate by utilizing scribing |
US6664503B1 (en) | 1999-09-07 | 2003-12-16 | Asahi Glass Company, Ltd. | Method for manufacturing a magnetic disk |
KR100606955B1 (ko) * | 1999-09-21 | 2006-07-31 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 레이저 절단장치 및 그것에 의한 유리기판 절단방법 |
KR100721391B1 (ko) | 1999-11-24 | 2007-05-23 | 어플라이드 포토닉스 아이엔씨. | 비금속성 재료 분리 방법 및 장치 |
JP4786783B2 (ja) * | 2000-08-18 | 2011-10-05 | 日本板硝子株式会社 | ガラス板の切断方法及び記録媒体用ガラス円盤 |
JP2002172479A (ja) * | 2000-09-20 | 2002-06-18 | Seiko Epson Corp | レーザ割断方法、レーザ割断装置、液晶装置の製造方法並びに液晶装置の製造装置 |
DE10052072B4 (de) * | 2000-10-19 | 2005-06-16 | Heraeus Tenevo Ag | Verfahren zur Bearbeitung eines langgestreckten hohlzylindrischen Bauteils aus Quarzglas mittels Laserstrahlung |
US6576870B2 (en) * | 2000-11-13 | 2003-06-10 | Hannstar Display Corp. | Apparatus with double laser beams for cutting two bonded glass substrates and method thereof |
JP4512786B2 (ja) * | 2000-11-17 | 2010-07-28 | 独立行政法人産業技術総合研究所 | ガラス基板の加工方法 |
US6844523B2 (en) * | 2001-09-07 | 2005-01-18 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser apparatus, laser irradiation method, manufacturing method for a semiconductor device, semiconductor device and electronic equipment |
US7589032B2 (en) * | 2001-09-10 | 2009-09-15 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Laser apparatus, laser irradiation method, semiconductor manufacturing method, semiconductor device, and electronic equipment |
KR100786179B1 (ko) * | 2002-02-02 | 2007-12-18 | 삼성전자주식회사 | 비금속 기판 절단 방법 및 장치 |
US6960813B2 (en) * | 2002-06-10 | 2005-11-01 | New Wave Research | Method and apparatus for cutting devices from substrates |
US6580054B1 (en) * | 2002-06-10 | 2003-06-17 | New Wave Research | Scribing sapphire substrates with a solid state UV laser |
US6806544B2 (en) * | 2002-11-05 | 2004-10-19 | New Wave Research | Method and apparatus for cutting devices from conductive substrates secured during cutting by vacuum pressure |
TWI248244B (en) * | 2003-02-19 | 2006-01-21 | J P Sercel Associates Inc | System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot |
US7299999B2 (en) * | 2003-04-02 | 2007-11-27 | Rain Bird Corporation | Rotating stream sprinkler with torque balanced reaction drive |
US6958106B2 (en) * | 2003-04-09 | 2005-10-25 | Endicott International Technologies, Inc. | Material separation to form segmented product |
DE502004012301D1 (de) * | 2003-10-29 | 2011-04-28 | Leica Geosystems Ag | Optisches Bauteil und Verfahren zu dessen Herstellung |
US20060021977A1 (en) * | 2004-07-30 | 2006-02-02 | Menegus Harry E | Process and apparatus for scoring a brittle material incorporating moving optical assembly |
US7820941B2 (en) * | 2004-07-30 | 2010-10-26 | Corning Incorporated | Process and apparatus for scoring a brittle material |
KR100687303B1 (ko) * | 2006-05-09 | 2007-02-27 | 한국과학기술원 | 유도 브릴루앙 위상 공액 거울을 이용한 공초점 레이저유리 절단장치 |
CN101468875A (zh) * | 2007-12-24 | 2009-07-01 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 脆性非金属基材及其切割方法 |
DE102008022259A1 (de) * | 2008-05-06 | 2009-11-12 | Qvf Engineering Gmbh | Vorrichtung und Verfahren zur Verarbeitung von Glaskomponenten |
US8051679B2 (en) * | 2008-09-29 | 2011-11-08 | Corning Incorporated | Laser separation of glass sheets |
TW201143947A (en) * | 2009-12-07 | 2011-12-16 | J P Sercel Associates Inc | Laser machining and scribing systems and methods |
US20130256286A1 (en) * | 2009-12-07 | 2013-10-03 | Ipg Microsystems Llc | Laser processing using an astigmatic elongated beam spot and using ultrashort pulses and/or longer wavelengths |
CN105563446B (zh) * | 2015-08-07 | 2018-09-21 | 广东泓睿科技有限公司 | 五金板材放样切割辅佐装置 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54106524A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-21 | Hitachi Ltd | Method of deviding brittle material |
JPH01186294A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-25 | Hitachi Ltd | 穴開け装置 |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH643397A5 (de) * | 1979-09-20 | 1984-05-30 | Ibm | Raster-tunnelmikroskop. |
-
1990
- 1990-03-07 JP JP2055324A patent/JP2712723B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1991
- 1991-03-05 US US07/665,215 patent/US5138131A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-03-07 KR KR1019910003675A patent/KR940000235B1/ko not_active IP Right Cessation
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS54106524A (en) * | 1978-02-10 | 1979-08-21 | Hitachi Ltd | Method of deviding brittle material |
JPH01186294A (ja) * | 1988-01-22 | 1989-07-25 | Hitachi Ltd | 穴開け装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001026435A (ja) * | 1999-07-14 | 2001-01-30 | Nakamura Tome Precision Ind Co Ltd | 硬質脆性板の割断方法 |
US6864947B2 (en) | 2000-02-01 | 2005-03-08 | Nec Lcd Technologies, Ltd. | Method of fabricating liquid crystal display substrate and the same |
JP2009126757A (ja) * | 2007-11-26 | 2009-06-11 | Tosoh Quartz Corp | ガラス管の切断方法 |
JP2017202686A (ja) * | 2014-03-31 | 2017-11-16 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 脆性材料基板のクラックライン形成方法 |
JP2017209999A (ja) * | 2014-03-31 | 2017-11-30 | 三星ダイヤモンド工業株式会社 | 脆性材料基板の分断方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR910016429A (ko) | 1991-11-05 |
US5138131A (en) | 1992-08-11 |
JP2712723B2 (ja) | 1998-02-16 |
KR940000235B1 (ko) | 1994-01-12 |
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