JPH03257165A - 表面波モータによる試料搬送機構 - Google Patents

表面波モータによる試料搬送機構

Info

Publication number
JPH03257165A
JPH03257165A JP5273190A JP5273190A JPH03257165A JP H03257165 A JPH03257165 A JP H03257165A JP 5273190 A JP5273190 A JP 5273190A JP 5273190 A JP5273190 A JP 5273190A JP H03257165 A JPH03257165 A JP H03257165A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
samples
surface wave
chamber
sluice valve
vacuum
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5273190A
Other languages
English (en)
Inventor
Yoshio Moronuki
諸貫 吉雄
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Individual
Original Assignee
Individual
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Individual filed Critical Individual
Priority to JP5273190A priority Critical patent/JPH03257165A/ja
Publication of JPH03257165A publication Critical patent/JPH03257165A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 本発明は、最近半導体分野で多く使われるようになった
、イオン注入、スパッターやCVD法等のプロセス処理
を行う真空装置等において、試料を損傷なしに、各県内
や各系外をまたがって、搬る。
〔従来技術と問題点〕
従来、固体試料を真空中で搬送する方法として、アーム
搬送、磁気浮上やベルト搬送等がある。このうちアーム
搬送を例にとって、その問題点を第3図で説明すると、
この搬送系は、フォーク駆動機構1と16、フォーク2
と15、アーム搬送機構17と18、仕切りバルブ4と
7とlOと13、予備排気室5と11及び、真空処理室
8からなる。
この搬送系の動作は、先ず仕切りバルブ4を開き7を閉
にした状態でフォーク駆動機構1及びフォーク2を使っ
て、試料3を予備排気室5の中に入れる。次に仕切りバ
ルブ4を閉め、予備排気室5を真空に排気後、仕切りバ
ルブ7を開き、試料6をアーム搬送機構17を使って、
真空処理室8内の9の場所に搬送する。以後は同じよう
な工程で、試料を14の場所までに搬送し、処理を終え
る。この方法の欠点は、試料を何回も移し替える点で、
このため試料は損傷を起こし、搬送機構そのものも、機
構が複雑なために信頼性に欠ける。
一方磁気浮上方式では、装置が複雑になってコストが高
い問題点、又、ベルト方式ではベルトの切れ等の問題点
がある。
〔構 威〕
本発明に使用する表面波モータについて第1図を使って
説明すると、この表面波モータは、圧電材料の伸び縮み
を利用するもので、圧電セラミックス2(例えばP b
 T i Os系(PT)等)に電極lと3を使って交
番電圧を加えると、セラミックス2中の陽イオンは電界
方向に、又陰イオンは逆方向に引力が働くので、相対的
にイオン間距離が変化し、伸縮が起きる。そこで、この
伸縮運動を弾性体4に加え、この伸縮運動に応じた波5
と6を作って上部に乗せた試料を搬送する。
第2図は請求項1項の1実施例を示す側面図で、第1図
で示した表面波モータlと4と7とlOと13、試料カ
セット2と14、仕切りノくルブ3と6と9と12、予
備排気室5と11及び、真空処理室8より構成する。
請求項2項は、試料が大きい場合に試料が搬送機構より
落下しないように、複数列の表面波モータを並べたもの
であり、第2図で示す表面波モタ1と4と7と10と1
3を複数列としている。
〔使用方法〕
以上のような構成下での使用方法を第2図に示す一実施
例で説明すると、試料を並べた試料カセット2を表面波
モータ1の上に置き、試料カセットの上下により試料1
5を、表面波モータ1の上に乗せた後、仕切りバルブ6
を閉の状態にし、仕切りバルブ3を開く。ここで、表面
波モータ1と4を動作させ、試料15を16の場所迄移
動する。
次に仕切りバルブ3を閉め、予備排気室5内を真空排気
する。ここで予備排気室5が、所定の圧力になったら、
仕切りバルブ6を開き、表面波モータ4と7を動作させ
、試料16を真空処理室8内の17の所迄に移動し、仕
切りバルブ6を閉め、真空処理を行う。以後は同じ様な
工程で試料を、19の場所迄に取り出し、工程は終了す
る。
一方試料が大きい場合は、表面波モータを複数列並べ、
固体試料がこれらの表面波モータによって支えられ落ち
ない様にして使用する。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明は表面波モータの伸縮運動
を利用し、試料を直線的に移動するのと、試料の移替え
を行わないので、試料の損傷が無く構造も簡単で、複雑
な機構を必要としてい特徴を持つ。このため僅かのダス
トを嫌う半導体プロセス装置に最適の搬送手段を提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明に使用する表面波モータの断面図を示
す 第2図は、本発明の1実施例を示す装置の側面図を示す 第3図は、従来から使用されているアーム搬送を使った
搬送系の平面図を示す Ml (3) 第2回 纂30

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空内で、各種処理を行う真空装置において、圧力
    によって区分される大気系、予備排気室系、真空処理室
    系、予備排気室系及び、大気系の各系内に、表面波モー
    タを並べて、動作させ、固体試料を各系内及び各系をま
    たがって搬送させる表面波モータによる試料搬送機構 2 各系内に表面波モータを、複数列並べて動作させる
    、請求項1項の表面波による試料搬送機構
JP5273190A 1990-03-06 1990-03-06 表面波モータによる試料搬送機構 Pending JPH03257165A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5273190A JPH03257165A (ja) 1990-03-06 1990-03-06 表面波モータによる試料搬送機構

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP5273190A JPH03257165A (ja) 1990-03-06 1990-03-06 表面波モータによる試料搬送機構

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH03257165A true JPH03257165A (ja) 1991-11-15

Family

ID=12923075

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP5273190A Pending JPH03257165A (ja) 1990-03-06 1990-03-06 表面波モータによる試料搬送機構

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH03257165A (ja)

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR0165112B1 (ko) 반도체 웨이퍼의 다단 진공처리장치 및 방법
JP6205368B2 (ja) 複合静的及びパスバイ処理用システム構成
EP0161927B1 (en) Load lock pumping mechanism
TWI408766B (zh) Vacuum processing device
US20010020340A1 (en) Vacuum processing apparatus and operating method therefor
JP2019216264A (ja) オンザフライ基板センタリングを含む処理装置
JPS6130030B2 (ja)
JPH0774228A (ja) 処理工程でサンプルを逆転するための方法並びに装置
JPH0533529B2 (ja)
JP2635099B2 (ja) 真空ロードロツクを具えたプラズマ反応装置
JPS6257378B2 (ja)
KR101105924B1 (ko) 웨이퍼 핸들링 방법 및 시스템
JPH03257165A (ja) 表面波モータによる試料搬送機構
JPS6339102B2 (ja)
JPH03244121A (ja) 縦型半導体製造装置
JPS62996B2 (ja)
JPH0615720B2 (ja) 真空処理装置
JPH06349931A (ja) 処理システム
JPH0652721B2 (ja) 半導体ウエハ処理装置
JPH0521579A (ja) 真空処理装置
JPH03273606A (ja) 半導体製造装置
JP3154793B2 (ja) 基板処理装置
JP2901672B2 (ja) 複数真空処理装置
JPH01120811A (ja) 半導体ウエハ処理装置
JPH01253237A (ja) 真空処理装置