JPH03255013A - 化粧料 - Google Patents

化粧料

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JPH03255013A
JPH03255013A JP5107190A JP5107190A JPH03255013A JP H03255013 A JPH03255013 A JP H03255013A JP 5107190 A JP5107190 A JP 5107190A JP 5107190 A JP5107190 A JP 5107190A JP H03255013 A JPH03255013 A JP H03255013A
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JP
Japan
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cosmetic
quercetin
residue
ultraviolet
bonding
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JP5107190A
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English (en)
Inventor
Ken Washino
乾 鷲野
Masaaki Morifuji
森藤 正昭
Takashi Yamamoto
隆司 山本
Katsumi Imada
勝美 今田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
San Ei Kagaku Co Ltd
Sanei Kagaku Kogyo KK
Original Assignee
Daiichi Pharmaceutical Co Ltd
San Ei Kagaku Co Ltd
Sanei Kagaku Kogyo KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明は、新規な化粧料に関し、詳しくはクエルセチン
配糖体を配合した化粧料であって、クエルセチン配糖体
の紫外線吸収力の働きにより、紫外線による皮膚の炎症
を抑制し、メラニン色素の生成による皮膚の黒化を予防
しうる新規な化粧料に関する。
(ロ)従来の技術 皮膚が強い太陽光線に長時開−されると、急性の炎症を
起こし、紅斑や水泡を生じる。この現象は、サンバーン
と呼ばれている。さらに、炎症とは別に太陽光線により
、メラニン色素の生成が促進され、皮膚が暗色化、すな
わち黒化する。この現象をサンターンという。サンバー
ンは、波長320nm以下の紫外線により引き起こされ
るが、290nm以下の紫外線は、成層圏のオゾン層や
大気圏の浮遊じんあいなどにより吸収されるので、地上
では290−320nmの中波長の紫外線(以下、UV
−Bという)に起因している。一方、サンターンは、3
20〜400nmにわたる長波長紫外線(以下、UV−
Aという)および一部可視光線によって引き起こされる
。その池、長期間の日光暴露による菱形皮膚、Favr
e−Rachouchot症候群等の慢性反応がある。
また、紫外線により発癌のイニシエーシヨンや皮膚の免
疫能の低下等か知られている。また、紫外線の皮膚への
急性反応、慢性反応等の有毒性ら明らかになりつつあり
、紫外線暴露は、夏期のみならず年間を通した問題とな
り、またフロンによるオゾン層破壊にとらなう紫外線の
増加が問題となっている。太陽光線による皮膚の炎症防
止および美容の維持の観点から、これらの防止法につい
て、種々の方法が提案されている。
皮膚の炎症を防ぎながら日光浴により日焼けをしたいと
いう願望がある。この願望を満たすため、ザンバーンの
原因となる太陽光線中のtJV−Bをカットする法とし
て、紫外線吸収剤が用いられる。
上記UV−Bの吸収剤として、p−アミノ安息香酸、p
−アミノ安e、香酸エチル、p−ンメヂルアミノ安息香
酸アミル、p−アミノ安9、香酸グリセリンなどのベラ
アミノ安息香酸系化合物、サリチル酸エヂレングリコー
ル、ザリチル酸フェニル、ザリヂル酸Lert−ブチル
フェニル、サリチル酸メンデルなどのサリチル酸系化合
物及びケイ皮酸ベノンル、2.5−ジイソプロピルケイ
皮酸メチル、4メトキノケイ皮酸−2−エトキシエチル
なとのケイ皮酸系化合物なとが例示される。ザノバーン
防止剤としてのこれらの化合物は、UV−BI域の約3
10nm付近に紫外線極大吸収波長を持つのが特徴であ
る。
一方、最近では野外スポーツが盛んになり、四季を通じ
て太陽光線に曝され、皮膚が黒化する機会が多い。日焼
けを防ぎ、色白の美肌ていたいとの願望ら強く、この欲
求を満たすべきサンターンの防止法についてら検討され
、2−ヒドロキシ−4メトキシヘンシフエノン、2,2
.4.4−  テトラヒドロキンベンゾフェノン、2−
ヒドロキシ−4−メトキンベンゾフェノン−5−スルホ
ン酸、2.2−ジヒドロキン−4,4゛−ジメトキンベ
ンゾフエノン−5−スルボン酸ナトリウムなどの280
〜290nmと320〜330nmに極大吸収を持つベ
ンゾフェノン系− 化合物及び2−(2−ヒドロキン−5−メチルフェニル
)ベンゾトリアゾールなどの約300nmと約340n
m付近に極大吸収を有するアゾール系化合物などのUV
−A吸収剤が提案されている。また、ルチンやクエルセ
チンを2.3−ジヒドロキシプロピルまたはホスフェー
ト誘導体として水溶性を向上させてUV−A吸収剤とし
て配合する試みが行われている(特開平1−30847
6号)。
これらの合成紫外線吸収剤以外に、天然物を起源とした
紫外線吸収剤として、ウンベリフェロン:別名7−ヒド
ロキシクマリン、エスクリン:別名6.7−ジヒドロキ
シクマリン−6−グルコシド、ルチン及びクエルセチン
などら提案されている。
(ハ)発明が解決しようとする課題 太陽光線などの紫外線による日焼は防止するという観点
から、化粧品原料としての紫外線吸収剤は、その効果と
同時に安全性、安定性及び溶解性など兼ね備えたものが
要求される。合成紫外線吸収剤においてらUV−Aと同
時にUV−Bを吸収するらのは殆どなく、安全に皮膚の
日焼けを防止=4 し得る紫外線吸収剤は殆どないといったのか現状である
。そこで、紫外線を物理的に反射・散乱させろ酸化チタ
ンなどの無機物質粉末との併用法が採用されることか多
い。しかし、この場合は、配合されろ網形が限定される
といつに問題点がある。
安全性という観点から天然物を起源とした紫外線吸収剤
の要望が強い。しかし、ウンベリフェロンやエスクリン
においてはUV−Aの吸収能はなく、また、光により蛍
光を呈することにより、用途が限定される。また、ルチ
ンやクエルセチンは、水に対する溶解度が極めて低いた
め、この問題点の改善法として、ルチンまたはクエルセ
チンをアルコール若しくは多価アルコールに溶解させた
後、無隨顔粋の粒子表面に微小結晶状に析出させる方法
が提案されている(特開昭60−208908号)。し
かし、この場合らルチン及びクエルセチンは、結晶状態
となっているため、配合できる網形が限定されるといっ
た欠点と、ルチンか完全に溶解したものに比べて紫外線
吸収剤としての効率が悪いといった問題点がある。
(ニ)課題を解決するための手段 本発明者らは、上記問題点を鑑がみ、安全性に問題がな
く、効果的に紫外線による皮膚の炎症や日焼けを防止さ
口゛る目的で、天然物を起源とした紫外線吸収剤につい
ての研究を重ねた結果、下記一般式(1)で示されるク
エルセチン配糖体の水溶性混合物が紫外線吸収剤として
の問題解決のための育効な手段であることを見出し、か
かる知見に基づき本発明に到達したものである。
またはラムノース残基を、nはO〜8の整数を表す。但
しグルコース残基とラムノース残基は、6゜■結合、グ
ルコース残基とグルコース残基との結合はα−1,4結
合である)で示されるクエルセチン配糖体の2種以上か
らなる水溶性混合物を紫外吸収剤として含有してなる化
粧料が提供される。
上記の用語“水溶性混合物”における水溶性とは、25
℃で水に少なくとも05%以上溶解することを意味する
。好ましくは25°Cで水に1%以上、より好ましくは
25℃で水に5%以上溶解性を何することである。“混
合物′とは、一般式(1)のクエルセチン配糖体が2種
以上からなることを意味する。一般式でn = 0 、
 R2=ラムノース残基の場合は、ルチンを示すが、ル
チンの25℃での水に対する溶解度は約0.[103%
である。従って、本発明でいう混合物は、ルチンを含有
する時には、上記の“水溶性”の用件を満たすよう池の
配糖体を含有すべきである。
一般式(1)のクエルセチン配糖体は、公知方法によっ
て作ることができる。例えば、ルチンにナリンギナーゼ
のような酵素を作用させるとクエルセチン0−モノグリ
コシド(n −0、Rt = H)が得られ、これに澱
粉質の存在下にグリコシダーゼまたはトランスグリコシ
ダーゼのようなグルコース残基転移作用を有する酵素を
作用させるとりエルセチン0−ポリグリコンド(n= 
1〜8.R2−H)を得ろことかできる(特開平1.−
21.3293号)。
上記の方法で、クエルセチン0−モノグリコンドを経る
ことなく、ずなイつちルチンに上記と同様に澱粉質の存
在下に酵素を作用させろとルチン0ボリグリコソド(n
=1〜8.R,=ラムノース残基)を得ることができる
。これらの方法で、グルコース残基のモル数が異なる配
糖体を適当な条件設定によって得ることができる。それ
によって水に対する溶解度の異なるしのか得られろ。一
方上記の方法では、一般にグルコース残基のモル数か異
なる配糖体の混合物が得られるが、これらを常法によっ
て個々の配糖体に分離することらできる。しかしなから
、経済上は混合物そのままを用いるのが好ましい。
日焼は防止に用いる紫外線吸収剤は、人体にたいして安
全であることは勿論のこと、紫外線吸収スペクトルの吸
収波長領域幅が広く、かつ、吸収効率がよく、また長時
間の強い太陽光線に照射されても安定であるといった条
件を満たすものでなければならない。本発明に採用する
日焼は防止化粧料としての紫外線吸収剤である一般式(
[)で表されるクエルセチン配糖体は、水溶液中におけ
る紫外線吸収スペクトルかいずれも波長351±In爪
に極大吸収を示し、サンターンの原因となるUV−Aの
吸収に適したものである。また、日焼は防止剤としての
紫外線吸収剤がその効果を持続するためには、強い太陽
光線の照射下でも安定でなければいけない。下記の実験
例1は、本発明に使用するクエルセチン配糖体の光に対
する安定性についての実験である。この結果から明らか
なように、フェードメーターによる長時間の紫外・可視
光線の照射にもかかわらず、一般式(I)で示されるク
エルセチン配糖体は、光分解しないことから、日焼は防
止剤としての望まれる条件を満たずものといえる。
本発明に配合するクエルセチン配糖体は、ルチンやクエ
ルセチンとは異なり、水に易溶性である。
そのために取扱いが容易で、かつ、ルチンやクエルセチ
ンのような網形の制限を受けず、使用目的=9− 0 に合わせて広範囲の配合割合で添加することができると
いった特徴があり、各種日焼は防止化粧料に適用するこ
とができる。その使用量は、日焼は防止化粧料の形態、
および日焼は防止化粧料として用いる一般式(1)で示
されるクエルセチン配糖体の配合物の種類により、その
使用料が若干異なるが、化粧料の0.01〜15重量%
、望ましくは0.1〜10重量%、より好ましくは0.
5〜5重量%を配合すればよい。
本発明の化粧料の網形は、クリーム状、乳液状、ローシ
ョン状、油状、ゲル状(水性、油性)、エアゾール状な
どが挙げられる。これらは当該分野で公知の基剤、香料
、顔料、防腐剤を用いて常法に従って作ることができる
。また、他の紫外吸収剤を添加してもよい。
上述の説明から本発明の日焼は防止化粧料は、サンター
ン防止に有効であることが明らかであるが、以下の実施
例により更に本発明の日焼は防止化粧料に配合する紫外
線吸収材としてのクエルセチン配糖体の優位性を明らか
にする。
(ホ)実施例 実験例1 水溶性クエルセチン配糖体(1)の耐光性試
験 第1表に示す水溶性クエルセチン配糖体のlグラムをI
Qの精製水に溶かし、試料溶液を調製した。この試料液
を50zf!溶の石英調製試験管に50xθの試験液を
充填し、密栓後フェードメーター(スガ試験機株式会社
製F A、 L−3型)を使用して紫外線を16時間照
射した。クエルセチン配糖体の残存率と分解については
紫外線可視分光光度計及び高速液体クロマトグラフ法に
より、次の条件で測定した。
クエルセチン配糖体の残存率は、分光光度計を用いてフ
ェードメーター照射後の試料液の351■m付近の極大
吸収波長での吸光度と、照射前試料液を同一の条件下で
測定した吸光度により、次式で求めた。
11− 2− の試料液を精製水で10倍に希釈し、高速液体クロマト
グラフ法分析により、クエルセチン配糖体クロマトグラ
フィー析により、クエルセチン配糖体のクロマトグラフ
のピークパターンの変化を比較した。分析操作は、次の
条件で行った。
カラム: NUCLEO3IL 5C1g  カラム内
径 4.6111πカラム長 250■ 移動相:水−テトラヒドロフラン−酢酸(4+1:0、
旧) 流量:1.Om(7分 検出器:紫外可視分光検出器、測定波長351nm第2
表 フェードメーター照射によるクエルセチン配糖体の
分解について(高速液体クロマトグラフィーによる)(
以下余白) また、紫外線照射によるクエルセチン配糖体の分解を調
べる目的で、フェードメーター照射前後4 実験例1の結果から、本発明に使用するクエルセチン配
糖体は、長時間の紫外線照射にもかかわらず安定である
ことが明らかになった。
験した。露光後24時間目に目視により判定し、その結
果を第3表に示した。
判定基阜 無照射   0 微度の紅斑      1 軽度の紅斑      3 無塗布部    5 実験例2 ヒト皮膚バッチテスト 後述の実施例2に準じて2%クエルセチン配糖体含有す
る日焼は防止クリームを調製した。また、対照として、
クリーム配糖体無添加品とUV−A吸収剤として知られ
ているベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤入り市販品の
日焼は防止剤を準備した。試験クリームを10人の被検
者の上腕部に2.5cmX 2.5cm当り209塗布
し、紫外線ランプ(FL15  BL−Bランプ)を光
源し、露光試第3表の結果から明らかなように、クエル
セチン配糖体は、2重量%濃度の配合下において、従来
の紫外線防止剤より日焼は防止効果を発揮することが明
らかとなった。
5− 以上詳述したように、クエルセチン配糖体を配合してな
る本発明の日焼は防止化粧料は、紫外線照射による皮膚
の損傷を未然に防ぐ優れたものとなっている。
以下に本発明の実施例を示す。尚、配合割合は重量部で
ある。
実施例1 日焼は防止乳液 組成物A ジエチレングリコールモノステアレートステアリン酸 セチルアルコール 組成物B クエルセチン配糖体の混合物A トリエタノールアミン メチルパラベン 精製水 2.0 1.5 0.5 調製方法 組成物Aと組成物Bをそれぞれ70℃に加熱し6 て溶解する。組成物Aを撹拌しながら、これに組成物B
を加え、乳化する。
実施例2 日焼は防止コールドクリーム組成物A ソルビタンモノステアレート            
1゜ソルビタンモノイソステアレート        
  4.0モノステアリン酸グリセリン       
    1.0流動パラフイン           
      25.。
セタノール                    
 4.0ミツロウ                 
   150ワセリン               
      5.1)メチルパラベン        
         0.1組成物B ホウ砂                   o、g
クエルセチン配糖体混合物A            
20精製水                    
421調製法 組成物A、Bを82℃まで加熱し、均一に溶解する。組
成物Aを撹拌しながら、これを組成物Bを加え、乳化す
る。
7− 実施例3 日焼は防止バニシングクリーム組成物A ポリエヂレングリコールモノステアレート     2
.8ソルビタンモノパルミテート          
 12脱水ラノリン                
  1.0スクワラン               
   3.0ステアリン酸             
      8.5セタノール           
         4・0ワセリン         
            4.0流動パラフイン   
              3.0メチルパラベン 
                0゜】組成物B クエルセチン配糖体               2
.5プロピレングリコール             
 5.0ホウ酸                  
 0.3精製水                  
 64.6調製法 組成物A、Bをそれぞれ80℃に加熱して溶解する。組
成物Aを撹拌しながら、これに組成物Bを加え、乳化す
る。混合物の内温か40℃になるまで撹拌する。
実施例4 日焼は防止乳液 組成物A ベヘニルエーテル ソルビタンモノパルミテート バルミチン酸イソパルミテート バルミチン酸イソプロピル 脱水ラノリン ステアリン酸 セタノール ミツロウ バラフィンワックス メチルバラベン ブチルパラベン 組成物B クエルセチン配糖体の混合物D カルボキンビニールポリマー プロピレングリコール 一19= 精製水                    65
.2調製法 組成物Aを80°C1組成物Bを82°Cに加熱溶解す
る。組成物Aを撹拌しながら、これに組成物Bを加え、
乳化する。
(へ)発明の効果 本発明に配合するクエルセチン配糖体は、ルチンやクエ
ルセチンとは異なり、水に易溶性である。
そのために取扱いが容易で、かつ、ルチンやクエルセチ
ンのような網形の制限を受けず、使用目的に合わせて広
範囲の配合割合で添加することかできるといった特徴が
あり、各種日焼は防止化粧料に適用することができる。
2〇−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中R_1は、グルコース残基を、R_2は水素原子
    またはラムノース残基を、nは0〜8の整数を表す。但
    しグルコース残基とラムノース残基は、6,1結合、グ
    ルコース残基とグルコース残基との結合はα−1,4結
    合である)で示されるクエルセチン配糖体の2種以上か
    らなる水溶性混合物を紫外吸収剤として含有してなる化
    粧料。 2、クエルセチン配糖体の水溶性混合物を、化粧料全体
    に対して0.01〜15重量%含有する請求項1記載の
    化粧料。
JP5107190A 1990-03-01 1990-03-01 化粧料 Pending JPH03255013A (ja)

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