JPH0325235A - 半導体製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体装置の製造過程にレいて１吏用され
る，半導体製造装置に関するものであるＯ 〔従来の技術〕 ＠４図は従来のクリーンルーム内に釦けるダウンフはー
の流れを示す正面図、第５図は第◆図のダウンフローの
途中に物体を置いた場合の気流を示す正面図である。

図のように、天井面（１カに空気の吹き出し口があり，
床而０１はすのこ状で空気の逃げ道となつていた。

又、第６図のように物体（ｌ４ｌが置かれても、天井面
リカ、床面０濁はそのま筐であった。

次に動作について説明する。クリーンルーム内に何も障
害物がない場合、第１図のようｉＣ空気は上から下へ流
れ、正常な気ｆｔＩｌ１Ｊが発生するが、第Ｓ図のよう
に、物体α慟がある場合、床而α国のような空気の逃げ
道がなくなり、乱気１５１ｊ　ｕｏｌが発生する。この
乱気ｆｉ　（１０１は．ゴミ等も巻き上げることもあり
、発厘の原因となっている。

〔発明が解決しようとする課題〕

従来のクリーンルームは以上のようＶＣ構或されている
ので、乱気流が発生し、１た，それにより発塵するなど
の問題点があった。

この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、空気の逃げ道を作り、乱気流の発生を押さえ
ることのできる、半導体製造装置を得ること金目的とす
る■ 〔＆！ｌ題を解決す・るための手段〕 この発明に係る半導体製造装置は、クリーンルーム内の
乱気流が発生する場所１ｃ置くことによって、乱気ｆｔ
ｔ吸引し，気流の乱れを解消させ、発塵を押さえたもの
である。

〔作用〕

この発明にかける乱気流の吸引口は、乱気流の発生する
ところに手軽に置け，空気の逃げ道金提供する。

〔実施的〕

以下、この発明の一夷施例を図について説明する。第１
図は半導体製造装置の斜視図、ｌＸｓ図は乱気流の発生
個所Ｋｋける気ｆｔを示すｆＰＩｒ視図、第８図は乱気
流の発生する場所ＶＣ第１図に示す装置倉設置した状況
を示す斜視図である。

図にかいて，田は吸引口、｛！）は吸引を行う本体、ｌ
３１Ｈ吸引口＋１１と本体（對を継ぐホース、ｉｏは排
気口、１組はスイッチ、１６１はコンセン｝、＋７１＃
１気流（吸気）　．　ｔ８１は気Ｉｔ（排気）である。

尚、本体｛２｝はモーターと羽を備えた換気扇である。

次ＶＣ＃作について第８図及び＃Ｘ８図により説明する
。

乱気流の発生する場所ｔ９＋　Ｋ吸引口…金置きスイッ
チを入れる。本体｛２１の中の羽が回り吸引を開始して
、乱気流｛ＩＯ｝の逃げ道となる。気ｌ５！（吸気）１
７１　ｔ’！　，床面０１より下にある本体（２：の排
気口（４）より排気される。

なレ，上記実施例は本体（！ｌによって吸引金行ってい
るが、予め，工場などに排気設備がある場合は、間にダ
ンバーを設けて、ホース（３）を排気設備に継いでもよ
い。

〔発明の効果〕

以上のように，この発明によれば、乱気流の発生してい
る点にのみ装置を付設するように構成したので，装置が
安価にでき，筐た、精度の高いものが得られる効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の一実施例による半導体製造装置の斜
視図、第３図は乱気流の発生部分の斜視図、第３図は第
１図に示す装置金設置した状況を示す斜視図、第４図は
従来のクリーンル一ム内Ｖｃカケるダウンフロ一の流れ
を示す正面図、第５図はダウンフローの途中・に物体を
置いた場合の気ｆｔｆ！ｒ：示す正面図である。 図にシいて，巾は吸引口，（２｝は本体、（３１はホー
ス、１４＋　ｉｊ排気口、．６１はスイッチ、（６１は
コンセント，１７１は気ｆｔ（吸気）　，　＋８１は気
流（排気）．（９）ハ乱気流の発生する場所、１ｌαは
乱気流、Ｇυは気流、（＋のは天井面、１３は床面，α
慟は物体である。 なか、図中、同一符号は同一　又は相当部分金示す●

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. クリーンルーム内に使用する半導体製造装置において、
   室内に発生する乱気流を吸引するによつて、気流の流れ
   を解消し、発塵を押さえたことを特徴とする半導体製造
   装置。