JPH0324774B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 この発明は例えばガラス原板等の表面に設定膜
厚のレジスト膜を塗布するレジスト塗布方法およ
びその装置に関する。

〔発明の技術的背景〕

第１図は従来から知られているレジスト塗布装
置を示すもので、１は回転速度の調節が可能なタ
ーンテーブルである。このターンテーブル１の上
面中央には位置決め用の突部２が形成されてい
る。さらに、このターンテーブル１の上面には中
央以外の部位に複数の吸着溝３…が設けられてい
る。これらの吸着溝３…はターンテーブル１の内
部に形成された連通路４を介して例えば真空ポン
プ等に連結されており、ターンテーブル１上に載
置された例えばガラス原板５等の円板状の被塗布
体がターンテーブル１上に真空吸着によつて確実
に固着されるようになつている。また、ターンテ
ーブル１の周囲には外囲器６が配設されている。
この外囲器６には排出口７が連結されている。そ
して、ガラス原板５にレジストを塗布する場合に
はターンテーブル１がモータ等の駆動機構によつ
て低速で回転駆動されている状態で、例えばこの
ターンテーブル１の上方に離間対向状態で配設さ
れたノズル８からレジストを噴出し、ガラス原板
５の表面にレジストを供給するとともに、設定膜
厚に対応する回転速度（回転数）でターンテーブ
ル１を回転させ、遠心力によつてガラス原板５上
の不要なレジストを飛散させてガラス原板５の表
面に設定膜厚のレジスト膜を塗布するようになつ
ている。また、ターンテーブル１の周囲に飛散さ
れた不要なレジストは外囲器６によつて集めら
れ、排出口７から排出されるようになつている。

〔背景技術の問題点〕

ガラス原板５の温度、或いは周囲の温度等が通
常の基準温度から外れた温度に変化した場合には
レジストの粘性が変化するので、ガラス原板５上
にレジストを供給した状態でターンテーブル１を
設定膜厚に対応させて予め設定された回転速度で
一定時間回転駆動してもガラス原板５上のレジス
ト膜の膜厚を全面に亘つて均一な状態に塗布する
ことができない問題があつた。また、ターンテー
ブル１の回転速度にばらつき等が生じた場合にも
ガラス原板５上のレジスト膜には局部的に膜厚に
ばらつきが生じ易く、歩留りの向上を図ることが
できない問題があつた。

〔発明の目的〕

この発明は設定膜厚のレジスト膜を被塗布体の
表面全面に亘つて均一な状態に、常に安定に塗布
することができ、製品の歩留りの向上が図れるレ
ジスト塗布方法およびその装置を提供することを
目的とするものである。

〔発明の概要〕

被塗布体の表面にレジストを供給した状態でタ
ーンテーブルを回転駆動するレジスト塗布作業中
に、被塗布体の半径寸法の異なる複数の測定点で
同時に被塗布体上のレジスト膜厚の時間的な変化
を測定し、各測定点間におけるレジスト膜厚の測
定値の差に応じて、測定値の差が予め設定された
設定値より大きい場合にはターンテーブルの回転
速度を上げるとともに、測定値の差が設定値より
小さい場合にはターンテーブルの回転速度を下げ
る速度制御を行なうようにしたものである。

また、ターンテーブルに支持されている被塗布
体の表面にレジストが供給されるとともにターン
テーブルの回転により被塗布体の表面の不要なレ
ジストが飛散されるレジスト塗布作業中に被塗布
体の回転中心に対し半径寸法の異なる複数の測定
点でレジスト膜の膜厚の時間的な変化を同時に測
定する複数の膜厚測定器を設けるとともに、各測
定点間における測定値の差にもとづき測定値の差
が予め設定された設定値より大きい場合にはター
ンテーブルの回転速度を上げ、測定値の差が設定
値よりも小さい場合にはターンテーブルの回転速
度を下げる速度制御を行なう制御部を設けるよう
にしたものである。

〔発明の実施例〕

第２図および第３図はこの発明の一実施例を示
すものである。第２図はレジスト塗布装置全体の
概略構成を示すもので、１１はターンテーブルで
ある。このターンテーブル１１の上面には中央に
位置決め用の突部１２が設けられているととも
に、中央以外の部位に複数の吸着溝１３…が設け
られている。これらの吸着溝１３…はターンテー
ブル１１の内部に形成された連通路１４を介して
例えば真空ポンプに連結されている。また、ター
ンテーブル１１の突部１２には円板状のガラス原
板（被塗布板）１５の中央に形成された取付孔が
嵌合されるようになつている。そして、ターンテ
ーブル１１の突部１２にガラス原板１５の取付孔
が嵌合された状態で連通路１４を介して吸着溝１
３…内の真空引きを行なうことにより、ターンテ
ーブル１１上に載置されたガラス原板１５が真空
吸着によつてターンテーブル１１上に確実に固着
されるようになつている。さらに、ターンテーブ
ル１１の周囲には外囲器１６が配設されており、
ガラス原板１５上にレジストを塗布するレジスト
塗布作業中にターンテーブル１１の周囲に飛散さ
れる不要なレジストがこの外囲器１６によつて集
められ、外囲器１６に連結された排出口１７から
外部に排出されるようになつている。

一方、ターンテーブル１１によつて支持されて
いるガラス原板１５の上方には１対の集光レンズ
１８ａ，１８ｂが配設されている。これらの集光
レンズ１８ａ，１８ｂはガラス原板１５の表面上
でガラス原板１５の回転中心に対し半径寸法の異
なる第１、第２の測定点Ａ，Ｂとそれぞれ離間対
向状態で配置されている。また、これらの集光レ
ンズ１８ａ，１８ｂは半透鏡１９ａ，１９ｂ、受
光部２０ａ，２０ｂおよび測定部２１ａ，２１ｂ
とともに第１、第２の膜厚測定器２２ａ，２２ｂ
をそれぞれ形成するものである。これらの第１、
第２の膜厚測定器２２ａ，２２ｂはガラス原板１
５の表面にレジストが供給されるとともにターン
テーブル１１の回転によりガラス原板１５上の不
要なレジストが飛散されるレジスト塗布作業中
に、干渉性のよい光、例えばレーザ光を半透鏡１
９ａ，１９ｂおよび集光レンズ１８ａ，１８ｂを
介してガラス原板１５上の第１、第２の測定点
Ａ，Ｂにそれぞれ集光させ、レジスト膜厚に応じ
て変化する干渉光を各受光部２０ａ，２０ｂによ
つてそれぞれ検出させ、これらの干渉光の相違に
もとづいて各測定部２１ａ，２１ｂによつてガラ
ス原板１５上における第１、第２の各測定点Ａ，
Ｂのレジスト膜の膜厚の時間的な変化を同時に測
定するものである。さらに、これらの第１、第２
の膜厚測定器２２ａ，２２ｂの測定部２１ａ，２
１ｂは制御部２３に接続されている。この制御部
２３はターンテーブル１１を回転駆動する駆動機
構２４を制御するもので、第１、第２の各膜厚測
定器２２ａ，２２ｂによつて測定される第１、第
２の各測定点Ａ，Ｂ間における測定値の差にもと
づき測定値の差が予め設定されている設定値より
大きい場合にはターンテーブル１１の回転速度
（回転数）を上げるとともに、測定値の差が設定
値より小さい場合にはターンテーブル１１の回転
速度を下げる速度制御を行なうようになつてい
る。

次に、ガラス原板５の表面にレジスト膜を塗布
するレジスト塗布作業について説明する。まず、
ターンテーブル１１上にガラス原板１５を載置
し、このガラス原板１５を真空吸着によつてター
ンテーブル１１上に固着する。この状態で、ター
ンテーブル１１の表面にレジストを供給するとと
もに、ターンテーブル１１を回転駆動してガラス
原板１５の表面の不要なレジストを遠心力によつ
て飛散させる。また、このレジスト塗布作業中
に、第１、第２の各膜厚測定器２２ａ，２２ｂに
よつてガラス原板１５の回転中心に対し半径寸法
の異なる第１、第２の各測定点Ａ，Ｂで同時にガ
ラス原板１５上のレジスト膜の膜厚の時間的な変
化を測定する。ここで、例えばガラス原板１５の
直径が350mm、ターンテーブル１１の回転数が
250rpmである場合には第１、第２の各測定点Ａ，
Ｂにおけるレジスト膜の膜厚は第３図に示すよう
に時間の経過とともに変化し、レジスト塗布作業
の開始後、約４分経過すると膜厚は約3000オング
ストロームに集速した状態で保持されるようにな
つている。そして、制御部２３には予め設定膜厚
毎に第３図に示すような設定値が設定されてお
り、第１、第２の各測定点Ａ，Ｂにおけるレジス
ト膜厚の測定値の差に応じて、測定値の差が設定
値よりも大きい場合にはターンテーブル１１の回
転速度を上げるとともに、測定値の差が設定値よ
り小さい場合にはターンテーブル１１の回転速度
を下げる速度制御が行なわれ、所定時間経過後に
はガラス原板１５上に設定膜厚のレジスト膜が塗
布されるようになつている。

したがつて、レジスト塗布作業中に、第１、第
２の各膜厚測定器２２ａ，２２ｂによつてガラス
原板１５の回転中心に対し半径寸法の異なる第
１、第２の測定点Ａ，Ｂで同時にガラス原板１５
上のレジスト膜の膜厚の時間的な変化を測定し、
第１、第２の各測定点Ａ，Ｂ間におけるレジスト
膜厚の測定値の差に応じて、測定値の差が予め設
定された設定値よりも大きい場合にはターンテー
ブル１１の回転速度を上げるとともに、測定値の
差が設定値より小さい場合にはターンテーブル１
１の回転速度を下げる速度制御を行なうようにし
たので、ガラス原板１５の温度、或いは周囲温度
等が通常の基準温度から外れた温度に変化し、レ
ジストの粘性が変化したり、或いはターンテーブ
ル１１の回転速度に多少ばらつきが生じた場合で
あつても、従来に比べてガラス原板１５上のレジ
スト膜の膜厚のばらつきを低減することができ、
ガラス原板１５の表面全面に亘つて均一な状態で
レジスト膜を塗布することができる。特に、直径
の大きなガラス原板等の被塗布体を使用する場合
に効果的に歩留りの向上を図ることができる。

なお、この発明は上記実施例に限定されるもの
ではない。例えば、膜厚測定器の光の干渉による
ものに限定されず、またこれらを３個以上配設
し、被測定体の回転中心に対し半径寸法の異なる
３ケ所以上の測定点でレジスト膜の膜厚を測定す
るようにしてもよい。また、各膜厚測定器におい
て使用する光は必ずしも同一波長のレーザ光に限
定されるものではなく、異なる波長のレーザ光や
レーザ光以外の光であつてもよい。さらに、その
他この発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実
施できることは勿論である。

〔発明の効果〕

この発明によれば、被塗布体の表面にレジスト
を供給した状態でターンテーブルを回転して被塗
布体の表面の不要なレジストを飛散させ、被塗布
体の表面に設定膜厚のレジスト膜を塗布するレジ
スト塗布作業中に、被塗布体の回転中心に対し半
径寸法の異なる複数の測定点で同時にレジスト膜
の膜厚の時間的な変化を測定し、各測定点間にお
けるレジスト膜厚の測定値の差に応じて、測定値
の差が予め設定された設定値より大きい場合には
ターンテーブルの回転速度を上げるとともに、測
定値の差が設定値より小さい場合にはターンテー
ブルの回転速度を下げる速度制御を行なうように
したので、設定膜厚のレジスト膜を被塗布体の表
面全面に亘つて均一な状態に、常に安定に塗布す
ることができ、製品の歩留りの向上を図ることが
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例を示す縦断面図、第２図および
第３図はこの発明の一実施例を示すもので、第２
図は全体の概略構成図、第３図は第１、第２の各
測定点におけるレジスト膜の膜厚の時間的な変化
を示す特性図である。 １１…ターンテーブル、１５…ガラス原板（被
塗布体）、２２ａ，２２ｂ…第１、第２の膜厚測
定器、２３…制御部。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 回転速度を調節可能なターンテーブルに支持
   された被塗布体の表面にレジストを供給するとと
   もに、設定膜厚に対応する回転速度で前記ターン
   テーブルを回転させ、遠心力によつて被塗布体上
   の不要なレジストを飛散させて設定膜厚のレジス
   ト膜を塗布するレジスト塗布方法において、前記
   被塗布体の表面にレジストを供給して前記ターン
   テーブルを回転駆動するレジスト塗布作業中に、
   被塗布体の回転中心に対し半径寸法の異なる複数
   の測定点で同時に被塗布体上のレジスト膜の膜厚
   の時間的な変化を測定し、各測定点間におけるレ
   ジスト膜厚の測定値の差に応じて、測定値の差が
   予め設定された設定値より大きい場合には前記タ
   ーンテーブルの回転速度を上げるとともに、測定
   値の差が設定値より小さい場合には前記ターンテ
   ーブルの回転速度を下げる速度制御を行なうこと
   を特徴とするレジスト塗布方法。 ２ 表面にレジストが塗布される被塗布体を回転
   自在に支持するとともに前記被塗布体の回転速度
   を調節可能なターンテーブルと、このターンテー
   ブルに支持されている被塗布体の表面にレジスト
   が供給されるとともに前記ターンテーブルの回転
   により前記被塗布体上の不要なレジストが飛散さ
   れるレジスト塗布作業中に前記被塗布体の回転中
   心に対し半径寸法の異なる複数の測定点で前記被
   塗布体上のレジスト膜厚の時間的な変化を同時に
   測定する複数の膜厚測定器と、これらの各膜厚測
   定器によつて測定される各測定点間における測定
   値の差にもとづき前記測定値の差が予め設定され
   た設定値より大きい場合には前記ターンテーブル
   の回転速度を上げるとともに前記測定値の差が設
   定値より小さい場合には前記ターンテーブルの回
   転速度を下げる速度制御を行なう制御部とを具備
   したことを特徴とするレジスト塗布装置。