JPS59112873A - レジスト塗布方法およびその装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は例えばガラス原板等の表面に設定膜厚のレジ
スト膜を塗布するレジスト塗布方法およびその装置に関
する。

・〔発明の技術的背景〕 第１図は従来から知られているレジスト塗布装置を示す
もので、１は回転速度の調節が可能なターンテーブルで
ある。このターンテーブル１の上面中央には位置決め用
の突部２が形成されている。さらに、このターンテーブ
ル１の上面には中央以外の部位に複数の吸着溝３・・・
が設けられている。これらの吸着溝３・・・はターンテ
ーブル１の内部に形成された連通路４を介して例えば真
空ポンプ等に連結されており、ターンテーブル１上に載
置された例えばガラス原板５等の円板状の被塗布体がタ
ーンテーブル１上に真空吸着によって確実に固着される
ようになっている。また、ターンテーブル１の周囲には
外囲器６が配設されている。この外囲器６には排出口７
が連結されている。そして、ガラス原板５にレジストを
塗布する場合にはターンテーブル１がモータ等の駆動機
構によって低速で回転駆動されている状態で、例えばこ
のターンテーブル１の上方に離間対向状態で配設された
ノズル８からレジストを噴出し、ガラス原板５０表面に
レジストを供給するとともに、設定膜厚に対応する回転
速度（回転数）でターンテーブル１を回転させ、遠心力
によってガラス原板５上の不要なレジストを飛散させて
ガラス原板５の表面に設定膜厚のレジスト膜を塗布する
ようになっている。また、ターンテーブル１の周囲に飛
散された不要なレジストは外囲器６によって集められ、
排出口７から排出されるようになっている。

〔背景技術の問題点〕

ガラス原板５の温度、或いは周囲の温度等が通常の基準
温度から外れた温度に変化した場合にはレジストの粘性
が変化するので、ガラス原板５上にレジストを供給した
状態でターンテーブル１を設定膜厚に対応させて予め設
定された回転速度で一定時間回転駆動してもガラス原板
５上のレジスト膜の膜厚を全面に亘って均一な状態に塗
布することができない問題があった。

また、ターンテーブル１の回転速度にばらつき・等が生
じた場合にもガラス原板５上のレジスト膜には局部的に
膜厚にばらつきが生じ易く、歩留りの向上を図ることが
できない問題があった。

〔発明の目的〕

この発明は設定膜厚のレジスト膜を被塗布体の表面全面
に亘って均一な状態に、常に安定に塗布することができ
、製品の歩留シの向上が図れるレジスト塗布方法および
その装置を提供することを目的とするものである。

〔発明の概要〕

被塗布体の表面にレジストを供給した状態でターンテー
ブルを回転駆動するレジスト塗布作業中に、被塗布体の
半径寸法の異なる複数の測定点で同時に被塗布体上のレ
ジスト膜厚の時間的な変化を測定し、各測定点間におけ
るレジス膜厚の測定値の差に応じて、測定値の差が予め
設定された設定値よシ大きい場合にはターンテーブルの
回転速度を上げるとともに、測定値の差が設定値よシ小
さい場合にはターンテーブルの回転速度を下げる速度制
御を行なうようにしたものである。

また、ターンテーブルに支持されている被塗布体の表面
にレジストが供給されるとともにターンテーブルの回転
によシ被塗布体の表面の不要なレジストが飛散されるレ
ジスト塗布作業中に被塗布体の回転中心に対し半径寸法
の異なる複数の測定点でレジスト膜の膜厚の時間的な変
化を同時に御」定する複数の膜厚測定器を設けるととも
に、各測定点間における測定値の差にもとづき測定値の
差が予め設定された設定値より大きい場合にはターンテ
ーブルの回転速度を上げ、測定値の差が設定値よりも小
さい場合にはターンテーブルの回転速度を下ける速度制
御１４１を行なう制御部を設けるようにしたものである
。

〔発明の実施例〕 第２図および第３図はこの発明の一実施例を示すもので
ある。第２図はレジスト塗布装置全体の概略構成を示す
もので、１１はターンテーブルである。このターンテー
ブル１１の上面には中央に位置決め用の突部１２が設け
られているとともに、中央以外の部位に複数の吸着溝１
３・・・が設けられている。これらの吸着溝１３・・・
はターンテーブル１１の内部に形成された連通路１４を
介して例えば真空ポンプに連結されている。また、ター
ンテーブル１１の突部１２には円板状のガラス原板（被
塗布板）１５の中央に形成された取付孔が嵌合されるよ
うになっている。そして、ターンテーブル１１の突部１
２°にガラス原板１５の取付孔が嵌合された状態で連通
路１４を介して吸着溝１３・・・内の真空引きを行なう
ことによシ、ターンテーブル１ノ上に載置されたガラス
原板１５が真空吸着によってターンテーブル１１上に確
実に固着されるようになっている。さらに、ターンテー
ブル１１の周囲には外囲器１６が配設されており、ガラ
ス原板１５上にレジストを塗布するレジスト塗布作業中
にターンテーブル１１の周囲に飛散される不要なレジス
トがこの外囲器１６によって集められ、外囲器１６に連
結された排出口１７から外部に排出されるようになって
いる。

一方、ターンテーブル１１によって支持されているガラ
ス原板１５の上方には１対の集光し７ｙｌ：１８ｈ、１
８ｂが配設されている。これらの集光レンズ１８ｈｖ１
８ｂはガラス原板１５の表面上でガラス原板１５の回転
中心に対し半径寸法の異なる第１．第２の測定点Ａ、Ｂ
とそれぞれ離間対向状態で配置されている。また、これ
らの集光レンズ１８ｍ、１８ｂは半透鏡１９　ａＪ　９
　ｂ　ｓ受光部２０　ａ　ｔ　２０　ｂおよび測定部２
１ｈ・２１ｂとともに第１．第２の膜厚測定器２２＊＊
２２ｂｋそれぞれ形成するものである。これらの第１．
第２の膜厚測定器２２ａ。

２２ｂはガラス原板１５の表面にレジストが供給される
とともにターンテーブル１ノの回転によシガラス原板１
５上の不要なレジストが飛散されるレジスト塗布作業中
に、干渉性のよい光、例えばレーザ光を半透鏡１９ａｗ
１９ｂおよび集光レンズ１８ｈ、１Ｂ’ｏｆ介してガラ
ス原板１５上の第１．第２の測定点Ａ、Ｂにそれぞれ集
光させ、レジスト膜厚に応じて変化する干渉光を各受光
部２０　ａ　＊　２０　ｂによってそれぞれ検出させ、
これらの干渉光の相違にもとづいて各測定部２１ｈ、２
１ｂによりてガラス原板１５上における第１．第２の各
測定点Ａ、Ｂのレジスト膜の膜厚の時間的な変化を同時
に測定するものである。さらに、これらの第１．第２の
膜厚測定器２２　ａ　ｅ　２２　ｂの測定部２１　ａ　
ｍ　２１ｂは制御部２３に接続されている。この制御部
２３゛はターンチー・プル１１を回転駆動する駆動機構
２４１ｃ制御するもので、第１．第２の各膜厚測定器２
２ｈ　、２２ｂによって測定される第１゜第２の各測定
点Ａ、Ｂ間における測定値の差にもとづき測定値の差が
予め設定されている設定値より大きい場合にはターンテ
ーブル１１の回転速度（回転数）を上げるとともに、測
定値の差が設定値よシ小さい場合にはターンテーブル１
１の回転速度を下げる速度制御を行なうようになってい
る。

次に、ガラス原板５の表面にレジスト膜を塗布するレジ
スト塗布作業について説明する。まず、ターンテーブル
１１上にガラス原板１５を載置し、このガラス原板１５
を真垂吸着によってターンテーブル１１上に固着する。

この状態で、ターンテーブル１ノの表面にレジスト膜厚
給するとともに、ターンテーブル１１を回転駆動してガ
ラス原板１５０表面の不要なレジストを遠心力によって
飛散させる。また、このレジスト塗布作業中に、第１．
第２の各膜厚測定器２２　ａ　＊　２２　ｂによってガ
ラス原板１５の回転中心に対し半径寸法の異なる第１．
第２の各測定点Ａ、Ｂで同時にガラス原板１５上のレジ
スト膜の膜厚の時間的な変化を測定する。ここで、例え
ばガラス原板１５の直径が３５０　ｍ　、ターンテーブ
ルＪ１の回転数が２５　Ｏｒｐｍである場合には第１．
第２の各測定点Ａ、Ｈにおけるレジスト膜の膜厚は第３
図に示すように時間の経過とともに変化し、レジスト塗
布作業の開始後、約４分経過すると膜厚は約３０００オ
ングストロームに集束した状態で保持されるようになっ
ている。そして、制御部２３には予め設定膜厚毎に第３
図に示すような設定値が設定されておシ、第１．第２の
各測定点Ａ　、Ｂ間におけるレジスト膜厚の測定値の差
に応じて、測定値の差が設定値よりも大きい場合しはタ
ーンテーブル１１の回転速度を上げるとともに、測定値
の差が設定値よシ小さい場合にはターンテーブル１１の
回転速度を下げる速度制御が行なわれ、所定時間経過後
にはガラス原板１５上に設定膜厚のレジスト膜が塗布さ
れるようになっている。

したがって、レジスト塗布作業中に、第１゜第２の各膜
厚測定器２２ｍ、２２ｂによってガラス原板１５０回転
中心に対し半径寸法の異なる第１．第２の測定点Ａ、Ｂ
で同時にガラス原板１５上のレジスト膜の膜厚の時間的
な変化を測定し、第１．第２の各測定点Ａｌ１間におけ
るし）スト膜厚の測定値の差に応じて、測定値の差が予
め設定された設定値よりも大きい場合にはターンテーブ
ル１ノの回転速度を上げるとともに、測定値の差が設定
値よシ小さい場合にはターンテーブル１１の回転速度を
下げる速度制御を行なうようにしたので、ガラス原板１
５の温度、或いは周囲温度等が通常の基準温度から外れ
た温度に変化し、レジストの粘性が変化しｆｃり　、或
いはターンテーブル・１ノの回転速度に多少ばらつきが
生じた場合であっても、従来に比べてガラス原板１５上
のレノスト膜の膜厚のばらつきを低減することができ、
ガラス原板１５の表面全面に亘って均一な状態でレジス
ト膜を塗布することができる。特に、直径の大きなガラ
ス原板等の被塗布体を使用する場合に効果的に歩留υの
向上を図ることができる。

なお、この発明は上記実施例に限定されるものではない
。例えば、膜厚測定器は光の干渉によるもの・に限定さ
れず、またこれら全３個以上配設し、被測定体の回転中
心に対し半径寸法の異なる３ケ所以上の測定点でレジス
ト膜の膜厚全測定するようにしてもよい。また、各膜厚
測定器において使用する光は必ずしも同一波長のレーザ
光に限定されるものではなく、異なる波長のレーザ光や
レーザ光以外の光であってもよい。さらに、その他この
発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変形実施できること
は勿論である〔発明の効果〕 この発明によれば、被塗布体の表面にレジストを供給し
た状態でター／テーブル七回転して被塗布体の表面の不
要なレジスｌｌ−飛散させ１被塗布体の表面に設定膜厚
のレジスト膜を塗布するレジスト塗布作業中に、被塗布
体の回転中心に対し半径寸法の異なる複数の測定点で同
時にレジスト膜の膜厚の時間的な変化を測定し、各測定
点間におけるレジスト膜厚の測定値の差に応じて、測定
値の差が予め設定された設定値よシ大きい場合にはター
ンテーブルの回転速度を上げるとともに、測定値の差が
設定値よシ小さい、場合にはターンテーブルの回転速度
を下げる速度制御を行なうようにしたので、設定膜厚の
レジスト膜を被塗布体の表面全面に亘って均一な状態に
、常に安定に塗布することができ、製品の歩留シの向上
を図ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来例を示す縦断面図、第２図およ０　　び第
３図はこの発明の一実施例を示すもので、第２図は全体
の概略構成図、第３図は第１．第２の各測定点における
レジスト膜の膜厚の時間的な変化を示す特性図である。 １１−・・ターンテーブル、１５・・・ガラス原板（被
塗布体）、２２　ａ　、　２２　ｂ−第１．第２の膜厚
測定器、２３・・・制御部。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）回転速度を調節可能なターンテーブルに・支持さ
   れた被塗布体の表面にレジストを供給するとともに、設
   定膜厚に対応する回転速度で前記ターンテーブルを回転
   させ、遠心力によって被塗布体上の不要なレジストを飛
   散させて設定膜厚のレジスト膜を塗布するレジスト塗布
   方法において、前記被塗布体の表面にレジストを供給し
   て前記ターンテーブルを回転駆動するレジスト塗布作業
   中に、被塗布体の１回転中心に対し半径寸法の異なる複
   数の測定点で同時に被塗布体上のレジスト膜の膜厚の時
   間的な変化を測定し、各測定点間におけるレジスト膜厚
   の測定値の差に応じて、測定値の差が予め設定された設
   定値より大きい場合には前記ターンテーブルの回転速度
   を上げるとともに、測定値の差が設定値より小さい場合
   には前記ターンテーブルの回転速度を下げる速度制御を
   行なうことを特徴とするレジスト塗布方法。
2. （２）表面にレジストが塗布される被塗布体を回転自在
   に支持するとともに前記被塗布体の回転速度を調節可能
   なターンテーブルと、このターンテーブルに支持されて
   いる被塗布体の表面にレジストが供給されるとともに前
   記ターンテーブルの回転により前記被塗布体上の不要な
   レジストが飛散されるレジスト塗布作業中に前記被塗布
   体の回転中心に対し半径寸法の異なる複数の測定点で前
   記被塗布体上のレジスト膜厚の時間的な変化を同時に測
   定する複数の膜厚測定器と、これらの各膜厚測定器によ
   って測定される各測定点間における測定値の差にもとづ
   き前記測定値の差が予め設定された設定値より大きい場
   合には前記ターンテーブルの回転速度を上げるとともに
   前記測定値の差が設定値よシ小さい場合には前記ターン
   テーブルの回転速度を下げる速度、制御を行なう制御部
   とを具備したことを特徴とするレジスト塗布装置。