JPH0324292A - 希土類金属―遷移金属系合金めっき方法 - Google Patents
希土類金属―遷移金属系合金めっき方法Info
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- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 38
- 238000007747 plating Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 30
- 239000000956 alloy Substances 0.000 title claims abstract description 28
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 27
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 title claims abstract description 25
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 23
- -1 rare-earth metal chloride Chemical class 0.000 claims abstract description 18
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 12
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 claims abstract description 9
- 150000003624 transition metals Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical class OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 abstract description 16
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 5
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 abstract description 4
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 abstract description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000008204 material by function Substances 0.000 abstract description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M perchlorate Inorganic materials [O-]Cl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M sodium perchlorate Chemical compound [Na+].[O-]Cl(=O)(=O)=O BAZAXWOYCMUHIX-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 2
- 229910001488 sodium perchlorate Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000011232 storage material Substances 0.000 abstract description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 abstract 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N Formamide Chemical compound NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003125 aqueous solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101000891321 Homo sapiens Transcobalamin-2 Proteins 0.000 description 1
- 102100040423 Transcobalamin-2 Human genes 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000001017 electron-beam sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000003840 hydrochlorides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 1
- 238000005057 refrigeration Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;perchlorate Chemical compound [O-]Cl(=O)(=O)=O.CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC KBLZDCFTQSIIOH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910021381 transition metal chloride Inorganic materials 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F1/00—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties
- H01F1/01—Magnets or magnetic bodies characterised by the magnetic materials therefor; Selection of materials for their magnetic properties of inorganic materials
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F10/00—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
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- H01F10/10—Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure characterised by magnetic layers characterised by the composition
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- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F41/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties
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- H01F41/24—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or assembling magnets, inductances or transformers; Apparatus or processes specially adapted for manufacturing materials characterised by their magnetic properties for applying magnetic films to substrates from liquids
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は,機能材料の1つとして有用な希土類金属一遷
移金属合金を得ることのできる湿式めっき法に関する。
移金属合金を得ることのできる湿式めっき法に関する。
(従来の技術)
近年,希土類金属一遷移金属系の化合物合金が強磁性体
(SmCos ,Sm2COI7+ Nd2 Fe +
aB) r水素吸蔵材( L a N t s ) +
磁気冷凍材( P r N 1 9 ) *光磁気記録
材(GdCo,GdFe)などの機能性物質として着目
されており,それらの用途は益々発展している一方であ
る。また,この希土類化合物合金材料の用途開発と並び
,高コスト,エネルギー消費型である合金製造法を大幅
に改善し,新プロセスを開発することも重要な課題とな
っている。
(SmCos ,Sm2COI7+ Nd2 Fe +
aB) r水素吸蔵材( L a N t s ) +
磁気冷凍材( P r N 1 9 ) *光磁気記録
材(GdCo,GdFe)などの機能性物質として着目
されており,それらの用途は益々発展している一方であ
る。また,この希土類化合物合金材料の用途開発と並び
,高コスト,エネルギー消費型である合金製造法を大幅
に改善し,新プロセスを開発することも重要な課題とな
っている。
現在,この種の薄膜は電子ビーム蒸着法やスパッタリン
グ法により製造されているが生産性に乏しく,コスト高
である。
グ法により製造されているが生産性に乏しく,コスト高
である。
また湿気式めっき法においても,希土類合金の還元電位
がかなり卑であるため,水溶液中からの析出が不可能(
H+の放電が優先的に起る)であった。
がかなり卑であるため,水溶液中からの析出が不可能(
H+の放電が優先的に起る)であった。
(発明が解決しようとする課題)
これら従来法による希土類金属一遷移金属系合金7!!
膜の製造広においては,生産性に乏しく,コスト高であ
る欠点を有している。更に,容易かつ簡便な方法で高品
質の希土類金属一遷移金属系合金薄膜を得ることは難易
であった。
膜の製造広においては,生産性に乏しく,コスト高であ
る欠点を有している。更に,容易かつ簡便な方法で高品
質の希土類金属一遷移金属系合金薄膜を得ることは難易
であった。
そこで,本発明の技術的課題は,生産性に乏しくコスト
高である欠点を解消し,簡便な方法で高品質の希土類金
属一遷移金属系合金薄膜の製造方法を提供することにあ
る。
高である欠点を解消し,簡便な方法で高品質の希土類金
属一遷移金属系合金薄膜の製造方法を提供することにあ
る。
(課題を解決するための手段)
そこで本発明者は.めっき液の溶媒に有機溶媒を使用し
た有機電解めっき法を用いた希土類金属−遷移金属系合
金のめっき法を提案するものである。
た有機電解めっき法を用いた希土類金属−遷移金属系合
金のめっき法を提案するものである。
本発明によれば,金属塩と有機溶媒とを含む有機電解め
っき液から前記金属の被膜を電着させる方法において1
前記金属塩は,希土類塩化物と遷移金属とを含むことを
特徴とする希土類金属一遷移金属系合金めっき方法が得
られる。
っき液から前記金属の被膜を電着させる方法において1
前記金属塩は,希土類塩化物と遷移金属とを含むことを
特徴とする希土類金属一遷移金属系合金めっき方法が得
られる。
本発明によれば,前記希土類金属一遷移金属系合金めっ
き方法において,前記有機溶媒は,誘電率が10以上の
値を有することを特徴とする希土類金属一遷移金属系合
金めっき方法が得られる。
き方法において,前記有機溶媒は,誘電率が10以上の
値を有することを特徴とする希土類金属一遷移金属系合
金めっき方法が得られる。
本発明によれば,前記希土類金属一遷移金属系合金めっ
き方法において,前記有機電解めっき液は,支持塩とし
て過塩素酸塩類を含むことを特徴とする第1の請求項記
載の希土類金属一遷移金属系合金めっき方法が得られる
。
き方法において,前記有機電解めっき液は,支持塩とし
て過塩素酸塩類を含むことを特徴とする第1の請求項記
載の希土類金属一遷移金属系合金めっき方法が得られる
。
ここで本発明において使用される金属塩としては,希土
類金属塩化物(R−Cgで表す。但し,RはYを含む希
土類金R).;4移金属塩(T−Xで表す。但しTは遷
移金属,Xは塩基)はそれぞれの金属の塩酸塩,硫酸塩
,硝酸塩等各種使用できる。
類金属塩化物(R−Cgで表す。但し,RはYを含む希
土類金R).;4移金属塩(T−Xで表す。但しTは遷
移金属,Xは塩基)はそれぞれの金属の塩酸塩,硫酸塩
,硝酸塩等各種使用できる。
しかし,一般に,卑な金属を非水溶媒系のめっき浴から
電折させる場合には,水分の混入は好ましくないことか
ら.水分を含んだめっき浴からは良質のめっき膜を得る
ことができない。
電折させる場合には,水分の混入は好ましくないことか
ら.水分を含んだめっき浴からは良質のめっき膜を得る
ことができない。
ここで,希土類金属塩を希土類金属塩化物R−Cgに限
定した理由としては, 1)希土類金属の塩化物が,比較的無水塩を得やすいこ
と, 2)有機溶媒への溶解性が,他の塩に比べ優れているこ
と,があげられる。
定した理由としては, 1)希土類金属の塩化物が,比較的無水塩を得やすいこ
と, 2)有機溶媒への溶解性が,他の塩に比べ優れているこ
と,があげられる。
これらの希土類金属塩化物.遷移金属塩を溶解する有機
溶媒としては,ホルムアミド,ジメチルホルムアミド,
アセトアミドを含むグループから選択された少くとも1
種を用いることが好ましい。
溶媒としては,ホルムアミド,ジメチルホルムアミド,
アセトアミドを含むグループから選択された少くとも1
種を用いることが好ましい。
これらの有機溶媒はいずれも非プロトン性溶媒であり,
溶媒自身(溶媒中の不純物として水が全く含まれていな
い場合)からは理論上H+の放電は生じない溶媒である
。更に,有機溶媒の誘電率が10以上であるためには,
各種金属塩の溶解性も高いからである。
溶媒自身(溶媒中の不純物として水が全く含まれていな
い場合)からは理論上H+の放電は生じない溶媒である
。更に,有機溶媒の誘電率が10以上であるためには,
各種金属塩の溶解性も高いからである。
また.過塩素酸テトラブチルアンモニウム,過塩素酸ナ
トリウムの支持塩は,めっき浴の導電性を上昇させるた
めに添加される。
トリウムの支持塩は,めっき浴の導電性を上昇させるた
めに添加される。
このようなめっき法によれば,湿式めっき法という簡便
な方法で良質な希土類金属一遷移金属系合金膜を得るこ
とができる。また,めっき浴中に水分がほとんど含有し
ない状態でめっきを行うことができるので,得られるめ
っき膜の純度がよく,高品質の合金膜を得ることができ
る。
な方法で良質な希土類金属一遷移金属系合金膜を得るこ
とができる。また,めっき浴中に水分がほとんど含有し
ない状態でめっきを行うことができるので,得られるめ
っき膜の純度がよく,高品質の合金膜を得ることができ
る。
更に,めっき時の電流密度を高くすることにより得られ
る合金膜中の希土類金属含有率を高くすることができる
ので,電流密度の調節により合金膜の組成を変化させる
ことができる。
る合金膜中の希土類金属含有率を高くすることができる
ので,電流密度の調節により合金膜の組成を変化させる
ことができる。
また.従来法に比べ,容易.かつ簡便な方法で高品質の
希土類金属一遷移金属系合金膜を得ることができ,生産
性にも優れ,低コストでの生産を可能にすることができ
る。
希土類金属一遷移金属系合金膜を得ることができ,生産
性にも優れ,低コストでの生産を可能にすることができ
る。
(実施例)
本発明の実施例について説明する。
希土類金属塩として,希土類金属の塩化物RCfI,(
但し,RはNd,Dy,Gd,Sm,Tb),遷移金属
塩として遷移金属の塩化物TCN2(但し,TはFe,
Co)のいずれも無水物を用い,非水溶媒としてホルム
アミド1 ジメチルホルムアミドを窒素下減圧蒸留して
精製したものを用いた。
但し,RはNd,Dy,Gd,Sm,Tb),遷移金属
塩として遷移金属の塩化物TCN2(但し,TはFe,
Co)のいずれも無水物を用い,非水溶媒としてホルム
アミド1 ジメチルホルムアミドを窒素下減圧蒸留して
精製したものを用いた。
これらの化合物を第1表記載の所定量混合し,めっき浴
とした。電解容器は密閉式のものを用いた。
とした。電解容器は密閉式のものを用いた。
陽極には白金板,陰極には導電処理ガラス板(10X1
0X1mm)を用い,マグネチックスターラーで撹拌し
ながら直流電流で浴温30℃,電解時間30IIIn?
!!解した。
0X1mm)を用い,マグネチックスターラーで撹拌し
ながら直流電流で浴温30℃,電解時間30IIIn?
!!解した。
陰極上に得られためっき膜は,金属光沢のある平滑なも
ので電流密度が高くなると,めっき膜は金属光沢を示さ
なくなり,粉末状の析出物となった。
ので電流密度が高くなると,めっき膜は金属光沢を示さ
なくなり,粉末状の析出物となった。
また.ts流密度の増加に伴い合金皮膜中の希土類金属
の含有量が増加した。例としてGdCo合金めっき膜の
生成に関し,得られためっき膜の電流密度とGdの含有
量との関係が第1表の実施例1〜5よりわかる。
の含有量が増加した。例としてGdCo合金めっき膜の
生成に関し,得られためっき膜の電流密度とGdの含有
量との関係が第1表の実施例1〜5よりわかる。
(発明の効果)
以上説明したように,本発明の希土類金属塩化物R−(
1 (但し,RはYを含む希土類金属),遷移金属塩
T−X (但し,Tは遷移金属,Xは塩基)のそれぞれ
1種以上を,これら溶質が可溶な有機溶媒のIP!,
または2種以上の混合溶媒中に溶解させた溶液を用いた
有機電解めっき広により,希土類金属一遷移金属系合金
膜を容易に,かつ簡便に得ることができる。
1 (但し,RはYを含む希土類金属),遷移金属塩
T−X (但し,Tは遷移金属,Xは塩基)のそれぞれ
1種以上を,これら溶質が可溶な有機溶媒のIP!,
または2種以上の混合溶媒中に溶解させた溶液を用いた
有機電解めっき広により,希土類金属一遷移金属系合金
膜を容易に,かつ簡便に得ることができる。
また,めっき液を完全に非水系とすることができるので
,商品質の合金膜を得ることができる。
,商品質の合金膜を得ることができる。
更に,生産性にも優れ,低コストでの生産を可能にする
ことができる。
ことができる。
Claims (3)
- 1.金属塩と有機溶媒とを含む有機電解めっき液から前
記金属の被膜を電着させる方法において,前記金属塩は
,希土類塩化物と遷移金属とを含むことを特徴とする希
土類金属−遷移金属系合金めっき方法。 - 2.第1の請求項記載の希土類金属−遷移金属系合金め
っき方法において,前記有機溶媒は,誘電率が10以上
の値を有することを特徴とする希土類金属−遷移金属系
合金めっき方法。 - 3.第1又は第2の請求項記載の希土類金属−遷移金属
系合金めっき方法において,前記有機電解めっき液は、
支持塩として過塩素酸塩類を含むことを特徴とする第1
の請求項記載の希土類金属−遷移金属系合金めっき方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1156858A JP2750902B2 (ja) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | 希土類金属―遷移金属系合金めっき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1156858A JP2750902B2 (ja) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | 希土類金属―遷移金属系合金めっき方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0324292A true JPH0324292A (ja) | 1991-02-01 |
JP2750902B2 JP2750902B2 (ja) | 1998-05-18 |
Family
ID=15636920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1156858A Expired - Fee Related JP2750902B2 (ja) | 1989-06-21 | 1989-06-21 | 希土類金属―遷移金属系合金めっき方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2750902B2 (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001077418A1 (fr) * | 2000-04-07 | 2001-10-18 | Hui Gao | Procede d'electrodeposition permettant d'obtenir un alliage de terre rare et de metal de transition a partir d'une solution aqueuse |
JP2007288020A (ja) * | 2006-04-19 | 2007-11-01 | Hitachi Metals Ltd | R−Fe−B系希土類焼結磁石の製造方法 |
US7639405B2 (en) * | 1997-10-14 | 2009-12-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Apparatus and method for changing, adding and deleting a job, and a storage medium for such a program |
JP2018502212A (ja) * | 2015-10-21 | 2018-01-25 | 北京中科三環高技術股▲ふん▼有限公司 | 電着法、電着液及び電着による希土類永久磁石材料の製造方法 |
-
1989
- 1989-06-21 JP JP1156858A patent/JP2750902B2/ja not_active Expired - Fee Related
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