JPH03237464A - 電子写真感光体の製造方法 - Google Patents
電子写真感光体の製造方法Info
- Publication number
- JPH03237464A JPH03237464A JP3448090A JP3448090A JPH03237464A JP H03237464 A JPH03237464 A JP H03237464A JP 3448090 A JP3448090 A JP 3448090A JP 3448090 A JP3448090 A JP 3448090A JP H03237464 A JPH03237464 A JP H03237464A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- blocking layers
- layers
- layer
- blank pipes
- contamination
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 6
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 claims abstract description 19
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 15
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 16
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 claims description 14
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 4
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical compound N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 abstract description 4
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 4
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 4
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N Ethyl urethane Chemical compound CCOC(N)=O JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 125000004177 diethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- JGOAZQAXRONCCI-SDNWHVSQSA-N n-[(e)-benzylideneamino]aniline Chemical compound C=1C=CC=CC=1N\N=C\C1=CC=CC=C1 JGOAZQAXRONCCI-SDNWHVSQSA-N 0.000 description 1
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 238000009751 slip forming Methods 0.000 description 1
- 150000005671 trienes Chemical class 0.000 description 1
Landscapes
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、導電性基体上に有機感光材料からなる感光層
を有し、プリンタ、複写機などの電子写真装置に用いら
れる電子写真感光体の製造方法に関する。
を有し、プリンタ、複写機などの電子写真装置に用いら
れる電子写真感光体の製造方法に関する。
感光材料として有機材料を用いた有m感光体には、初期
帯電の際、表面に正it荷を帯電させて使用するものと
、負帯電させて使用するものとある。
帯電の際、表面に正it荷を帯電させて使用するものと
、負帯電させて使用するものとある。
負帯電型有機感光体の場合、通常、第2図に示すように
導電性基体21上に1電荷発生層22. [荷輸送層2
3を積層した構造を有する。露光後、電荷輸送層23の
表面に電荷が残留していても、基体21から電荷が注入
されると、その部位の表面電荷がキャンセルされる。そ
の対策として第3図に示すように導電性基体21と電荷
発生層22の間にプロンキング層24が設けられる。こ
のブロンキング層として通常アルミニウム素管が用いら
れる基体上にm縁性樹脂を塗布して形成するか、あるい
は表面をアルマイト処理した素管を基体とすることによ
り代用される。
導電性基体21上に1電荷発生層22. [荷輸送層2
3を積層した構造を有する。露光後、電荷輸送層23の
表面に電荷が残留していても、基体21から電荷が注入
されると、その部位の表面電荷がキャンセルされる。そ
の対策として第3図に示すように導電性基体21と電荷
発生層22の間にプロンキング層24が設けられる。こ
のブロンキング層として通常アルミニウム素管が用いら
れる基体上にm縁性樹脂を塗布して形成するか、あるい
は表面をアルマイト処理した素管を基体とすることによ
り代用される。
ところが、ブロッキング層として導電性基体上に塗布さ
れる絶縁性樹脂は、代表的にはポリアミド系あるいはウ
レタン系等であるが、その温湿度特性が急峻なため、高
温、高温環境下と低温、低湿環境下とで電気特性が大き
く変化し、不具合が生しるので、電子写真装置側への負
担が大であった。また、表面をアルマイト処理してフロ
ンキング層に代える場合は、表面の酸化被膜の均一性が
十分でなく、また、処理後の乾燥時に塵埃等により汚染
が生ずることなどのために画像不良が発生しやすいとい
う問題点をかかえていた。
れる絶縁性樹脂は、代表的にはポリアミド系あるいはウ
レタン系等であるが、その温湿度特性が急峻なため、高
温、高温環境下と低温、低湿環境下とで電気特性が大き
く変化し、不具合が生しるので、電子写真装置側への負
担が大であった。また、表面をアルマイト処理してフロ
ンキング層に代える場合は、表面の酸化被膜の均一性が
十分でなく、また、処理後の乾燥時に塵埃等により汚染
が生ずることなどのために画像不良が発生しやすいとい
う問題点をかかえていた。
本発明の目的は、上記の問題を解決し、温湿度特性がゆ
るやかなブロッキング層を均一に形成し、かつその表面
がit荷発生N積層前に汚染されない電子写真感光体の
製造方法を提供することにある。
るやかなブロッキング層を均一に形成し、かつその表面
がit荷発生N積層前に汚染されない電子写真感光体の
製造方法を提供することにある。
上記の目的を達成するために、本発明は、アル為ニウム
からなる導電性基体上にブロッキング層、それぞれ有機
材料よりなる1ltr@発生層およびt荷輸送層を積層
してなる電子写真感光体の製造方法において、反応槽内
で導電性基体の表面に接して酸素プラズマを発生させ、
基体表面を酸化させてフロンキング層を形成したのち、
同一反応槽内でフタロンアニン系材料を昇華させて電荷
発生層を蒸着するものとする。
からなる導電性基体上にブロッキング層、それぞれ有機
材料よりなる1ltr@発生層およびt荷輸送層を積層
してなる電子写真感光体の製造方法において、反応槽内
で導電性基体の表面に接して酸素プラズマを発生させ、
基体表面を酸化させてフロンキング層を形成したのち、
同一反応槽内でフタロンアニン系材料を昇華させて電荷
発生層を蒸着するものとする。
ブロッキング層が酸化アルミニウム膜であるため温湿度
特性がゆるやかであり、プラズマ酸化法で形成されるた
め均一である。また′r4荷発生層を同一反応槽内で形
成するので、その前にブロッキング層の表面が汚染され
ることがない。
特性がゆるやかであり、プラズマ酸化法で形成されるた
め均一である。また′r4荷発生層を同一反応槽内で形
成するので、その前にブロッキング層の表面が汚染され
ることがない。
以下図を引用して本発明の一実施例について説明する。
第1図fa+、(blは第3図に示したブロッキング層
24およびi電荷発生層22の成膜装置を示す。
24およびi電荷発生層22の成膜装置を示す。
第1図において反応槽は釣鐘状部1と仕切板2からなり
、公転台座3に取付けられた4本の基体支持軸4は公転
軸5の回転により自転しながら第1図(′b)のように
公転する0反応槽の釣鐘状部1をガス導入管6が11通
し、仕切板2を真空排気管7がWilしている。釣鐘状
部1の内壁には公転する基体支持軸4に対向して電極8
が配置され、高周波<RF>qa9に接続されている。
、公転台座3に取付けられた4本の基体支持軸4は公転
軸5の回転により自転しながら第1図(′b)のように
公転する0反応槽の釣鐘状部1をガス導入管6が11通
し、仕切板2を真空排気管7がWilしている。釣鐘状
部1の内壁には公転する基体支持軸4に対向して電極8
が配置され、高周波<RF>qa9に接続されている。
また、公転する基体支持軸4の下方には背後にヒータ1
0を備えた蒸発源11が配置されている。この装置の基
体支持軸4にトリクレン脱脂した12本のM素管12を
それぞれの端部を覆うマスク13と共に嵌め、真空排気
管7から排気すると共に、ガス導入管6から11005
ccの流量のco、を導入して反応槽1,2内の圧力を
0.01Torrとし、電極8にt源9により高周波(
RF)電圧を印加し接地されたM素管12との間にプラ
ズマを発生させ、CO2を分解して第3図の基体21t
、:tI当する素管12の表面にAI酸化物からなるフ
ロンキング@24をO,) nの厚さに成膜した。RF
パワーはsoow、成膜時間は30分であった0次いで
同一反応槽内で蒸発B9を380℃に加熱してその中に
収容したアルミクロルフタロシアニンジクロライドを昇
華させ、500人の厚さの電荷発生1122を1着した
1反応槽内の真空度は4×10−’ Torrであった
。ここで各素管12を反応槽より取出し、80℃のトリ
エン舊気中に24時間放置してアルミクロルフタロシア
ニンジクロライドの結晶系をβ形に変換し、感度を高め
た9次に、電荷発生lI22の上に下記の配合の有機材
料を塗布し、18−の厚さの電荷輸送1123を形成し
た。
0を備えた蒸発源11が配置されている。この装置の基
体支持軸4にトリクレン脱脂した12本のM素管12を
それぞれの端部を覆うマスク13と共に嵌め、真空排気
管7から排気すると共に、ガス導入管6から11005
ccの流量のco、を導入して反応槽1,2内の圧力を
0.01Torrとし、電極8にt源9により高周波(
RF)電圧を印加し接地されたM素管12との間にプラ
ズマを発生させ、CO2を分解して第3図の基体21t
、:tI当する素管12の表面にAI酸化物からなるフ
ロンキング@24をO,) nの厚さに成膜した。RF
パワーはsoow、成膜時間は30分であった0次いで
同一反応槽内で蒸発B9を380℃に加熱してその中に
収容したアルミクロルフタロシアニンジクロライドを昇
華させ、500人の厚さの電荷発生1122を1着した
1反応槽内の真空度は4×10−’ Torrであった
。ここで各素管12を反応槽より取出し、80℃のトリ
エン舊気中に24時間放置してアルミクロルフタロシア
ニンジクロライドの結晶系をβ形に変換し、感度を高め
た9次に、電荷発生lI22の上に下記の配合の有機材
料を塗布し、18−の厚さの電荷輸送1123を形成し
た。
ポリカーボネート 10重量部2.4ジ
エチル7ミノベンズアルテヒF
10!11ジフエニルヒドラゾンシクロ疼メ
タン 100重1 部比
較例の感光体として、基体21上にブロッキング層24
をポリアミドを浸漬法で700人の厚さに塗布して形成
したほかは電荷発生層22.電荷輸送層23を実施例と
同様に積層した感光体を作製した。
エチル7ミノベンズアルテヒF
10!11ジフエニルヒドラゾンシクロ疼メ
タン 100重1 部比
較例の感光体として、基体21上にブロッキング層24
をポリアミドを浸漬法で700人の厚さに塗布して形成
したほかは電荷発生層22.電荷輸送層23を実施例と
同様に積層した感光体を作製した。
実施例および比較例の感光体は第1表のような特性を示
した。
した。
第1表
第1表から分かるように、帯電位、イメージ電位共に温
湿度依存性が本発明の実施例で製造された感光体の方が
小さい、そして、画像上の欠陥発生率は、比較例の感光
体では40%であったのに対し、実施例による感光体で
は10%であった。
湿度依存性が本発明の実施例で製造された感光体の方が
小さい、そして、画像上の欠陥発生率は、比較例の感光
体では40%であったのに対し、実施例による感光体で
は10%であった。
本発明によれば、電荷発生層とアルミニウム基体に介在
させるブロッキング層を酸化アルごニウム膜としたため
、感光体特性の温湿度依存性を小さくすることができ、
またそのブロッキング層をプラズマ酸化法で形成したた
め均一に底膜でき、さらに同一反応槽内でひきつづき電
荷発生層を形成するためブロッキング層面の汚染がない
ので画像欠陥の発生の少ない特性良好な電子写真感光体
を¥M造することができた。
させるブロッキング層を酸化アルごニウム膜としたため
、感光体特性の温湿度依存性を小さくすることができ、
またそのブロッキング層をプラズマ酸化法で形成したた
め均一に底膜でき、さらに同一反応槽内でひきつづき電
荷発生層を形成するためブロッキング層面の汚染がない
ので画像欠陥の発生の少ない特性良好な電子写真感光体
を¥M造することができた。
第1図は本発明の一実施例に用いた戒M g置を示し、
そのうち(5)は縦断面図、Cb)は横断面図、第2図
は有機感光体の一例の構造を示す断面図、第3図は本発
明による有機感光体の構造を示す断面図である。 1:反応槽釣鐘状部、2:反応槽仕切板、4:基体支持
軸、6:ガス導入管、7:真空排気管、8:を極、9:
RFiifi、11:m発源、12:M素管、21:導
電性基体、22:iit荷発生層、23:ii荷輸送層
、24ニブロッキング層。 第2図 が 第3図 第1図
そのうち(5)は縦断面図、Cb)は横断面図、第2図
は有機感光体の一例の構造を示す断面図、第3図は本発
明による有機感光体の構造を示す断面図である。 1:反応槽釣鐘状部、2:反応槽仕切板、4:基体支持
軸、6:ガス導入管、7:真空排気管、8:を極、9:
RFiifi、11:m発源、12:M素管、21:導
電性基体、22:iit荷発生層、23:ii荷輸送層
、24ニブロッキング層。 第2図 が 第3図 第1図
Claims (1)
- 1)アルミニウムからなる導電性基体上にブロッキング
層、それぞれ有機材料よりなる電荷発生層および電荷輸
送層を積層してなる電子写真感光体の製造方法において
、反応槽内で導電性基体の表面に接して酸素プラズマを
発生させ、基体表面を酸化させてブロッキング層を形成
したのち、同一反応槽内でフタロシアニン系材料を昇華
させて電荷発生層を蒸着することを特徴とする電子写真
感光体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3448090A JPH03237464A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | 電子写真感光体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3448090A JPH03237464A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | 電子写真感光体の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03237464A true JPH03237464A (ja) | 1991-10-23 |
Family
ID=12415415
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3448090A Pending JPH03237464A (ja) | 1990-02-15 | 1990-02-15 | 電子写真感光体の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03237464A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012118469A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法および堆積膜形成方法 |
-
1990
- 1990-02-15 JP JP3448090A patent/JPH03237464A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012118469A (ja) * | 2010-12-03 | 2012-06-21 | Canon Inc | 電子写真感光体の製造方法および堆積膜形成方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US3845739A (en) | System for vapor deposition of thin films | |
JPH03237464A (ja) | 電子写真感光体の製造方法 | |
US3861353A (en) | System for vapor deposition of thin films | |
US3911162A (en) | System for vapor deposition of thin films | |
JPH03236058A (ja) | 電子写真用感光体およびその製造方法 | |
JP2003201565A (ja) | 堆積膜形成装置および堆積膜形成方法 | |
JPH0338586B2 (ja) | ||
JPH03625B2 (ja) | ||
JPH0438449B2 (ja) | ||
JP2958850B2 (ja) | プラズマcvd装置およびそれを用いるアモルファスシリコン感光体の製造方法 | |
JP2003160868A (ja) | プラズマ成膜装置及びインライン式プラズマ成膜装置 | |
JPH03626B2 (ja) | ||
JPS62237460A (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
JPS6247486A (ja) | 電子写真用感光体の製造装置 | |
JP2924238B2 (ja) | 真空蒸着装置 | |
JPS6126365Y2 (ja) | ||
JPS62235465A (ja) | 電子写真用感光体の製造方法 | |
JPH06326080A (ja) | プラズマcvd装置 | |
JPH01161250A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS62146262A (ja) | 電子写真用感光体製造装置 | |
JPS62149874A (ja) | 電子写真用感光体製造装置 | |
JPS59173261A (ja) | 薄膜の堆積装置 | |
JPS5873766A (ja) | 電子写真感光体 | |
JPS6118460A (ja) | スプレ−塗布方法及びその装置 | |
JPS6299462A (ja) | 光導電体の製造方法 |