JPH03234605A - レジン成形装置 - Google Patents
レジン成形装置Info
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- JPH03234605A JPH03234605A JP2031788A JP3178890A JPH03234605A JP H03234605 A JPH03234605 A JP H03234605A JP 2031788 A JP2031788 A JP 2031788A JP 3178890 A JP3178890 A JP 3178890A JP H03234605 A JPH03234605 A JP H03234605A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
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- H01L21/56—Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
- H01L21/565—Moulds
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は半導体ウェーハの周縁部に絶縁レジンを成形す
るためのレジン成形装置に関する。
るためのレジン成形装置に関する。
(従来の技術)
半導体ウェーハの周縁部に絶縁レジンを成形するための
レジン成形装置として、上型と、この上型との間で半導
体ウェーハを押圧保持する下型とを備えたものが知られ
ている。そして、半導体つ工−ハの周縁部に、上型と下
型との間で絶縁レジン充てん用のレジン空間が形成され
ている。
レジン成形装置として、上型と、この上型との間で半導
体ウェーハを押圧保持する下型とを備えたものが知られ
ている。そして、半導体つ工−ハの周縁部に、上型と下
型との間で絶縁レジン充てん用のレジン空間が形成され
ている。
なお、上述した上型および下型は、ステンレス等の金属
材料、または3フッ化樹脂、4フッ化樹脂等の樹脂材料
から形成されている。
材料、または3フッ化樹脂、4フッ化樹脂等の樹脂材料
から形成されている。
絶縁レジンを成形する際は、半導体ウェーハを上型と下
型との間で押圧して型締め、レジン空間内に絶縁レジン
を充てんし、予め加熱されている上型と下型の熱により
、レジンは硬化される。
型との間で押圧して型締め、レジン空間内に絶縁レジン
を充てんし、予め加熱されている上型と下型の熱により
、レジンは硬化される。
(発明が解決しようとする課題)
上述のように、上型および下型はステンレス等の金属材
料、または3フッ化樹脂、4フッ化樹脂等の樹脂材料に
より形成されている。
料、または3フッ化樹脂、4フッ化樹脂等の樹脂材料に
より形成されている。
しかしながら、上型および下型を金属材料によって形成
した場合は、絶縁レジンか上型および下型に接着して離
型性が悪化し、絶縁レジンの成形作業に支障が生ずる。
した場合は、絶縁レジンか上型および下型に接着して離
型性が悪化し、絶縁レジンの成形作業に支障が生ずる。
また、上型および下型を3フッ化樹脂および47ソ化樹
脂等により形成した場合は、上型と下型との型締め回数
か増えるにつれて上型とF型が変形してしまうことがあ
り、量産に適さないという問題がある。また上型と下型
か変形した場合は、これらを交換する必要があり、その
労費用かかかってしまうという問題がある。さらに、3
フッ化樹脂等の樹脂材料は熱伝導か態いので、上型およ
び下型を加熱するための加熱電力を多量に必要とすると
いう問題がある。
脂等により形成した場合は、上型と下型との型締め回数
か増えるにつれて上型とF型が変形してしまうことがあ
り、量産に適さないという問題がある。また上型と下型
か変形した場合は、これらを交換する必要があり、その
労費用かかかってしまうという問題がある。さらに、3
フッ化樹脂等の樹脂材料は熱伝導か態いので、上型およ
び下型を加熱するための加熱電力を多量に必要とすると
いう問題がある。
本発明はこのような点を考慮してなされたものであり、
上型および下型の変形を防止でき、かつ離型性の向上を
図ることができるレジン成形装置を提供すことを目的と
する。
上型および下型の変形を防止でき、かつ離型性の向上を
図ることができるレジン成形装置を提供すことを目的と
する。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段)
本発明は、上金型と、この上金型との間で半導体ウェー
ハを押圧保持するとともに、半導体つ工−ハの周縁部に
前記上金型との間で絶縁レジン充てん用のレジン空間を
形成する下金型とを備え、前記上金型と前記下金型のう
ち、前記半導体ウェハとの当接面および前記レジン空間
の内面を、絶縁レジンと接着しない弾性材料で被覆した
ことを特徴とするレジン成形装置である。
ハを押圧保持するとともに、半導体つ工−ハの周縁部に
前記上金型との間で絶縁レジン充てん用のレジン空間を
形成する下金型とを備え、前記上金型と前記下金型のう
ち、前記半導体ウェハとの当接面および前記レジン空間
の内面を、絶縁レジンと接着しない弾性材料で被覆した
ことを特徴とするレジン成形装置である。
(作 用)
本発明によれば、上金型と下金型のうち、半導体ウェー
ハとの当接面およびレジン空間の内面を絶縁レジンと接
着しない弾性材料で被覆したので、半導体ウェーハを弾
性保持することができるとともに離型性の向上を図るこ
とができる。
ハとの当接面およびレジン空間の内面を絶縁レジンと接
着しない弾性材料で被覆したので、半導体ウェーハを弾
性保持することができるとともに離型性の向上を図るこ
とができる。
(実施例)
以下、図面を参照して本発明の実施例について説明する
。
。
第1図乃至第4図は本発明によるレシン成形装置の一実
施例を示す図である。
施例を示す図である。
第1図に示すように、レジン成形装置は上金型7と、こ
の上金型7との間で半導体ウェーハ10を抑圧保持する
下金型8とを備えている。上金型7および下金型8は、
いずれも金属製となっている。また、下金型8は下金型
用ヒータブロック4上に下金型用ホルダ6を介して取付
けられており、−力士金型7は上下方向に移動自在の上
金型用ヒータブロック3に上金型用ホルダ5を介して取
付けられている。
の上金型7との間で半導体ウェーハ10を抑圧保持する
下金型8とを備えている。上金型7および下金型8は、
いずれも金属製となっている。また、下金型8は下金型
用ヒータブロック4上に下金型用ホルダ6を介して取付
けられており、−力士金型7は上下方向に移動自在の上
金型用ヒータブロック3に上金型用ホルダ5を介して取
付けられている。
また、上金型7と下金型8との間であって、半導体ウェ
ーハ10の周縁部に対応する部分に、例えばシリコン樹
脂等の絶縁レジン2を充てんするためのレジン空間20
が環状に形成されている。
ーハ10の周縁部に対応する部分に、例えばシリコン樹
脂等の絶縁レジン2を充てんするためのレジン空間20
が環状に形成されている。
また、下金型用ホルダ6には、外部からレジン空間20
内に絶縁レジン2を注入する注入口12が形成され、一
方、上金型用ホルダ5にはこの注入口12を密閉するた
めのレジンストッパ9が設けられている。
内に絶縁レジン2を注入する注入口12が形成され、一
方、上金型用ホルダ5にはこの注入口12を密閉するた
めのレジンストッパ9が設けられている。
さらに下金型8には、半導体ウェーハ10を真空引きし
て下金型8に密着させるための真空孔11が形成され、
この真空孔11は真空・高圧ライン15に接続されてい
る。この真空・高圧ライン15は真空孔11を真空状態
または高圧状態とするものである。
て下金型8に密着させるための真空孔11が形成され、
この真空孔11は真空・高圧ライン15に接続されてい
る。この真空・高圧ライン15は真空孔11を真空状態
または高圧状態とするものである。
また、第2図に示すように、上金型7のうち半導体ウェ
ーハ10と当接する当接面7a、および下金型8のうち
半導体ウェーハ10と当接する当接面8aには、絶縁レ
ジンと接着しない弾性材料、例えば3フッ化樹脂または
4フッ化樹脂が被覆されている。さらに上金型7および
下金型8のうち、レジン空間20の内面を形成する部分
7bおよび8bにも、上述した弾性材料か被覆され、ま
たレジン空間20の注入口12の内面にも同様に弾性材
料が被覆されている。
ーハ10と当接する当接面7a、および下金型8のうち
半導体ウェーハ10と当接する当接面8aには、絶縁レ
ジンと接着しない弾性材料、例えば3フッ化樹脂または
4フッ化樹脂が被覆されている。さらに上金型7および
下金型8のうち、レジン空間20の内面を形成する部分
7bおよび8bにも、上述した弾性材料か被覆され、ま
たレジン空間20の注入口12の内面にも同様に弾性材
料が被覆されている。
この弾性材料は、上述のようにシリコン樹脂等からなる
絶縁レジンと接着しないようになっており、また半導体
ウェーハ10と弾性的に当接するようになっている。
絶縁レジンと接着しないようになっており、また半導体
ウェーハ10と弾性的に当接するようになっている。
次にこのような構成からなる本実施例の作用について説
明する。
明する。
まず、上金型用ヒータブロック3を駆動部(図示せず)
により上昇させ、上金型用ホルダ5を上昇位置14まて
持ってくる(第1図および第3図2点鎖線の位置)。こ
の状態で下金型8上に半導体ウェーハ10を載置し、真
空孔11を真空状態として半導体ウェーハ10を下金型
8上に密着させる。続いて上金型用ヒータブロック3を
降下させ、半導体ウェーハ10を上金型7と下金型8と
の間で押圧して型締める。この場合、第2図に示すよう
に、上金型用ホルダ5がド金型用ホルダ6内に入り込み
、この下金型用ホルダ6がレジン空間20の外面を形成
する。
により上昇させ、上金型用ホルダ5を上昇位置14まて
持ってくる(第1図および第3図2点鎖線の位置)。こ
の状態で下金型8上に半導体ウェーハ10を載置し、真
空孔11を真空状態として半導体ウェーハ10を下金型
8上に密着させる。続いて上金型用ヒータブロック3を
降下させ、半導体ウェーハ10を上金型7と下金型8と
の間で押圧して型締める。この場合、第2図に示すよう
に、上金型用ホルダ5がド金型用ホルダ6内に入り込み
、この下金型用ホルダ6がレジン空間20の外面を形成
する。
続いて、注入口12からレジン空間20内に絶縁レジン
2を充てんする。この場合、上金型7と下金型8はそれ
ぞれ上金型用ヒータブロック3と下金型用ヒータブロッ
ク4により、予め加熱されている。そしてこの上金型7
と下金型8とにより、レジン空間20内の絶縁レジン2
を加熱硬化させ、半導体ウェーハ10の周縁部に絶縁レ
ジン2を成形する。
2を充てんする。この場合、上金型7と下金型8はそれ
ぞれ上金型用ヒータブロック3と下金型用ヒータブロッ
ク4により、予め加熱されている。そしてこの上金型7
と下金型8とにより、レジン空間20内の絶縁レジン2
を加熱硬化させ、半導体ウェーハ10の周縁部に絶縁レ
ジン2を成形する。
その後、再び上金型用ヒータブロック3を上昇させ、下
金型8から上金型5を引離す。続いて真空孔11内に高
圧エアを吹込みながら、下金型8上から半導体ウェーノ
11Oを取外す。
金型8から上金型5を引離す。続いて真空孔11内に高
圧エアを吹込みながら、下金型8上から半導体ウェーノ
11Oを取外す。
このようにして、第4図に示すような周縁部に絶縁レジ
ン2か成形された半導体ウエーノ\10が得られる。
ン2か成形された半導体ウエーノ\10が得られる。
以上説明したように、本実施例によれば、上金型7と下
金型8のうち、半導体ウエーノ\10に当接する当接面
7aおよび8aを弾性材で被覆したので、半導体ウェー
/\10を抑圧する場合、片当すせず弾性保持すること
ができる。このため、半導体ウェーハ10の割れを確実
に防止することができる。また、上金型7および下金型
8のうち、レジン空間内面を形成する部分7bおよび8
bを絶縁レジン2と接着しない弾性材で被覆したので、
離型性の向上を図ることかできるとともに、上金型7お
よび下金型8と絶縁レジン2が付着することを防止する
ことかできる。また注入口12にも弾性材が被覆されて
いるので、注入口12内面への絶縁レジン2の付着を防
止できる。さらに、上金型7と下金型8の被覆内部は丈
夫な金属製となっているので、樹脂型に比較して熱伝導
性が良く加熱用電力を少なく押えることができるととも
に、上金型7と下金型8の変形を防止することができる
。〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば、半導体ウェーハ
を上金型と下金型との間で弾性保持することができると
ともに、離型性の向上を図ることかできる。このため、
半導体ウェーハの割れを防止することができるとともに
、絶縁レジンを精度良く半導体ウェーハの周縁部に成形
することができる。
金型8のうち、半導体ウエーノ\10に当接する当接面
7aおよび8aを弾性材で被覆したので、半導体ウェー
/\10を抑圧する場合、片当すせず弾性保持すること
ができる。このため、半導体ウェーハ10の割れを確実
に防止することができる。また、上金型7および下金型
8のうち、レジン空間内面を形成する部分7bおよび8
bを絶縁レジン2と接着しない弾性材で被覆したので、
離型性の向上を図ることかできるとともに、上金型7お
よび下金型8と絶縁レジン2が付着することを防止する
ことかできる。また注入口12にも弾性材が被覆されて
いるので、注入口12内面への絶縁レジン2の付着を防
止できる。さらに、上金型7と下金型8の被覆内部は丈
夫な金属製となっているので、樹脂型に比較して熱伝導
性が良く加熱用電力を少なく押えることができるととも
に、上金型7と下金型8の変形を防止することができる
。〔発明の効果〕 以上説明したように、本発明によれば、半導体ウェーハ
を上金型と下金型との間で弾性保持することができると
ともに、離型性の向上を図ることかできる。このため、
半導体ウェーハの割れを防止することができるとともに
、絶縁レジンを精度良く半導体ウェーハの周縁部に成形
することができる。
分を示す部分拡大図であり、第3図は第1図■線方向矢
視図であり、第4図は周縁部に絶縁レジンが成形された
半導体ウェーハを示す図である。
視図であり、第4図は周縁部に絶縁レジンが成形された
半導体ウェーハを示す図である。
2・・・絶縁レジン、7・・・上金型、7a・・・半導
体つ工−ハ当接面、7b・・レジン空間内面、8・・・
下金型、8a・・・半導体ウェーハ当接面、8b・・・
レジン空間内面、10・・・半導体ウェーハ、20・・
・レジン空間。
体つ工−ハ当接面、7b・・レジン空間内面、8・・・
下金型、8a・・・半導体ウェーハ当接面、8b・・・
レジン空間内面、10・・・半導体ウェーハ、20・・
・レジン空間。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、上金型と、この上金型との間で半導体ウェーハを押
圧保持するとともに、半導体ウェーハの周縁部に前記上
金型との間で絶縁レジン充てん用のレジン空間を形成す
る下金型とを備え、前記上金型と前記下金型のうち、前
記半導体ウェーハとの当接面および前記レジン空間の内
面を絶縁レジンと接着しない弾性材料で被覆したことを
特徴とするレジン成形装置。 2、弾性材料は3フッ化樹脂または4フッ化樹脂からな
ることを特徴とする請求項1記載のレジン成形装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2031788A JPH03234605A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | レジン成形装置 |
US07/634,447 US5151276A (en) | 1990-02-13 | 1990-12-27 | Resin molding apparatus |
EP90125822A EP0442152A1 (en) | 1990-02-13 | 1990-12-31 | Resin molding apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2031788A JPH03234605A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | レジン成形装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03234605A true JPH03234605A (ja) | 1991-10-18 |
JPH0558889B2 JPH0558889B2 (ja) | 1993-08-27 |
Family
ID=12340804
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2031788A Granted JPH03234605A (ja) | 1990-02-13 | 1990-02-13 | レジン成形装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5151276A (ja) |
EP (1) | EP0442152A1 (ja) |
JP (1) | JPH03234605A (ja) |
Families Citing this family (23)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR970002295B1 (ko) * | 1993-02-23 | 1997-02-27 | 미쯔비시 덴끼 가부시끼가이샤 | 성형방법 |
NL9400119A (nl) * | 1994-01-27 | 1995-09-01 | 3P Licensing Bv | Werkwijze voor het met een hardende kunststof omhullen van een electronische component, electronische componenten met kunststofomhulling verkregen door middel van deze werkwijze en matrijs voor het uitvoeren der werkwijze. |
US5597523A (en) * | 1994-02-22 | 1997-01-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Molding apparatus and method in which a mold cavity gasket is deformed by separately applied pressure |
US5656550A (en) * | 1994-08-24 | 1997-08-12 | Fujitsu Limited | Method of producing a semicondutor device having a lead portion with outer connecting terminal |
EP0730937B1 (en) * | 1994-11-21 | 1998-02-18 | Apic Yamada Corporation | A resin molding machine with release film |
MY114536A (en) * | 1994-11-24 | 2002-11-30 | Apic Yamada Corp | A resin molding machine and a method of resin molding |
US5846477A (en) * | 1994-12-08 | 1998-12-08 | Nitto Denko Corporation | Production method for encapsulating a semiconductor device |
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