JPH03229109A - 表面検査装置 - Google Patents
表面検査装置Info
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- JPH03229109A JPH03229109A JP2582890A JP2582890A JPH03229109A JP H03229109 A JPH03229109 A JP H03229109A JP 2582890 A JP2582890 A JP 2582890A JP 2582890 A JP2582890 A JP 2582890A JP H03229109 A JPH03229109 A JP H03229109A
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- 230000007547 defect Effects 0.000 claims abstract description 11
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract description 26
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は感光ドラムなどの表面検査に利用される表面検
査装置に関するものである。
査装置に関するものである。
従来の技術
近年、簡易で高品質な印刷方法として電子写真法が開発
され、これを利用して各種のプリンタが実用化された。
され、これを利用して各種のプリンタが実用化された。
このようなプリンタでは、感光体の表面を光走査して静
電潜像を形成し、この静電潜像を帯電したトナーで現像
して印刷用紙に転写することなどで印刷を実行する。こ
こで、上述のような感光体である感光ドラムや感光ベル
トは円筒形や無端帯状の基材の表面に感光物質を塗布す
るなどして製作されるが、その表面に塗布ムラや損傷等
の欠陥が存すると装置の印刷品質が低下するので予め精
密な表面検査が必要である。そして、このような表面検
査を実行する装置としては、特開昭６２−５２４０８号
公報、特開昭６１−２４３３４７号公報、特開昭６３−
４２４５３号公報、特開昭６１−７４０６号公報などに
開示されたものが存する。
電潜像を形成し、この静電潜像を帯電したトナーで現像
して印刷用紙に転写することなどで印刷を実行する。こ
こで、上述のような感光体である感光ドラムや感光ベル
トは円筒形や無端帯状の基材の表面に感光物質を塗布す
るなどして製作されるが、その表面に塗布ムラや損傷等
の欠陥が存すると装置の印刷品質が低下するので予め精
密な表面検査が必要である。そして、このような表面検
査を実行する装置としては、特開昭６２−５２４０８号
公報、特開昭６１−２４３３４７号公報、特開昭６３−
４２４５３号公報、特開昭６１−７４０６号公報などに
開示されたものが存する。
例えば、特開昭６２−５２４０８号公報に開示された装
置では、回転自在に軸支した感光ドラムの表面にオプテ
ィカルフラットを対向配置し、このオプティカルフラッ
トに生じる干渉縞を目視して表面検査を行なう。また、
特開昭６１−２４３３４７号公報に開示された装置では
、被検物の表面を光走査して反射光をポジションセンサ
で読取り、このポジションセンサが検出した信号波形か
ら半導体焼付装置のレクチル面上の塵芥などを検出する
。さらに、特開昭６３−４２４５３号公報に開示された
装置では、回転自在に軸支したディスクの表面にビーム
を照射し、この反射光の空間的強度分布を検出する表面
検査を行なう。そして、特開昭６１−７４０６号公報に
開示された装置は、被検物の表面をテレビカメラで読取
だ情報を画像処理し、この画像情報を基準物の画像情報
と比較して欠陥を検出する。
置では、回転自在に軸支した感光ドラムの表面にオプテ
ィカルフラットを対向配置し、このオプティカルフラッ
トに生じる干渉縞を目視して表面検査を行なう。また、
特開昭６１−２４３３４７号公報に開示された装置では
、被検物の表面を光走査して反射光をポジションセンサ
で読取り、このポジションセンサが検出した信号波形か
ら半導体焼付装置のレクチル面上の塵芥などを検出する
。さらに、特開昭６３−４２４５３号公報に開示された
装置では、回転自在に軸支したディスクの表面にビーム
を照射し、この反射光の空間的強度分布を検出する表面
検査を行なう。そして、特開昭６１−７４０６号公報に
開示された装置は、被検物の表面をテレビカメラで読取
だ情報を画像処理し、この画像情報を基準物の画像情報
と比較して欠陥を検出する。
発明が解決しようとする課題
上述のように現在では各種の表面検査装置が提案されて
いるが、いずれも被検物の表面から反射された光情報に
基づいて欠陥を検出している。
いるが、いずれも被検物の表面から反射された光情報に
基づいて欠陥を検出している。
ここで、このような表面検査装置の被検物の一つとして
感光体が存するが、これは有機光導電体（ｏｐｃ）を利
用したものが開発されており、例えば、電荷発生層（Ｃ
ＧＬ）や電荷輸送層（ＣＴＬ）等のように機能が異なる
層を積層形成したものなどが存している。
感光体が存するが、これは有機光導電体（ｏｐｃ）を利
用したものが開発されており、例えば、電荷発生層（Ｃ
ＧＬ）や電荷輸送層（ＣＴＬ）等のように機能が異なる
層を積層形成したものなどが存している。
そして、このような多層構造の被検物を、前述した各種
の表面検査装置で検査した場合、いずれも検出される欠
陥は表層の表面のものだけで、下層の欠陥は検出されな
いことになる。
の表面検査装置で検査した場合、いずれも検出される欠
陥は表層の表面のものだけで、下層の欠陥は検出されな
いことになる。
課題を解決するための手段
請求項１記載の発明は、積層形成された層の各々が光照
射に対して所定波長の光を発する被検物の相対移動する
表面に検査光を照射する光照射装置を設け、この光照射
装置に検査光を照射された被検物の表面の輝度分布を検
査光と異なる波長で読取る読取装置を設け、この読取装
置が出力する読取信号を画像処理して被検物の各層の欠
陥を検出する演算処理回路を設けた。
射に対して所定波長の光を発する被検物の相対移動する
表面に検査光を照射する光照射装置を設け、この光照射
装置に検査光を照射された被検物の表面の輝度分布を検
査光と異なる波長で読取る読取装置を設け、この読取装
置が出力する読取信号を画像処理して被検物の各層の欠
陥を検出する演算処理回路を設けた。
請求項２記載の発明は、光照射装置が出射する検査光の
波長を可変自在に設定する波長変更手段を設けた。
波長を可変自在に設定する波長変更手段を設けた。
作用
請求項１記載の発明は、積層形成された層の各々が光照
射に対して所定波長の光を発する被検物の相対移動する
表面に検査光を照射する光照射装置を設け、この光照射
装置に検査光を照射された被検物の表面の輝度分布を検
査光と異なる波長で読取る読取装置を設けたことにより
、光照射装置の光照射により被検物から発せられる表層
表面の反射光成分と下層の蛍光成分とのうち、蛍光成分
のみを読取装置で選択的に読取ることができる。
射に対して所定波長の光を発する被検物の相対移動する
表面に検査光を照射する光照射装置を設け、この光照射
装置に検査光を照射された被検物の表面の輝度分布を検
査光と異なる波長で読取る読取装置を設けたことにより
、光照射装置の光照射により被検物から発せられる表層
表面の反射光成分と下層の蛍光成分とのうち、蛍光成分
のみを読取装置で選択的に読取ることができる。
請求項２記載の発明は、光照射装置が出射する検査光の
波長を可変自在に設定する波長変更手段を設けたことに
より、各波長の照射光により被検物の各層が選択的に蛍
光を発するので、これらの蛍光成分を選択的に読取るこ
とができる。
波長を可変自在に設定する波長変更手段を設けたことに
より、各波長の照射光により被検物の各層が選択的に蛍
光を発するので、これらの蛍光成分を選択的に読取るこ
とができる。
実施例
請求項１記載の発明の第一の実施例を第１図に基づいて
説明する。まず、この表面検査装置１では、回転自在に
軸支されてモータ２が動力伝達ベルト３等を介して連結
された被検物である感光ドラム４と対向する位置に、読
取装置５と二個の光照射装置６，７とが配置されている
。ここで、これらの光照射装置６，７は前記感光ドラム
４と等長の直管型の蛍光灯８にバンドパスフィルタ９を
組合わせた構造となっており、前記読取装置５はバンド
パスフィルタ１０が組合わされたテレビカメラ１１を演
算処理回路１２に接続した構造となっている。
説明する。まず、この表面検査装置１では、回転自在に
軸支されてモータ２が動力伝達ベルト３等を介して連結
された被検物である感光ドラム４と対向する位置に、読
取装置５と二個の光照射装置６，７とが配置されている
。ここで、これらの光照射装置６，７は前記感光ドラム
４と等長の直管型の蛍光灯８にバンドパスフィルタ９を
組合わせた構造となっており、前記読取装置５はバンド
パスフィルタ１０が組合わされたテレビカメラ１１を演
算処理回路１２に接続した構造となっている。
なお、前記感光ドラム４は、有機光導電体を利用した機
能分離型のものであり、積層形成された電荷発生層や電
荷輸送層等の各々が光照射に対して所定波長の光を発す
る。また、前記バンドパスフィルタ９．１０は透過する
光成分の波長が各々異なっている。
能分離型のものであり、積層形成された電荷発生層や電
荷輸送層等の各々が光照射に対して所定波長の光を発す
る。また、前記バンドパスフィルタ９．１０は透過する
光成分の波長が各々異なっている。
このような構成において、この表面検査装置ｌでは、ま
ず、蛍光灯８の出射光がバンドパスフィルタ９を透過す
ることで波長がλｅｘとなった単色光が、各光照射装置
６，７から感光ドラム４の表面に照射される。すると、
この光照射された感光ドラム４の表面からは、照射光が
表層の表面で反射された波長λｅｘの反射光成分と、照
射光によって所定の下層が励起された波長λｆｌの蛍光
成分とが出力されることになる。そこで、これらの光成
分は感光ドラム４の表面から読取装置５に入射するが、
この読取装置５のバンドパスフィルタ１０は、波長λｅ
ｘの反射光成分を遮断して波長＾ｆｌの蛍光成分だけを
透過する。そこで、このテレビカメラ１１は波長λｆｌ
の蛍光成分を読取ることになり、その読取信号が演算処
理回路１２で画像処理されて輝度分布が解析されるなど
して、感光ドラム４の下層の蛍光物質の分布状態や欠陥
が検出される。
ず、蛍光灯８の出射光がバンドパスフィルタ９を透過す
ることで波長がλｅｘとなった単色光が、各光照射装置
６，７から感光ドラム４の表面に照射される。すると、
この光照射された感光ドラム４の表面からは、照射光が
表層の表面で反射された波長λｅｘの反射光成分と、照
射光によって所定の下層が励起された波長λｆｌの蛍光
成分とが出力されることになる。そこで、これらの光成
分は感光ドラム４の表面から読取装置５に入射するが、
この読取装置５のバンドパスフィルタ１０は、波長λｅ
ｘの反射光成分を遮断して波長＾ｆｌの蛍光成分だけを
透過する。そこで、このテレビカメラ１１は波長λｆｌ
の蛍光成分を読取ることになり、その読取信号が演算処
理回路１２で画像処理されて輝度分布が解析されるなど
して、感光ドラム４の下層の蛍光物質の分布状態や欠陥
が検出される。
このように、この表面検査装置ｌでは、バンドパスフィ
ルタ９．１０によって光照射装置６，７の照射光の波長
域と読取装置５が読取る波長域とを異なるものとし、所
定物質の発する蛍光を選択的に読取ることで、感光ドラ
ム４の下層の検査を実現している。なお、この表面検査
装置１では、例えば、バンドパスフィルタ９．１０等を
取外して感光ドラム４の表層表面の検査を行なうことも
可能である。
ルタ９．１０によって光照射装置６，７の照射光の波長
域と読取装置５が読取る波長域とを異なるものとし、所
定物質の発する蛍光を選択的に読取ることで、感光ドラ
ム４の下層の検査を実現している。なお、この表面検査
装置１では、例えば、バンドパスフィルタ９．１０等を
取外して感光ドラム４の表層表面の検査を行なうことも
可能である。
つぎに、請求項１記載の発明の第二の実施例を第２図に
基づいて説明する。この表面検査装置１３では、感光ド
ラム４に対向配置された二個の光照射装置は、出射光の
スペクトル成分が４００ （ｎｍ）以下の蛍光灯１４．
１５で形成されており、やはり感光ドラム４に対向配置
された読取装置であるラインセンサ１６は、４００（ｎ
ｍ）以下の波長には感度を持たないセンサアレイ１７に
等倍のレンズアレイ１８を組合わされた構造となってい
る。なお、同図ではモータ２や演算処理回路１２等は省
略されている。
基づいて説明する。この表面検査装置１３では、感光ド
ラム４に対向配置された二個の光照射装置は、出射光の
スペクトル成分が４００ （ｎｍ）以下の蛍光灯１４．
１５で形成されており、やはり感光ドラム４に対向配置
された読取装置であるラインセンサ１６は、４００（ｎ
ｍ）以下の波長には感度を持たないセンサアレイ１７に
等倍のレンズアレイ１８を組合わされた構造となってい
る。なお、同図ではモータ２や演算処理回路１２等は省
略されている。
このような構成において、この表面検査装置１３では、
前述の表面検査装置１と略同様にして感光ドラム４の下
層の検査を行なう。
前述の表面検査装置１と略同様にして感光ドラム４の下
層の検査を行なう。
なお、この表面検査装置１３のレンズアレイ１８として
は、ルーフミラーレンズや屈折率分布型レンズを利用し
たものなどが実施可能である。
は、ルーフミラーレンズや屈折率分布型レンズを利用し
たものなどが実施可能である。
つぎに、請求項２記載の発明の実施例を第３図及び第４
図に基づいて説明する。この表面検査装置１９では、感
光ドラム４に対向配置された二個の光照射装置である光
照射装置２０．２１は、透過する波長域が異なる四個の
バンドパスフィルタ２２、〜２２４が円形に連設された
波長変更手段であるフィルタディスク２３を光源２４の
前面に回転自在に軸支した構造となっている。
図に基づいて説明する。この表面検査装置１９では、感
光ドラム４に対向配置された二個の光照射装置である光
照射装置２０．２１は、透過する波長域が異なる四個の
バンドパスフィルタ２２、〜２２４が円形に連設された
波長変更手段であるフィルタディスク２３を光源２４の
前面に回転自在に軸支した構造となっている。
このような構成において、この表面検査装置１９では、
所望によりフィルタディスク２３を回転させて光源２４
に対向するバンドパスフィルタ２２を選択することで、
光照射装置２０．２１の出射光の波長を変更できる。そ
こで、これらの波長の照射光で感光ドラム４に積層形成
された各層が選択的に蛍光を発するので、簡易に感光ド
ラム４の各層を検査することができる。
所望によりフィルタディスク２３を回転させて光源２４
に対向するバンドパスフィルタ２２を選択することで、
光照射装置２０．２１の出射光の波長を変更できる。そ
こで、これらの波長の照射光で感光ドラム４に積層形成
された各層が選択的に蛍光を発するので、簡易に感光ド
ラム４の各層を検査することができる。
なお、第４図に例示したようなフィルタディスク２３を
読取装置に取付けた表面検査装置（図示せず）も実施可
能であり、この場合、白色光等により感光ドラム４から
発せられる各層の蛍光を選択的に読取るなどして、感光
ドラム４の各層を選択的に検査することができる。
読取装置に取付けた表面検査装置（図示せず）も実施可
能であり、この場合、白色光等により感光ドラム４から
発せられる各層の蛍光を選択的に読取るなどして、感光
ドラム４の各層を選択的に検査することができる。
発明の効果
請求項１記載の発明は、積層形成された層の各々が光照
射に対して所定波長の光を発する被検物の相対移動する
表面に検査光を照射する光照射装置を設け、この光照射
装置に検査光を照射された被検物の表面の輝度分布を検
査光と異なる波長で読取る読取装置を設けたことにより
、光照射装置の光照射により被検物から発せられる表層
表面の反射光成分と下層の蛍光成分とのうち、この蛍光
成分のみを読取装置で選択的に読取ることができるので
、被検物の下層を検査して形成物質の分布状態や欠陥な
どを検出することができ、さらに、請求項２記載の発明
は、光照射装置が出射する検査光の波長を可変自在に設
定する波長変更手段を設けたことにより、各波長の照射
光により被検物の各層が選択的に蛍光を発するので、こ
れらの蛍光成分を選択的に読取ることで簡易に被検物の
各層を検査することができる等の効果を有するものであ
る。
射に対して所定波長の光を発する被検物の相対移動する
表面に検査光を照射する光照射装置を設け、この光照射
装置に検査光を照射された被検物の表面の輝度分布を検
査光と異なる波長で読取る読取装置を設けたことにより
、光照射装置の光照射により被検物から発せられる表層
表面の反射光成分と下層の蛍光成分とのうち、この蛍光
成分のみを読取装置で選択的に読取ることができるので
、被検物の下層を検査して形成物質の分布状態や欠陥な
どを検出することができ、さらに、請求項２記載の発明
は、光照射装置が出射する検査光の波長を可変自在に設
定する波長変更手段を設けたことにより、各波長の照射
光により被検物の各層が選択的に蛍光を発するので、こ
れらの蛍光成分を選択的に読取ることで簡易に被検物の
各層を検査することができる等の効果を有するものであ
る。
第１図は請求項１記載の発明の第一の実施例を示す正面
図、第２図は第二の実施例を示す正面図、第３図は請求
項２記載の発明の実施例を示す正面図、第４図は要部の
平面図である。 １．１３．１９・・表面検査装置、４・・・被検物、５
．１６・・・読取装置、６，７，１４，１５，２０゜２
１・・・光照射装置、１２・・演算処理回路、２３・・
・波長変更手段 出 願 人 株式会社 リコー 図 硅 図
図、第２図は第二の実施例を示す正面図、第３図は請求
項２記載の発明の実施例を示す正面図、第４図は要部の
平面図である。 １．１３．１９・・表面検査装置、４・・・被検物、５
．１６・・・読取装置、６，７，１４，１５，２０゜２
１・・・光照射装置、１２・・演算処理回路、２３・・
・波長変更手段 出 願 人 株式会社 リコー 図 硅 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、積層形成された層の各々が光照射に対して所定波長
の光を発する被検物の相対移動する表面に検査光を照射
する光照射装置と、この光照射装置に検査光を照射され
た前記被検物の表面の輝度分布を前記検査光と異なる波
長で読取る読取装置と、この読取装置が出力する読取信
号を画像処理して前記被検物の各層の欠陥を検出する演
算処理回路とよりなることを特徴とする表面検査装置。 ２、光照射装置が出射する検査光の波長を可変自在に設
定する波長変更手段を設けたことを特徴とする請求項１
記載の表面検査装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2582890A JPH03229109A (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | 表面検査装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2582890A JPH03229109A (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | 表面検査装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03229109A true JPH03229109A (ja) | 1991-10-11 |
Family
ID=12176719
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2582890A Pending JPH03229109A (ja) | 1990-02-05 | 1990-02-05 | 表面検査装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03229109A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100472129B1 (ko) * | 2001-06-21 | 2005-03-08 | 가부시키가이샤 리코 | 결함 검사 장치 및 결함 검사 방법 |
| WO2006078435A1 (en) * | 2005-01-21 | 2006-07-27 | Innovative Productivity, Inc. | Fluorescent coating void detection system and method |
| JP2007206320A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の検査方法及び検査装置並びに電子写真感光体の製造方法 |
| JP2008020219A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の検査方法及び検査装置 |
-
1990
- 1990-02-05 JP JP2582890A patent/JPH03229109A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100472129B1 (ko) * | 2001-06-21 | 2005-03-08 | 가부시키가이샤 리코 | 결함 검사 장치 및 결함 검사 방법 |
| WO2006078435A1 (en) * | 2005-01-21 | 2006-07-27 | Innovative Productivity, Inc. | Fluorescent coating void detection system and method |
| US7105834B2 (en) | 2005-01-21 | 2006-09-12 | Innovative Productivity, Inc. | Fluorescent coating void detection system and method |
| JP2007206320A (ja) * | 2006-02-01 | 2007-08-16 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の検査方法及び検査装置並びに電子写真感光体の製造方法 |
| JP2008020219A (ja) * | 2006-07-11 | 2008-01-31 | Ricoh Co Ltd | 電子写真感光体の検査方法及び検査装置 |
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