JPH0875659A - 表面検査装置および表面検査方法 - Google Patents
表面検査装置および表面検査方法Info
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- JPH0875659A JPH0875659A JP21311594A JP21311594A JPH0875659A JP H0875659 A JPH0875659 A JP H0875659A JP 21311594 A JP21311594 A JP 21311594A JP 21311594 A JP21311594 A JP 21311594A JP H0875659 A JPH0875659 A JP H0875659A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 反射特性が異なる表面欠陥を極めて簡易な構
成で、しかも的確にかつ効率よく極めて短時間に検出す
ることができる表面検査方法および表面検査装置を提供
する。 【構成】 感光体ドラム2の表面にその移動方向に複数
の検出エリア1を設定する。各検出エリア1を光源6で
照明すると、それぞれ違う散乱角を有する反射光がCC
Dカメラ7に入射する。CCDカメラ7は2次元のエリ
アセンサを有しており、1つのエリアセンサ上に設定さ
れた複数の受光領域で各検出エリア1からの散乱角の違
う反射光をそれぞれ受光する。各受光領域の信号に基づ
き欠陥判定部9で各検出エリア1ごとに設定されたパラ
メータに従って欠陥を検出する。コンピュータ12で
は、各検出エリア1ごとに検出した欠陥の同定、反射特
性の違う欠陥の種別判定、感光体ドラム2の合否判定な
どを行なう。
成で、しかも的確にかつ効率よく極めて短時間に検出す
ることができる表面検査方法および表面検査装置を提供
する。 【構成】 感光体ドラム2の表面にその移動方向に複数
の検出エリア1を設定する。各検出エリア1を光源6で
照明すると、それぞれ違う散乱角を有する反射光がCC
Dカメラ7に入射する。CCDカメラ7は2次元のエリ
アセンサを有しており、1つのエリアセンサ上に設定さ
れた複数の受光領域で各検出エリア1からの散乱角の違
う反射光をそれぞれ受光する。各受光領域の信号に基づ
き欠陥判定部9で各検出エリア1ごとに設定されたパラ
メータに従って欠陥を検出する。コンピュータ12で
は、各検出エリア1ごとに検出した欠陥の同定、反射特
性の違う欠陥の種別判定、感光体ドラム2の合否判定な
どを行なう。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、被検査体の表面状態の
検査を行なうための表面検査装置および表面検査方法に
関するものである。
検査を行なうための表面検査装置および表面検査方法に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、ワークの表面に存在するゴミ
や傷、表面むら等の表面欠陥などを検査する表面検査方
法及びその装置として、被検査体の表面に光を照射し、
その被検査体から得られる反射光の光学的変化を利用し
て、表面欠陥等の表面状態を光学的に検査するものが知
られている。
や傷、表面むら等の表面欠陥などを検査する表面検査方
法及びその装置として、被検査体の表面に光を照射し、
その被検査体から得られる反射光の光学的変化を利用し
て、表面欠陥等の表面状態を光学的に検査するものが知
られている。
【0003】ところで、上記のような表面欠陥はその大
きさや形態などがそれぞれ異なっているため、欠陥の種
類の相違により様々な反射強度、反射角度などの反射特
性を有している。したがって、反射光の光学的変化を利
用して表面状態を検査するにあたっては、反射特性の異
なる各種の表面欠陥をより正確にかつ効率よく検査でき
るようにすることが重要な課題になっている。
きさや形態などがそれぞれ異なっているため、欠陥の種
類の相違により様々な反射強度、反射角度などの反射特
性を有している。したがって、反射光の光学的変化を利
用して表面状態を検査するにあたっては、反射特性の異
なる各種の表面欠陥をより正確にかつ効率よく検査でき
るようにすることが重要な課題になっている。
【0004】そこで、このような課題を解決することを
主な目的とした表面検査方法やその装置として、以下に
示すような電子写真用の感光体ドラム等の表面状態を検
査するための方法や装置が提案されている。例えば、特
開平3−206949号公報に記載されている技術で
は、被検査体からの反射光を受光する受光手段を複数使
用し、しかもそれらの受光手段を異なる角度で反射する
反射光をそれぞれ取り込むことができるように被検査体
の周囲に適宜配置して、反射角度が異なる欠陥でも容易
に検出できるようにしている。また、特開平4−152
255号公報に記載されている技術では、分解能が異な
る複数の撮像手段を被検査体の周囲に適宜配置し、大き
さが異なる欠陥でも容易に検出できるようにした技術が
提案されている。
主な目的とした表面検査方法やその装置として、以下に
示すような電子写真用の感光体ドラム等の表面状態を検
査するための方法や装置が提案されている。例えば、特
開平3−206949号公報に記載されている技術で
は、被検査体からの反射光を受光する受光手段を複数使
用し、しかもそれらの受光手段を異なる角度で反射する
反射光をそれぞれ取り込むことができるように被検査体
の周囲に適宜配置して、反射角度が異なる欠陥でも容易
に検出できるようにしている。また、特開平4−152
255号公報に記載されている技術では、分解能が異な
る複数の撮像手段を被検査体の周囲に適宜配置し、大き
さが異なる欠陥でも容易に検出できるようにした技術が
提案されている。
【0005】しかしながら、これら従来の表面検査方法
やその装置は、撮像手段としてCCDラインセンサを用
いている。そのため、異なった散乱角の情報を得るため
には、複数台の撮像手段が必要である。また、用いてい
る複数台の撮像手段は、同一の場所を同時に撮像しよう
とするものであり、各撮像手段においては取り込む反射
光の散乱角は固定されていた。
やその装置は、撮像手段としてCCDラインセンサを用
いている。そのため、異なった散乱角の情報を得るため
には、複数台の撮像手段が必要である。また、用いてい
る複数台の撮像手段は、同一の場所を同時に撮像しよう
とするものであり、各撮像手段においては取り込む反射
光の散乱角は固定されていた。
【0006】このように、従来の表面検査方法および装
置では、複数台の撮像手段を用いるため、装置が大型化
してその検査装置を自動生産ライン内に設置することが
困難であった。また、初期設定時ならびに被検査体の種
類切替時における検査装置の検出条件の調節作業が煩雑
であった。
置では、複数台の撮像手段を用いるため、装置が大型化
してその検査装置を自動生産ライン内に設置することが
困難であった。また、初期設定時ならびに被検査体の種
類切替時における検査装置の検出条件の調節作業が煩雑
であった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に鑑みてなされたもので、反射特性が異なる表面欠陥
を極めて簡易な構成で、しかも的確にかつ効率よく極め
て短時間に検出することができる表面検査方法および表
面検査装置を提供することを目的とするものである。
情に鑑みてなされたもので、反射特性が異なる表面欠陥
を極めて簡易な構成で、しかも的確にかつ効率よく極め
て短時間に検出することができる表面検査方法および表
面検査装置を提供することを目的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明に
おいては、被検査体の表面の検査を行なう表面検査装置
において、光を前記被検査体に照射する光照射手段と、
前記被検査体からの反射光を受光して電気信号に変換す
る2次元光電変換手段と、該2次元光電変換手段からの
電気信号を処理し欠陥を検出する検査手段を有し、前記
2次元光電変換手段には、前記被検査体の移動方向に前
記反射光を受光する複数の領域が設定されていることを
特徴とするものである。
おいては、被検査体の表面の検査を行なう表面検査装置
において、光を前記被検査体に照射する光照射手段と、
前記被検査体からの反射光を受光して電気信号に変換す
る2次元光電変換手段と、該2次元光電変換手段からの
電気信号を処理し欠陥を検出する検査手段を有し、前記
2次元光電変換手段には、前記被検査体の移動方向に前
記反射光を受光する複数の領域が設定されていることを
特徴とするものである。
【0009】請求項2に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査装置において、光を前
記被検査体に照射する光照射手段と、前記被検査体から
の反射光を受光して電気信号に変換する2次元光電変換
手段と、該2次元光電変換手段からの電気信号を処理し
欠陥を検出する検査手段を有し、前記2次元光電変換手
段には、前記反射光を受光する複数の領域が重ねて設定
されていることを特徴とするものである。
体の表面の検査を行なう表面検査装置において、光を前
記被検査体に照射する光照射手段と、前記被検査体から
の反射光を受光して電気信号に変換する2次元光電変換
手段と、該2次元光電変換手段からの電気信号を処理し
欠陥を検出する検査手段を有し、前記2次元光電変換手
段には、前記反射光を受光する複数の領域が重ねて設定
されていることを特徴とするものである。
【0010】請求項3に記載の発明においては、請求項
1または2に記載の表面検査装置において、前記2次元
光電変換手段に設定されている前記複数の領域は、前記
被検査体からの反射光の検出感度を異ならせたことを特
徴とするものである。
1または2に記載の表面検査装置において、前記2次元
光電変換手段に設定されている前記複数の領域は、前記
被検査体からの反射光の検出感度を異ならせたことを特
徴とするものである。
【0011】請求項4に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面の前記被検査
体の移動方向に沿った複数の領域からの反射光を2次元
光電変換手段の複数の領域で受光して電気信号に変換
し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの領域からの電
気信号を処理して欠陥を検出することを特徴とするもの
である。
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面の前記被検査
体の移動方向に沿った複数の領域からの反射光を2次元
光電変換手段の複数の領域で受光して電気信号に変換
し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの領域からの電
気信号を処理して欠陥を検出することを特徴とするもの
である。
【0012】請求項5に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面の前記被検査
体の移動方向に沿った複数の領域からの反射光を2次元
光電変換手段の複数の領域で受光して電気信号に変換
し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの領域からの電
気信号を処理して欠陥情報を作成して一時保持してお
き、この動作を前記被検査体の移動に従って繰り返し行
ない、前記被検査体の移動に伴って前記被検査体のある
同一領域からの反射光を違うタイミングでかつ前記2次
元光電変換手段の違う領域で受光して得た欠陥情報を用
いて欠陥を同定することを特徴とするものである。
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面の前記被検査
体の移動方向に沿った複数の領域からの反射光を2次元
光電変換手段の複数の領域で受光して電気信号に変換
し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの領域からの電
気信号を処理して欠陥情報を作成して一時保持してお
き、この動作を前記被検査体の移動に従って繰り返し行
ない、前記被検査体の移動に伴って前記被検査体のある
同一領域からの反射光を違うタイミングでかつ前記2次
元光電変換手段の違う領域で受光して得た欠陥情報を用
いて欠陥を同定することを特徴とするものである。
【0013】請求項6に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面の前記被検査
体の移動方向に沿った複数の領域からの反射角度の違う
反射光を2次元光電変換手段の複数の領域で受光して電
気信号に変換し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの
領域からの電気信号を処理して欠陥を検出することを特
徴とするものである。
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面の前記被検査
体の移動方向に沿った複数の領域からの反射角度の違う
反射光を2次元光電変換手段の複数の領域で受光して電
気信号に変換し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの
領域からの電気信号を処理して欠陥を検出することを特
徴とするものである。
【0014】請求項7に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、前記被
検査体の表面の前記被検査体の移動方向に沿った複数の
領域に光質もしくは光量を変化させた光を照射し、前記
被検査体の複数の領域からの反射光を2次元光電変換手
段の複数の領域で受光して電気信号に変換し、前記2次
元光電変換手段のそれぞれの領域からの電気信号を処理
して欠陥を検出することを特徴とするものである。
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、前記被
検査体の表面の前記被検査体の移動方向に沿った複数の
領域に光質もしくは光量を変化させた光を照射し、前記
被検査体の複数の領域からの反射光を2次元光電変換手
段の複数の領域で受光して電気信号に変換し、前記2次
元光電変換手段のそれぞれの領域からの電気信号を処理
して欠陥を検出することを特徴とするものである。
【0015】請求項8に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面に複数重ねて
設定された領域からの反射光を2次元光電変換手段の複
数重ねて設定された領域で受光して電気信号に変換し、
前記2次元光電変換手段からの電気信号を処理してそれ
ぞれの領域の欠陥情報を作成し欠陥を検出することを特
徴とするものである。
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面に複数重ねて
設定された領域からの反射光を2次元光電変換手段の複
数重ねて設定された領域で受光して電気信号に変換し、
前記2次元光電変換手段からの電気信号を処理してそれ
ぞれの領域の欠陥情報を作成し欠陥を検出することを特
徴とするものである。
【0016】請求項9に記載の発明においては、被検査
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面に複数重ねて
設定された領域からの反射光を2次元光電変換手段の複
数重ねて設定された領域で受光して電気信号に変換し、
前記2次元光電変換手段からの電気信号をそれぞれの領
域ごとに検出感度を異ならせて処理して欠陥情報を作成
し欠陥を検出することを特徴とするものである。
体の表面の検査を行なう表面検査方法において、光を前
記被検査体に照射し、前記被検査体の表面に複数重ねて
設定された領域からの反射光を2次元光電変換手段の複
数重ねて設定された領域で受光して電気信号に変換し、
前記2次元光電変換手段からの電気信号をそれぞれの領
域ごとに検出感度を異ならせて処理して欠陥情報を作成
し欠陥を検出することを特徴とするものである。
【0017】
【作用】請求項1および4に記載の発明によれば、光電
変換手段として2次元のものを用い、受光面に複数の受
光領域を設定して、被検査体の表面の被検査体の移動方
向に沿った複数の領域からの反射光を各受光領域で受光
する。すなわち、1つの2次元光電変換手段によって、
被検査体の違った領域の画像を1度に取り込む。
変換手段として2次元のものを用い、受光面に複数の受
光領域を設定して、被検査体の表面の被検査体の移動方
向に沿った複数の領域からの反射光を各受光領域で受光
する。すなわち、1つの2次元光電変換手段によって、
被検査体の違った領域の画像を1度に取り込む。
【0018】例えば、円筒状の被検査体に平行光を照射
した場合、2次元光電変換手段に取り込まれる反射光の
散乱角は、2次元光電変換手段の受光面における被検査
体の移動方向の位置で異なる。しかも、被検査体の曲率
が小さくなるほど、受光面の位置の違いによる散乱角の
違いを大きくすることができる。そのため、特に請求項
6に記載の発明のように、散乱角の違う反射光を同時に
受光することが可能となる。このとき、1つの2次元光
電変換手段を設ければよく、コンパクトな表面欠陥装置
を得ることができる。
した場合、2次元光電変換手段に取り込まれる反射光の
散乱角は、2次元光電変換手段の受光面における被検査
体の移動方向の位置で異なる。しかも、被検査体の曲率
が小さくなるほど、受光面の位置の違いによる散乱角の
違いを大きくすることができる。そのため、特に請求項
6に記載の発明のように、散乱角の違う反射光を同時に
受光することが可能となる。このとき、1つの2次元光
電変換手段を設ければよく、コンパクトな表面欠陥装置
を得ることができる。
【0019】さらに、2次元光電変換手段のある画素で
取り込まれた欠陥は、被検査体の移動によって、次の測
定タイミングには、必ず一定画素離れた位置に移動す
る。そのため、請求項5に記載の発明のように、各測定
タイミングで測定した欠陥情報を一時保持しておき、複
数の測定タイミングで得られた欠陥情報のうち、違う測
定タイミングで得られた被検査体のある同一領域からの
反射光に基づく欠陥情報を用いて欠陥を同定する。この
とき、被検査体の移動後の2次元光電変換手段に対する
反射光の散乱角は違っており、被検査体の同一領域から
の複数の散乱角の反射光を用いた反射特性の異なる表面
欠陥の同定を行なうことができる。
取り込まれた欠陥は、被検査体の移動によって、次の測
定タイミングには、必ず一定画素離れた位置に移動す
る。そのため、請求項5に記載の発明のように、各測定
タイミングで測定した欠陥情報を一時保持しておき、複
数の測定タイミングで得られた欠陥情報のうち、違う測
定タイミングで得られた被検査体のある同一領域からの
反射光に基づく欠陥情報を用いて欠陥を同定する。この
とき、被検査体の移動後の2次元光電変換手段に対する
反射光の散乱角は違っており、被検査体の同一領域から
の複数の散乱角の反射光を用いた反射特性の異なる表面
欠陥の同定を行なうことができる。
【0020】光源として光質もしくは光量の違う複数の
光源を用いることができ、請求項6に記載の発明のよう
に、被検査体の表面の複数の領域に光質もしくは光量を
変化させた光を照射し、反射光を受光して欠陥を検出す
ることができる。これにより、検出すべき欠陥の特性に
合わせた照明を行なうことができ、しかも1つの2次元
光電変換手段によって複数の違う照明による反射光を受
光することができる。
光源を用いることができ、請求項6に記載の発明のよう
に、被検査体の表面の複数の領域に光質もしくは光量を
変化させた光を照射し、反射光を受光して欠陥を検出す
ることができる。これにより、検出すべき欠陥の特性に
合わせた照明を行なうことができ、しかも1つの2次元
光電変換手段によって複数の違う照明による反射光を受
光することができる。
【0021】また、請求項2および8に記載の発明のよ
うに、被検査体の表面に設定する複数の領域を重ねて設
定することが可能である。このように設定することによ
って、同じ散乱角を有する反射光から違う欠陥情報を得
て、欠陥の特性に合った判別を行なうことができる。特
に、請求項3および9に記載の発明のように、重ねて設
定された各領域の検出感度を異ならせることによって、
例えば、コントラストの大きい欠陥だけでなく、コント
ラストの低い欠陥も同時に検出することが可能となる。
うに、被検査体の表面に設定する複数の領域を重ねて設
定することが可能である。このように設定することによ
って、同じ散乱角を有する反射光から違う欠陥情報を得
て、欠陥の特性に合った判別を行なうことができる。特
に、請求項3および9に記載の発明のように、重ねて設
定された各領域の検出感度を異ならせることによって、
例えば、コントラストの大きい欠陥だけでなく、コント
ラストの低い欠陥も同時に検出することが可能となる。
【0022】
【実施例】図1は、本発明の表面検査装置の一実施例を
示す概略構成図である。図中、1は検出エリア、2は感
光体ドラム、3は回転軸、4は感光体ドラム回転用モー
タ、5はパルス信号発生器、6は光源、7はCCDカメ
ラ、8はカメラ移動用モータ、9は欠陥判定部、10は
制御部、11はモニタ、12はコンピュータである。こ
の実施例では、被検査体として感光体ドラム2の場合に
ついて示している。
示す概略構成図である。図中、1は検出エリア、2は感
光体ドラム、3は回転軸、4は感光体ドラム回転用モー
タ、5はパルス信号発生器、6は光源、7はCCDカメ
ラ、8はカメラ移動用モータ、9は欠陥判定部、10は
制御部、11はモニタ、12はコンピュータである。こ
の実施例では、被検査体として感光体ドラム2の場合に
ついて示している。
【0023】光源6は、感光体ドラム2に対してCCD
カメラ7の視野全体を照明するように、所定の位置に固
定配置されている。光源6としては、例えば、キセノン
ランプ等を用いることができる。CCDカメラ7は、2
次元のエリアセンサを有しており、光源6により照明さ
れた感光体ドラム2の表面の複数の検出エリア1からの
反射光を受光する。CCDカメラ7は、例えば、電子管
式のテレビカメラなど、種々の2次元の画像入力装置に
より代替可能である。
カメラ7の視野全体を照明するように、所定の位置に固
定配置されている。光源6としては、例えば、キセノン
ランプ等を用いることができる。CCDカメラ7は、2
次元のエリアセンサを有しており、光源6により照明さ
れた感光体ドラム2の表面の複数の検出エリア1からの
反射光を受光する。CCDカメラ7は、例えば、電子管
式のテレビカメラなど、種々の2次元の画像入力装置に
より代替可能である。
【0024】感光体ドラム2とCCDカメラ7は相対的
に移動し、CCDカメラ7により感光体ドラム2の表面
全体の画像を読み取る。この実施例では、感光体ドラム
2を感光体ドラム回転用モータ4により回転軸3を中心
として矢印方向に回転させる。また、カメラ移動用モー
タ8により、CCDカメラ7を感光体ドラム2の回転軸
3の方向に移動させる。このとき、CCDカメラ7と光
源6との相対関係を維持するように、光源6もCCDカ
メラ7とともに移動させるように構成してもよい。
に移動し、CCDカメラ7により感光体ドラム2の表面
全体の画像を読み取る。この実施例では、感光体ドラム
2を感光体ドラム回転用モータ4により回転軸3を中心
として矢印方向に回転させる。また、カメラ移動用モー
タ8により、CCDカメラ7を感光体ドラム2の回転軸
3の方向に移動させる。このとき、CCDカメラ7と光
源6との相対関係を維持するように、光源6もCCDカ
メラ7とともに移動させるように構成してもよい。
【0025】CCDカメラ6と感光体ドラム2との相対
移動は、図1に示した方式の他、感光体ドラム2の回転
軸方向にも、感光体ドラム2を移動させたり、CCDカ
メラ6を感光体ドラム2の周囲を回転させるなど、種々
の方式を用いて感光体ドラム2の表面の画像を読み取る
ことが可能である。
移動は、図1に示した方式の他、感光体ドラム2の回転
軸方向にも、感光体ドラム2を移動させたり、CCDカ
メラ6を感光体ドラム2の周囲を回転させるなど、種々
の方式を用いて感光体ドラム2の表面の画像を読み取る
ことが可能である。
【0026】パルス信号発生器5は、検出タイミングを
作り出す。この検出タイミングに基づき、画像の取り込
み及び感光体ドラム2の回転駆動を行なう。例えば、パ
ルス信号発生器5からのパルス信号により、光源6をフ
ラッシュ発光させた後に、CCDカメラ6から反射光の
情報を取り出す。また、CCDカメラ6が電子シャッタ
ーを備えている場合には、パルス信号発生器5からのパ
ルス信号によって電子シャッターを開閉する。この時、
光源6としては、連続的に発光するハロゲンランプ、タ
ングステンランプ、蛍光灯等も使用可能である。
作り出す。この検出タイミングに基づき、画像の取り込
み及び感光体ドラム2の回転駆動を行なう。例えば、パ
ルス信号発生器5からのパルス信号により、光源6をフ
ラッシュ発光させた後に、CCDカメラ6から反射光の
情報を取り出す。また、CCDカメラ6が電子シャッタ
ーを備えている場合には、パルス信号発生器5からのパ
ルス信号によって電子シャッターを開閉する。この時、
光源6としては、連続的に発光するハロゲンランプ、タ
ングステンランプ、蛍光灯等も使用可能である。
【0027】欠陥判定部9は、CCDカメラ7で受光し
て変換した電気信号に対し、補正処理やディジタル化処
理等の信号処理、欠陥の有無の判定処理、欠陥の特徴抽
出処理等を行なう。欠陥判定部9は制御部10を備えて
おり、この制御部10において各検出エリア1の位置設
定を行なっている。また、制御部10では、各検出エリ
アごとに独立して、欠陥を判定するための例えば検出感
度、面積閾値、欠陥寸法等のパラメータを設定すること
ができ、これらのパラメータが保持されている。モニタ
11は、欠陥判定部9からの出力信号をモニタするため
のディスプレイである。
て変換した電気信号に対し、補正処理やディジタル化処
理等の信号処理、欠陥の有無の判定処理、欠陥の特徴抽
出処理等を行なう。欠陥判定部9は制御部10を備えて
おり、この制御部10において各検出エリア1の位置設
定を行なっている。また、制御部10では、各検出エリ
アごとに独立して、欠陥を判定するための例えば検出感
度、面積閾値、欠陥寸法等のパラメータを設定すること
ができ、これらのパラメータが保持されている。モニタ
11は、欠陥判定部9からの出力信号をモニタするため
のディスプレイである。
【0028】コンピュータ12は、欠陥の同定および総
合的な合否判定を行なう。欠陥判定部9から出力される
各領域からの時間的にずれた欠陥検出信号の同期をと
り、欠陥の同定及び各検出エリアでの欠陥の検出有無な
どから、欠陥種類の層別を行ない、感光体ドラム2の合
否判定を行なう。この合否判定は、感光体ドラム2の全
面を検査した結果に基づいて行なわれる。
合的な合否判定を行なう。欠陥判定部9から出力される
各領域からの時間的にずれた欠陥検出信号の同期をと
り、欠陥の同定及び各検出エリアでの欠陥の検出有無な
どから、欠陥種類の層別を行ない、感光体ドラム2の合
否判定を行なう。この合否判定は、感光体ドラム2の全
面を検査した結果に基づいて行なわれる。
【0029】以下、本発明の一実施例における動作の一
例について説明する。図2は、本発明の一実施例におけ
るCCDカメラ7に入射する光の説明図、図3は、検出
エリアと受光領域の説明図である。図中、図1と同様の
部分には同じ符号を付してある。13はCCD素子、1
4は光学系、21は照射光、22は正反射光、23は反
射光、24,25は検出エリア、26,27は受光領域
である。光源6からの照射光21は、感光体ドラム2の
表面で反射する。反射光23は、CCDカメラ7の光学
系14を介して2次元のCCD素子13に受光される。
ここでは2次元のCCD受光素子を例に説明するが、2
次元の受光手段であれば同様に用いることができる。
例について説明する。図2は、本発明の一実施例におけ
るCCDカメラ7に入射する光の説明図、図3は、検出
エリアと受光領域の説明図である。図中、図1と同様の
部分には同じ符号を付してある。13はCCD素子、1
4は光学系、21は照射光、22は正反射光、23は反
射光、24,25は検出エリア、26,27は受光領域
である。光源6からの照射光21は、感光体ドラム2の
表面で反射する。反射光23は、CCDカメラ7の光学
系14を介して2次元のCCD素子13に受光される。
ここでは2次元のCCD受光素子を例に説明するが、2
次元の受光手段であれば同様に用いることができる。
【0030】光源6から感光体ドラム2の表面の検出エ
リア24に照射された照射光21は、検出エリア24で
反射してCCD素子13の受光領域26に到達する。こ
のとき、反射光23と正反射光22との角度、すなわち
散乱角は小さい。一方、感光体ドラムの表面の検出エリ
ア25で反射した反射光23は、CCD素子13の受光
領域27に到達する。このときの散乱角は大きい。すな
わち、CCD素子13には、感光体ドラムの表面からの
散乱角の違う反射光を同時に受光することになる。
リア24に照射された照射光21は、検出エリア24で
反射してCCD素子13の受光領域26に到達する。こ
のとき、反射光23と正反射光22との角度、すなわち
散乱角は小さい。一方、感光体ドラムの表面の検出エリ
ア25で反射した反射光23は、CCD素子13の受光
領域27に到達する。このときの散乱角は大きい。すな
わち、CCD素子13には、感光体ドラムの表面からの
散乱角の違う反射光を同時に受光することになる。
【0031】このような複数の受光領域26,27を感
光体ドラム2の回転方向に設定する。そして、散乱角の
小さい検出エリア25からの反射光を受光領域26で受
光し、感光体ドラム2の表面に付着する異物、傷等の微
細な凹凸などのような、散乱角の小さいときにコントラ
ストの大きくなる欠陥を選択的に検出する。また、散乱
角の大きい検出エリア26からの反射光を受光領域27
で受光し、感光体ドラム2の感光材料の塗布むら、シミ
スジ、ダレ等のように散乱角の大きいところでコントラ
ストの大きくなる欠陥を検出する。すなわち、各受光領
域に到達する反射光の散乱角の大きさに応じて、その散
乱角で検出するのが適当な欠陥をあらかじめ決めてお
き、各受光領域で検出すべき欠陥の光学的な特性に基づ
き、感度、面積閾値等のパラメータを最適な条件に設定
することができる。これにより、感光体ドラム2上の欠
陥は、各受光領域で選択的に検出される。あるいは、欠
陥の特性によっては、複数の受光領域からの欠陥情報を
合わせて用いることも可能である。感光体ドラム2の回
転方向が逆であっても同様である。
光体ドラム2の回転方向に設定する。そして、散乱角の
小さい検出エリア25からの反射光を受光領域26で受
光し、感光体ドラム2の表面に付着する異物、傷等の微
細な凹凸などのような、散乱角の小さいときにコントラ
ストの大きくなる欠陥を選択的に検出する。また、散乱
角の大きい検出エリア26からの反射光を受光領域27
で受光し、感光体ドラム2の感光材料の塗布むら、シミ
スジ、ダレ等のように散乱角の大きいところでコントラ
ストの大きくなる欠陥を検出する。すなわち、各受光領
域に到達する反射光の散乱角の大きさに応じて、その散
乱角で検出するのが適当な欠陥をあらかじめ決めてお
き、各受光領域で検出すべき欠陥の光学的な特性に基づ
き、感度、面積閾値等のパラメータを最適な条件に設定
することができる。これにより、感光体ドラム2上の欠
陥は、各受光領域で選択的に検出される。あるいは、欠
陥の特性によっては、複数の受光領域からの欠陥情報を
合わせて用いることも可能である。感光体ドラム2の回
転方向が逆であっても同様である。
【0032】このように、この実施例では、散乱角の異
なった反射光の信号を一度に取り込めるという2次元の
受光手段(エリアセンサ)の特性を生かし、エリアセン
サの受光領域の任意の位置に検出領域を複数配置し、欠
陥の抽出に使用している。
なった反射光の信号を一度に取り込めるという2次元の
受光手段(エリアセンサ)の特性を生かし、エリアセン
サの受光領域の任意の位置に検出領域を複数配置し、欠
陥の抽出に使用している。
【0033】なお、上述の散乱角の小さな検出エリアで
コントラストの大きくなる表面欠陥を検出する際には、
コントラストに対する感度を下げ、散乱角の大きな検出
エリアでコントラストの大きくなる表面欠陥とを検出す
る際には、コントラストに対する感度を上げて検査を行
なうことができる。ここで、散乱角の小さな検出エリア
では、コントラストに対する感度を下げる代わりに、面
積閾値を小さくし、散乱角の大きな検出エリアでは、コ
ントラストに対する感度を上げる代わりに、面積閾値を
大きく設定してもよい。
コントラストの大きくなる表面欠陥を検出する際には、
コントラストに対する感度を下げ、散乱角の大きな検出
エリアでコントラストの大きくなる表面欠陥とを検出す
る際には、コントラストに対する感度を上げて検査を行
なうことができる。ここで、散乱角の小さな検出エリア
では、コントラストに対する感度を下げる代わりに、面
積閾値を小さくし、散乱角の大きな検出エリアでは、コ
ントラストに対する感度を上げる代わりに、面積閾値を
大きく設定してもよい。
【0034】感光体ドラム2上の欠陥は、例えば、図
2、図3では、矢線で示すように、検出エリア25に最
初に到達し、続いて検出エリア24に到達する。そのた
め、まず検出エリア25に対応した欠陥の検出が行なわ
れ、違うタイミングにおいて、今度は検出エリア24に
対応した欠陥の検出が行なわれる。感光体ドラム2上の
同じ欠陥を、違うタイミングおよび違う検出エリアにお
いて検出することになる。
2、図3では、矢線で示すように、検出エリア25に最
初に到達し、続いて検出エリア24に到達する。そのた
め、まず検出エリア25に対応した欠陥の検出が行なわ
れ、違うタイミングにおいて、今度は検出エリア24に
対応した欠陥の検出が行なわれる。感光体ドラム2上の
同じ欠陥を、違うタイミングおよび違う検出エリアにお
いて検出することになる。
【0035】図4は、本発明の一実施例における検出エ
リアの変化の説明図である。図中、31ないし35は表
面領域である。図4では、2つの検出エリア24,25
を1検査タイミング分、離して配置した。図4(B)の
タイミングチャートに示すように、図4(A)に示した
時点では、感光体ドラム2の表面領域31および33が
検出エリア24,25になっているが、次の検査のタイ
ミングでは、感光体ドラム2が図中の矢印の方向に移動
するため、表面領域32,34が検出エリア24,25
になる。さらに次の検査のタイミングでは、表面領域3
3,35が検出エリア24,25になる。この結果、検
出エリア25に到達した欠陥は、2検査タイミング後に
検出エリア24に到達することになる。
リアの変化の説明図である。図中、31ないし35は表
面領域である。図4では、2つの検出エリア24,25
を1検査タイミング分、離して配置した。図4(B)の
タイミングチャートに示すように、図4(A)に示した
時点では、感光体ドラム2の表面領域31および33が
検出エリア24,25になっているが、次の検査のタイ
ミングでは、感光体ドラム2が図中の矢印の方向に移動
するため、表面領域32,34が検出エリア24,25
になる。さらに次の検査のタイミングでは、表面領域3
3,35が検出エリア24,25になる。この結果、検
出エリア25に到達した欠陥は、2検査タイミング後に
検出エリア24に到達することになる。
【0036】このとき、検出エリアの間隔は、検査のタ
イミングパルスが入力されてから次の検査のタイミング
パルスが入力されるまでの時間で被検査体が移動する距
離のN倍(Nは整数)にすることが好ましい。このよう
に設定することによって、同じ表面領域における違う欠
陥の検査をN+1タイミング後に行なうことができる。
もちろん、検出エリアの間隔を任意に設定することも可
能であり、例えば、検出エリアの間隔を検査のタイミン
グの時間間隔で被検査体が移動する距離の1/2とする
ことによって、表面領域の境界にかかった欠陥を検出可
能とすることもできる。
イミングパルスが入力されてから次の検査のタイミング
パルスが入力されるまでの時間で被検査体が移動する距
離のN倍(Nは整数)にすることが好ましい。このよう
に設定することによって、同じ表面領域における違う欠
陥の検査をN+1タイミング後に行なうことができる。
もちろん、検出エリアの間隔を任意に設定することも可
能であり、例えば、検出エリアの間隔を検査のタイミン
グの時間間隔で被検査体が移動する距離の1/2とする
ことによって、表面領域の境界にかかった欠陥を検出可
能とすることもできる。
【0037】検出エリアの大きさは、検出対象となる表
面状態の種類により、適宜設定される。具体例として
は、検出エリア24,25について、感光体ドラム2の
軸方向の幅を10mm、感光体ドラムの周軸方向の幅を
2mmとすることができる。欠陥判定部9は、1回の検
査タイミングで、この2つの検出エリア24,25の全
面を検査する。
面状態の種類により、適宜設定される。具体例として
は、検出エリア24,25について、感光体ドラム2の
軸方向の幅を10mm、感光体ドラムの周軸方向の幅を
2mmとすることができる。欠陥判定部9は、1回の検
査タイミングで、この2つの検出エリア24,25の全
面を検査する。
【0038】この検出エリア24,25の大きさおよび
検出エリア24と検出エリア25の間隔は、制御部10
に設定するCCD素子13の受光領域の大きさおよび位
置に関するデータを変更することによって、任意の大き
さおよび位置に設定することが可能である。検出すべき
欠陥の種類に従って設定すればよい。また、各検出エリ
アごとに大きさを変更することももちろん可能である。
特に、各検査エリア間の間隔を、上述のように検査エリ
アの幅の整数倍とすることによって、欠陥の同定の処理
を簡略化している。
検出エリア24と検出エリア25の間隔は、制御部10
に設定するCCD素子13の受光領域の大きさおよび位
置に関するデータを変更することによって、任意の大き
さおよび位置に設定することが可能である。検出すべき
欠陥の種類に従って設定すればよい。また、各検出エリ
アごとに大きさを変更することももちろん可能である。
特に、各検査エリア間の間隔を、上述のように検査エリ
アの幅の整数倍とすることによって、欠陥の同定の処理
を簡略化している。
【0039】上述のようにして、感光体ドラム2上の検
出エリアからの反射光は、CCDカメラ7で受光され、
欠陥判定部9において各検出エリアごとに欠陥の有無の
判定や、欠陥が存在する場合にはその欠陥の特徴の抽出
処理等が行なわれる。欠陥判定部9で得られた欠陥信号
は、コンピュータ12に送られる。コンピュータ12で
は、欠陥判定部9からの欠陥信号に基づいて、欠陥の同
定が行なわれ、その後欠陥の判定が行なわれる。
出エリアからの反射光は、CCDカメラ7で受光され、
欠陥判定部9において各検出エリアごとに欠陥の有無の
判定や、欠陥が存在する場合にはその欠陥の特徴の抽出
処理等が行なわれる。欠陥判定部9で得られた欠陥信号
は、コンピュータ12に送られる。コンピュータ12で
は、欠陥判定部9からの欠陥信号に基づいて、欠陥の同
定が行なわれ、その後欠陥の判定が行なわれる。
【0040】コンピュータ12では、欠陥判定部9から
送られてくる欠陥信号をすべて、例えば、配列に格納し
ている。図5は、欠陥信号の格納状態の一例の説明図で
ある。欠陥が同一のものか、別のものかを判断する際に
は、例えば、図4に示したように検出エリアの間隔を検
査のタイミングパルスが入力されてから次の検査のタイ
ミングパルスが入力されるまでの時間で被検査体が移動
する距離のN倍(Nは整数)にした場合、欠陥信号が格
納されている配列をN+1だけずらすことによって判断
することが可能である。例えば、図4に示した検査タイ
ミングで得られた欠陥信号は、図5に示すように配列に
格納される。図5に示した例では、あるタイミングの検
出エリア25の欠陥信号と、2検査タイミング後の検出
エリア24の欠陥信号とを比較することによって、欠陥
が同一のものか否かを判断することができ、高速に欠陥
の同定を行なうことができる。配列をずらす代わりに、
配列を参照するためのポインタをずらして、対応する欠
陥信号を参照するように構成することも可能である。ま
た、データ構造は配列に限らず、リスト構造など、種々
のデータ構造を用いることが可能である。
送られてくる欠陥信号をすべて、例えば、配列に格納し
ている。図5は、欠陥信号の格納状態の一例の説明図で
ある。欠陥が同一のものか、別のものかを判断する際に
は、例えば、図4に示したように検出エリアの間隔を検
査のタイミングパルスが入力されてから次の検査のタイ
ミングパルスが入力されるまでの時間で被検査体が移動
する距離のN倍(Nは整数)にした場合、欠陥信号が格
納されている配列をN+1だけずらすことによって判断
することが可能である。例えば、図4に示した検査タイ
ミングで得られた欠陥信号は、図5に示すように配列に
格納される。図5に示した例では、あるタイミングの検
出エリア25の欠陥信号と、2検査タイミング後の検出
エリア24の欠陥信号とを比較することによって、欠陥
が同一のものか否かを判断することができ、高速に欠陥
の同定を行なうことができる。配列をずらす代わりに、
配列を参照するためのポインタをずらして、対応する欠
陥信号を参照するように構成することも可能である。ま
た、データ構造は配列に限らず、リスト構造など、種々
のデータ構造を用いることが可能である。
【0041】上述のように、各検出エリアに対応して、
検出する欠陥の種別をある程度決めているので、合否判
定に必要な大きさ、グレードの欠陥はただ1つの検出領
域で選択的に検出される。すなわち、異物、傷等の散乱
角の小さなところでコントラストの大きくなる欠陥は、
検出エリア24では欠陥信号として検出されるが、検出
エリア25ではコントラストが小さくなることおよび欠
陥の大きさが小さいため欠陥として判定されない。ま
た、塗布むら、シミスジ、ダレ等の欠陥は、検出エリア
25では欠陥信号として検出されるが、検出エリア24
では欠陥信号がでない。このことは、異物、傷等の微小
な欠陥と塗布むら、シミスジ、ダレ等の低コントラスト
欠陥を分離できることを意味する。欠陥の程度が悪くな
るにつれて、欠陥信号は両方の検出エリアで検出される
ようになるが、閾値に対する信号の大きさの割合や、他
の特性値の大きさで、ある程度の層別ができる。また、
両方の検出エリアで検出された場合にも、故障の種類に
よらず不合格であることから、検出としては問題にはな
らない。
検出する欠陥の種別をある程度決めているので、合否判
定に必要な大きさ、グレードの欠陥はただ1つの検出領
域で選択的に検出される。すなわち、異物、傷等の散乱
角の小さなところでコントラストの大きくなる欠陥は、
検出エリア24では欠陥信号として検出されるが、検出
エリア25ではコントラストが小さくなることおよび欠
陥の大きさが小さいため欠陥として判定されない。ま
た、塗布むら、シミスジ、ダレ等の欠陥は、検出エリア
25では欠陥信号として検出されるが、検出エリア24
では欠陥信号がでない。このことは、異物、傷等の微小
な欠陥と塗布むら、シミスジ、ダレ等の低コントラスト
欠陥を分離できることを意味する。欠陥の程度が悪くな
るにつれて、欠陥信号は両方の検出エリアで検出される
ようになるが、閾値に対する信号の大きさの割合や、他
の特性値の大きさで、ある程度の層別ができる。また、
両方の検出エリアで検出された場合にも、故障の種類に
よらず不合格であることから、検出としては問題にはな
らない。
【0042】特に、このような検査手段を感光体ドラム
などの製造過程の品質管理に適用した場合においては、
上述のような散乱角の異なる表面欠陥についての有無と
その程度を検査できるので、製品の品質管理を効率よく
的確に行なうことができる。なお、片方の検出エリアの
欠陥信号のみで欠陥の種別が特定できないときに、両方
の検出エリアの欠陥信号を用いて欠陥の種別などを特定
してもよい。感光体ドラムの合格または不合格を決定す
るだけでなく、欠陥の種別をも特定することによって、
欠陥が発生した製造過程をある程度特定することがで
き、製造過程にフィードバックして品質を向上させるこ
とが可能である。
などの製造過程の品質管理に適用した場合においては、
上述のような散乱角の異なる表面欠陥についての有無と
その程度を検査できるので、製品の品質管理を効率よく
的確に行なうことができる。なお、片方の検出エリアの
欠陥信号のみで欠陥の種別が特定できないときに、両方
の検出エリアの欠陥信号を用いて欠陥の種別などを特定
してもよい。感光体ドラムの合格または不合格を決定す
るだけでなく、欠陥の種別をも特定することによって、
欠陥が発生した製造過程をある程度特定することがで
き、製造過程にフィードバックして品質を向上させるこ
とが可能である。
【0043】上述のように、この実施例の表面検査装置
では、光源6とCCDカメラ7がいずれも1台ずつ使用
されているだけであり、従来のようにセンサを複数用い
たり、特殊な被測定機器などを使用することなく構成さ
れており、その構成が極めて簡易なものである。上述の
実施例では、このような簡単な構成であるにもかかわら
ず、反射特性の異なった表面欠陥を同時に検出すること
を可能としている。
では、光源6とCCDカメラ7がいずれも1台ずつ使用
されているだけであり、従来のようにセンサを複数用い
たり、特殊な被測定機器などを使用することなく構成さ
れており、その構成が極めて簡易なものである。上述の
実施例では、このような簡単な構成であるにもかかわら
ず、反射特性の異なった表面欠陥を同時に検出すること
を可能としている。
【0044】また、上述の実施例で示した表面検査装置
を用いると、感光体ドラム等の被検査体の製造ラインや
検査ライン内に煩雑な設置作業を要せず簡単に表面検査
装置を設置することができ、しかも導入後の管理が簡単
になる。以下、このことを蛍光灯とCCDラインセンサ
を用いた検査装置との比較を例にして述べる。
を用いると、感光体ドラム等の被検査体の製造ラインや
検査ライン内に煩雑な設置作業を要せず簡単に表面検査
装置を設置することができ、しかも導入後の管理が簡単
になる。以下、このことを蛍光灯とCCDラインセンサ
を用いた検査装置との比較を例にして述べる。
【0045】欠陥によっては、CCDラインセンサの光
軸を感光体ドラムの表面上で蛍光灯の光の帯があたる場
所とあたらない場所の境界部に合わせると、信号が強く
出力される種類のものがある。検査装置の調整を行なう
際に、このような欠陥を検出すべく、CCDラインセン
サの光軸設定を行なうとする。このときの光軸の許容幅
はドラム面上で150μm(φ84ドラム:光学倍率7
倍のとき)であった。このため、CCDラインセンサの
光軸はマイクロステージを用いて設定したが、再現性を
得るまでに多大の時間を要した。これに対して上述の実
施例では、エリアセンサを用いているので、ズレが生じ
ていても制御部10によってエリアセンサの受光領域を
設定し直すだけでよく、3mm程度のセッティング誤差
が許容された。
軸を感光体ドラムの表面上で蛍光灯の光の帯があたる場
所とあたらない場所の境界部に合わせると、信号が強く
出力される種類のものがある。検査装置の調整を行なう
際に、このような欠陥を検出すべく、CCDラインセン
サの光軸設定を行なうとする。このときの光軸の許容幅
はドラム面上で150μm(φ84ドラム:光学倍率7
倍のとき)であった。このため、CCDラインセンサの
光軸はマイクロステージを用いて設定したが、再現性を
得るまでに多大の時間を要した。これに対して上述の実
施例では、エリアセンサを用いているので、ズレが生じ
ていても制御部10によってエリアセンサの受光領域を
設定し直すだけでよく、3mm程度のセッティング誤差
が許容された。
【0046】また、製造工程に表面検査装置を設置した
後、設置した表面検査装置が正常に稼働しているか否か
を確認する必要があるが、従来のように光源やカメラを
多数用いた装置の場合、それぞれの装置に対して光軸が
ずれていないかをチェックする必要がある。これに対し
て上述の実施例では、1台のCCDカメラしか用いてい
ないので、CCDカメラと光源の位置関係をチェックす
るだけでよい。また、1台のCCDカメラで複数の検出
エリアの画像を取得するので、1回の測定で全ての検出
領域の検出状況を確認でき、光軸の確認は非常に簡単と
なり、かつ万一ズレが発生しても、全ての検出エリアの
検出状況が一度に変わるため、その発見が容易となる。
後、設置した表面検査装置が正常に稼働しているか否か
を確認する必要があるが、従来のように光源やカメラを
多数用いた装置の場合、それぞれの装置に対して光軸が
ずれていないかをチェックする必要がある。これに対し
て上述の実施例では、1台のCCDカメラしか用いてい
ないので、CCDカメラと光源の位置関係をチェックす
るだけでよい。また、1台のCCDカメラで複数の検出
エリアの画像を取得するので、1回の測定で全ての検出
領域の検出状況を確認でき、光軸の確認は非常に簡単と
なり、かつ万一ズレが発生しても、全ての検出エリアの
検出状況が一度に変わるため、その発見が容易となる。
【0047】さらに、例えば、感光体ドラムの径が変更
されるなど、被検査体が変更される場合であっても、検
出エリアの大きさおよび複数の検出エリアの間隔、すな
わち、制御部10に設定するCCD素子13の受光領域
の大きさおよび間隔を変更すればよく、簡単に被検査体
の変更に対応することができる。
されるなど、被検査体が変更される場合であっても、検
出エリアの大きさおよび複数の検出エリアの間隔、すな
わち、制御部10に設定するCCD素子13の受光領域
の大きさおよび間隔を変更すればよく、簡単に被検査体
の変更に対応することができる。
【0048】以下、いくつかの変形例を示す。各図で
は、図1と同様の部分には同じ符号を付してある。図6
は、本発明の一実施例において、光源に光学フィルタを
設けた変形例を示す概略構成図である。図中、15は光
学フィルタである。この変形例では、光源6の検出エリ
ア24あるいは25の一方を照射する部分に、光学フィ
ルタを取り付けている。光学フィルタとしては、例え
ば、Y52やR60等を用いることができる。このよう
に光学フィルタを用いることで、各検出エリアにおける
照明光21の波長を制御することができ、色むら等の欠
陥の信号を増幅することができる。
は、図1と同様の部分には同じ符号を付してある。図6
は、本発明の一実施例において、光源に光学フィルタを
設けた変形例を示す概略構成図である。図中、15は光
学フィルタである。この変形例では、光源6の検出エリ
ア24あるいは25の一方を照射する部分に、光学フィ
ルタを取り付けている。光学フィルタとしては、例え
ば、Y52やR60等を用いることができる。このよう
に光学フィルタを用いることで、各検出エリアにおける
照明光21の波長を制御することができ、色むら等の欠
陥の信号を増幅することができる。
【0049】図7は、本発明の一実施例において、光源
にスリットを設けた変形例を示す概略構成図である。図
中、16はスリットである。この変形例では、光源6の
検出エリア24あるいは25の一方を照射する部分に、
スリット16を設けている。スリット16を介して照射
される光は、感光体ドラム2の表面に凹凸の欠陥が存在
するところでは、その欠陥のへりで入射光が乱反射す
る。この乱反射信号のコントラストを光学的に増幅する
ために、正常面の反射光量を減少させるべく、スリット
を用いる。このため、スリットの間隔は、検出しようと
する欠陥の寸法から決定される。その場合、正常面から
の反射光量が少なくできる散乱光を使用するのが望まし
い。
にスリットを設けた変形例を示す概略構成図である。図
中、16はスリットである。この変形例では、光源6の
検出エリア24あるいは25の一方を照射する部分に、
スリット16を設けている。スリット16を介して照射
される光は、感光体ドラム2の表面に凹凸の欠陥が存在
するところでは、その欠陥のへりで入射光が乱反射す
る。この乱反射信号のコントラストを光学的に増幅する
ために、正常面の反射光量を減少させるべく、スリット
を用いる。このため、スリットの間隔は、検出しようと
する欠陥の寸法から決定される。その場合、正常面から
の反射光量が少なくできる散乱光を使用するのが望まし
い。
【0050】図8は、本発明の一実施例において、光源
にNDフィルタを設けた変形例を示す概略構成図であ
る。図中、17はND(Neutral Densit
y)フィルタである。この変形例では、光源6の検出エ
リア24を照射する部分に、NDフィルタ17を設けて
いる。これにより、検出エリア24,25間の照度のア
ンバランスが改善され、検出エリア24,25の両方で
均質に欠陥を検出することができる。
にNDフィルタを設けた変形例を示す概略構成図であ
る。図中、17はND(Neutral Densit
y)フィルタである。この変形例では、光源6の検出エ
リア24を照射する部分に、NDフィルタ17を設けて
いる。これにより、検出エリア24,25間の照度のア
ンバランスが改善され、検出エリア24,25の両方で
均質に欠陥を検出することができる。
【0051】図9は、本発明の一実施例において、検出
エリアを重ねて設定した変形例を示す概略構成図であ
る。上述の各例では、検出エリアを感光体ドラム2の表
面の別の位置に設定したが、この変形例に示すように、
検出エリア24,25を同じ場所に設定することも可能
である。検出エリア24,25の画像は、光学系によっ
てCCDカメラ6の別の受光領域に結像するように構成
してもよいし、高速なタイミングで同一受光領域の画像
を複数回読み取ることによって得てもよい。あるいは、
CCDカメラ6で読み取った画像をメモリに一旦格納
し、それぞれの検出エリアの処理を行なうごとに読み出
すように構成してもよい。このように複数の検出エリア
を重ねることによって、同じ散乱角によって検出可能な
欠陥に対して、パラメータを変えた欠陥検出処理を行な
うことができる。例えば、検出感度や面積閾値等のパラ
メータを変えた検出領域を重ねて設けることにより、異
物故障の核と外輪をそれぞれの検出領域で検出すること
ができる。これによって、欠陥の種類判別をより細かく
行なうことができた。
エリアを重ねて設定した変形例を示す概略構成図であ
る。上述の各例では、検出エリアを感光体ドラム2の表
面の別の位置に設定したが、この変形例に示すように、
検出エリア24,25を同じ場所に設定することも可能
である。検出エリア24,25の画像は、光学系によっ
てCCDカメラ6の別の受光領域に結像するように構成
してもよいし、高速なタイミングで同一受光領域の画像
を複数回読み取ることによって得てもよい。あるいは、
CCDカメラ6で読み取った画像をメモリに一旦格納
し、それぞれの検出エリアの処理を行なうごとに読み出
すように構成してもよい。このように複数の検出エリア
を重ねることによって、同じ散乱角によって検出可能な
欠陥に対して、パラメータを変えた欠陥検出処理を行な
うことができる。例えば、検出感度や面積閾値等のパラ
メータを変えた検出領域を重ねて設けることにより、異
物故障の核と外輪をそれぞれの検出領域で検出すること
ができる。これによって、欠陥の種類判別をより細かく
行なうことができた。
【0052】なお、上述の実施例、変形例では、各要素
の効果を明確にするために、それぞれ単独で実施例を述
べたが、本発明ではこれに限定されず、これらの、機能
を適宜組み合わせることができる。図10は、本発明の
一実施例において、光源に複数の光学要素を設けた変形
例を示す概略構成図である。この変形例では、スリット
16およびNDフィルタ17を用いた場合の例を示して
いる。このように、いくつもの光質を作り出す光源を用
いて構成することができる。もちろん、フィルタやスリ
ットを選択的に用いることができるように構成すること
も可能である。
の効果を明確にするために、それぞれ単独で実施例を述
べたが、本発明ではこれに限定されず、これらの、機能
を適宜組み合わせることができる。図10は、本発明の
一実施例において、光源に複数の光学要素を設けた変形
例を示す概略構成図である。この変形例では、スリット
16およびNDフィルタ17を用いた場合の例を示して
いる。このように、いくつもの光質を作り出す光源を用
いて構成することができる。もちろん、フィルタやスリ
ットを選択的に用いることができるように構成すること
も可能である。
【0053】図11は、本発明の一実施例において多数
の検出エリアを設定した変形例を示す概略構成図であ
る。図中、41ないし45は検出エリアである。上述の
各例では、検出エリアが2つの場合について示したが、
本発明はこれに限らず、例えば、図11に示すように多
数の検出エリアを設定して用いることが可能である。こ
の時、図9に示したように、検出エリアが重ねて設定さ
れていてもよい。図11では、検出エリア41,42,
44,45が感光体ドラム2の回転方向に並べられ、検
出エリア43が検出エリア41と重ねて設定されてい
る。このように多数の検出エリアを設定することによっ
て、各検出エリアではそれぞれの欠陥の検出に適合した
条件で検出を行なうことができ、種々の欠陥を良好に検
出することができる。また、各検出エリアに対して、種
々の光質、光量の光を照射することも可能である。
の検出エリアを設定した変形例を示す概略構成図であ
る。図中、41ないし45は検出エリアである。上述の
各例では、検出エリアが2つの場合について示したが、
本発明はこれに限らず、例えば、図11に示すように多
数の検出エリアを設定して用いることが可能である。こ
の時、図9に示したように、検出エリアが重ねて設定さ
れていてもよい。図11では、検出エリア41,42,
44,45が感光体ドラム2の回転方向に並べられ、検
出エリア43が検出エリア41と重ねて設定されてい
る。このように多数の検出エリアを設定することによっ
て、各検出エリアではそれぞれの欠陥の検出に適合した
条件で検出を行なうことができ、種々の欠陥を良好に検
出することができる。また、各検出エリアに対して、種
々の光質、光量の光を照射することも可能である。
【0054】なお、上述の各例では光源を1つだけ用い
たが、数種類の光源部を組み合わせて用いることによ
り、さらに自由度のある検査装置を構成することもでき
る。例えば、CCDカメラ6の両側に光源を設け、それ
ぞれの検出エリアによって欠陥を検出するように構成す
ることができる。この場合、一方のみに急峻な段差が存
在するような欠陥を検出することができる。
たが、数種類の光源部を組み合わせて用いることによ
り、さらに自由度のある検査装置を構成することもでき
る。例えば、CCDカメラ6の両側に光源を設け、それ
ぞれの検出エリアによって欠陥を検出するように構成す
ることができる。この場合、一方のみに急峻な段差が存
在するような欠陥を検出することができる。
【0055】また、このような検出エリアの設定は、エ
リアセンサに設定される受光領域を変更するだけでよ
い。受光領域の大きさ、間隔等の設定は、制御部10が
保持している情報を変更するだけでよく、簡単に被検査
体および検出する欠陥に応じた検査装置を得ることがで
きる。
リアセンサに設定される受光領域を変更するだけでよ
い。受光領域の大きさ、間隔等の設定は、制御部10が
保持している情報を変更するだけでよく、簡単に被検査
体および検出する欠陥に応じた検査装置を得ることがで
きる。
【0056】上述の各例では、被検査体として感光体ド
ラムの場合について説明したが、他の被検査体について
も適用可能である。特に、円筒形の被検査体において
は、上述のように被検査体の表面の位置によって反射光
の散乱角が大きく変わるので、本発明を有効に利用でき
る。しかし、円筒形に限らず、平面上の表面を有する被
検査体についても適用可能である。
ラムの場合について説明したが、他の被検査体について
も適用可能である。特に、円筒形の被検査体において
は、上述のように被検査体の表面の位置によって反射光
の散乱角が大きく変わるので、本発明を有効に利用でき
る。しかし、円筒形に限らず、平面上の表面を有する被
検査体についても適用可能である。
【0057】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、反射特性が異なる表面欠陥を極めて簡易な構
成で、しかも的確にかつ効率よく極めて短時間に同定す
ることができる。また、特殊な装置を増設したり、同種
の装置を複数使用する必要がなく、自動生産ライン等に
簡単に設置することができ、検査対象が変更される場合
であってもその検出条件等の調節作業を簡単に行なうこ
とができるという効果がある。
によれば、反射特性が異なる表面欠陥を極めて簡易な構
成で、しかも的確にかつ効率よく極めて短時間に同定す
ることができる。また、特殊な装置を増設したり、同種
の装置を複数使用する必要がなく、自動生産ライン等に
簡単に設置することができ、検査対象が変更される場合
であってもその検出条件等の調節作業を簡単に行なうこ
とができるという効果がある。
【図1】 本発明の表面検査装置の一実施例を示す概略
構成図である。
構成図である。
【図2】 本発明の一実施例におけるCCDカメラ7に
入射する光の説明図である。
入射する光の説明図である。
【図3】 本発明の一実施例における検出エリアと受光
領域の説明図である。
領域の説明図である。
【図4】 本発明の一実施例における検出エリアの変化
の説明図である。
の説明図である。
【図5】 欠陥信号の格納状態の一例の説明図である。
【図6】 本発明の一実施例において、光源に光学フィ
ルタを設けた変形例を示す概略構成図である。
ルタを設けた変形例を示す概略構成図である。
【図7】 本発明の一実施例において、光源にスリット
を設けた変形例を示す概略構成図である。
を設けた変形例を示す概略構成図である。
【図8】 本発明の一実施例において、光源にNDフィ
ルタを設けた変形例を示す概略構成図である。
ルタを設けた変形例を示す概略構成図である。
【図9】 本発明の一実施例において、検出エリアを重
ねて設定した変形例を示す概略構成図である。
ねて設定した変形例を示す概略構成図である。
【図10】 本発明の一実施例において、光源に複数の
光学要素を設けた変形例を示す概略構成図である。
光学要素を設けた変形例を示す概略構成図である。
【図11】 本発明の一実施例において多数の検出エリ
アを設定した変形例を示す概略構成図である。
アを設定した変形例を示す概略構成図である。
1…検出エリア、2…感光体ドラム、3…回転軸、4…
感光体ドラム回転用モータ、5…パルス信号発生器、6
…光源、7…CCDカメラ、8…カメラ移動用モータ、
9…欠陥判定部、10…制御部、11…モニタ、12…
コンピュータ、13…CCD素子、14…光学系、15
…光学フィルタ、16…スリット、17…NDフィル
タ。
感光体ドラム回転用モータ、5…パルス信号発生器、6
…光源、7…CCDカメラ、8…カメラ移動用モータ、
9…欠陥判定部、10…制御部、11…モニタ、12…
コンピュータ、13…CCD素子、14…光学系、15
…光学フィルタ、16…スリット、17…NDフィル
タ。
フロントページの続き (72)発明者 小林 和行 神奈川県南足柄市竹松1600番地 富士ゼロ ックス株式会社内
Claims (9)
- 【請求項1】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
装置において、光を前記被検査体に照射する光照射手段
と、前記被検査体からの反射光を受光して電気信号に変
換する2次元光電変換手段と、該2次元光電変換手段か
らの電気信号を処理し欠陥を検出する検査手段を有し、
前記2次元光電変換手段には、前記被検査体の移動方向
に前記反射光を受光する複数の領域が設定されているこ
とを特徴とする表面検査装置。 - 【請求項2】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
装置において、光を前記被検査体に照射する光照射手段
と、前記被検査体からの反射光を受光して電気信号に変
換する2次元光電変換手段と、該2次元光電変換手段か
らの電気信号を処理し欠陥を検出する検査手段を有し、
前記2次元光電変換手段には、前記反射光を受光する複
数の領域が重ねて設定されていることを特徴とする表面
検査装置。 - 【請求項3】 前記2次元光電変換手段に設定されてい
る前記複数の領域は、前記被検査体からの反射光の検出
感度を異ならせたことを特徴とする請求項1または2に
記載の表面検査装置。 - 【請求項4】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
方法において、光を前記被検査体に照射し、前記被検査
体の表面の前記被検査体の移動方向に沿った複数の領域
からの反射光を2次元光電変換手段の複数の領域で受光
して電気信号に変換し、前記2次元光電変換手段のそれ
ぞれの領域からの電気信号を処理して欠陥を検出するこ
とを特徴とする表面検査方法。 - 【請求項5】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
方法において、光を前記被検査体に照射し、前記被検査
体の表面の前記被検査体の移動方向に沿った複数の領域
からの反射光を2次元光電変換手段の複数の領域で受光
して電気信号に変換し、前記2次元光電変換手段のそれ
ぞれの領域からの電気信号を処理して欠陥情報を作成し
て一時保持しておき、この動作を前記被検査体の移動に
従って繰り返し行ない、前記被検査体の移動に伴って前
記被検査体のある同一領域からの反射光を違うタイミン
グでかつ前記2次元光電変換手段の違う領域で受光して
得た欠陥情報を用いて欠陥を同定することを特徴とする
表面検査方法。 - 【請求項6】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
方法において、光を前記被検査体に照射し、前記被検査
体の表面の前記被検査体の移動方向に沿った複数の領域
からの反射角度の違う反射光を2次元光電変換手段の複
数の領域で受光して電気信号に変換し、前記2次元光電
変換手段のそれぞれの領域からの電気信号を処理して欠
陥を検出することを特徴とする表面検査方法。 - 【請求項7】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
方法において、前記被検査体の表面の前記被検査体の移
動方向に沿った複数の領域に光質もしくは光量を変化さ
せた光を照射し、前記被検査体の複数の領域からの反射
光を2次元光電変換手段の複数の領域で受光して電気信
号に変換し、前記2次元光電変換手段のそれぞれの領域
からの電気信号を処理して欠陥を検出することを特徴と
する表面検査方法。 - 【請求項8】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
方法において、光を前記被検査体に照射し、前記被検査
体の表面に複数重ねて設定された領域からの反射光を2
次元光電変換手段の複数重ねて設定された領域で受光し
て電気信号に変換し、前記2次元光電変換手段からの電
気信号を処理してそれぞれの領域の欠陥情報を作成し欠
陥を検出することを特徴とする表面検査方法。 - 【請求項9】 被検査体の表面の検査を行なう表面検査
方法において、光を前記被検査体に照射し、前記被検査
体の表面に複数重ねて設定された領域からの反射光を2
次元光電変換手段の複数重ねて設定された領域で受光し
て電気信号に変換し、前記2次元光電変換手段からの電
気信号をそれぞれの領域ごとに検出感度を異ならせて処
理して欠陥情報を作成し欠陥を検出することを特徴とす
る表面検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21311594A JPH0875659A (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 表面検査装置および表面検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21311594A JPH0875659A (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 表面検査装置および表面検査方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0875659A true JPH0875659A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16633836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21311594A Pending JPH0875659A (ja) | 1994-09-07 | 1994-09-07 | 表面検査装置および表面検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0875659A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007085960A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Tokyo Electron Ltd | 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置 |
US7435940B2 (en) | 2003-03-12 | 2008-10-14 | Flatfrog Laboratories Ab | System and a method of determining the position of a radiation emitting element |
US7442914B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-10-28 | Flatfrog Laboratories Ab | System and method of determining a position of a radiation emitting element |
US7465914B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-12-16 | Flatfrog Laboratories Ab | System and method of determining a position of a radiation scattering/reflecting element |
-
1994
- 1994-09-07 JP JP21311594A patent/JPH0875659A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7435940B2 (en) | 2003-03-12 | 2008-10-14 | Flatfrog Laboratories Ab | System and a method of determining the position of a radiation emitting element |
US7442914B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-10-28 | Flatfrog Laboratories Ab | System and method of determining a position of a radiation emitting element |
US7465914B2 (en) | 2003-09-12 | 2008-12-16 | Flatfrog Laboratories Ab | System and method of determining a position of a radiation scattering/reflecting element |
JP2007085960A (ja) * | 2005-09-26 | 2007-04-05 | Tokyo Electron Ltd | 光学式異物検出装置およびこれを搭載した処理液塗布装置 |
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